本实用新型公开了一种坩埚生产用转向清洗装置，该坩埚生产用转向清洗装置，包括底座，底座的顶端连接有支撑杆，支撑杆的外侧套设有压板，底座的内部设置有圆形支撑板，圆形支撑板的顶部设置有圆形杆，支撑杆顶端的外侧设置有第二固定环，第二固定环的底端...

本实用新型公开了一种碳化硅石墨坩埚用表面处理装置，包括底座和用于对坩埚进行固定的紧固部件，所述紧固部件包括设于底座上方的放置板、分别开设于放置板顶部四周的滑槽、设于滑槽内的滑块、设于滑块顶部的紧固板、与滑块相配合的双向螺杆、用于提高固定...

本实用新型公开了一种基于感应炉坩埚的除气装置，包括本体以及用于对本体进行除气的密封部件，所述密封部件包括设于本体顶部的密封盖、设于本体一侧的抽气孔、设于抽气孔一端的抽气泵、开设于抽气孔一侧的密封槽、设于抽气孔另一侧的密封板、开设于密封板...

本实用新型公开了一种基于方便坩埚冷却的坩埚架，包括底座，所述底座顶部设有电机，所述电机顶部设有转动杆，所述转动杆外壁上设有多组扇叶，所述底座顶部设有多个支撑柱，所述支撑柱的顶部设有固定环，所述固定环内设有多个用于支撑物品的支撑杆，所述转...

本实用新型公开了一种基于高温坩埚模型成型的模具清洗设备，包括底座、夹持部件、调节部件和清洗部件，所述夹持部件包括设于底座顶部上的两个固定块、设于固定块侧壁上的伸缩槽、设于固定块一侧与伸缩槽相配合的限位杆、设于限位杆一端的限位板和设于限位...

本发明公开了一种石墨-碳化硅坩埚的原料组合物，包括以下重量百分比的原料：鳞片石墨40%-50%、碳化硅20%-50%、单质硅粉4%-10%、碳化硼粉1%-5%、粘土5%-15%。其制造工艺如下：将原料混合均匀，制成合格泥料；将合格泥料装...

本发明公开了一种石墨-碳化硅升液管的原料组合物，包括以下重量百分比的原料：鳞片石墨30%-50%、碳化硅20%-50%、单质硅粉4%-10%、碳化硼粉1%-5%、结合剂10%-14%。其制造工艺如下：将原料混合均匀，制成合格泥料；将泥料...