本发明涉及一种空气分离设备，该设备包括塔系统（ＤＣ，ＣＭ）、用于至少部分地将来自至少一个增压器（Ｃ２）的压缩空气供应到该空气分离设备的装置、空气净化和空气冷却装置（Ｅ，ＬＥ）、用于将空气传输到塔系统中的塔（ＣＭ）的装置、以及用于从所述系...

一种用于切割碳锰钢工件的激光切割方法，其特征在于，使用包括至少一种具有掺杂镱的芯的石英纤维的激光束产生装置，用于产生激光束。优选，镱基纤维的波长在１．０７至１．１微米之间，优选为１．０７微米，该激光束的品质因数在０．３３至８ｍｍ．ｍｒａ...

一种用于切割不锈钢工件的激光切割方法，使用包括具有掺杂镱的芯的石英纤维的激光束产生装置，用于产生激光束。优选，由镱基纤维产生的激光束的波长在１．０７至１．０９微米之间，该激光束的品质因数在０．３３至８ｍｍ．ｍｒａｄ之间，该激光束的功率在...

用于从陶瓷粉末生产陶瓷部件的方法，其包括如下的顺序步骤：在液相中陶瓷粉末的解团聚的步骤（ａ）；向在步骤（ａ）中制备的粉末分散体结合入孔形成剂的步骤（ｂ）；从在步骤（ｂ）中制备的分散体中除去液体介质的步骤（ｃ）；从在步骤（ｃ）中得到的粉末...

一种将铜互连层沉积到用于平板显示器互连系统中的衬底上的方法，包括以下步骤：ａ）在所述衬底上涂敷光敏抗蚀剂层；ｂ）构图所述光敏抗蚀剂层，以获得包括至少一个沟槽的构图的光敏抗蚀剂层，所述沟槽被构图到所述光敏抗蚀剂层中；ｃ）在所述被构图的光敏...

本发明涉及用于ＣＭＰ后清洁的改进的碱性化学工艺，论述了在半导体器件制造过程中在晶片的化学机械平坦化（ＣＭＰ）后半导体晶片的清洁。所公开的是用于含有金属（特别是铜）互连件的晶片ＣＭＰ后清洁的碱性化学品。从晶片表面上去除残留浆料粒子，特别是...

本发明涉及一种热处理装置和使用该热处理装置的液化气体供应装置。本发明要解决的问题是利用单个能源产生多个冷源和热源，并提供一种紧凑的但高性能的热处理装置和一种使用该热处理装置的液化气体供应装置。本发明的热处理装置的其特征在于，该装置利用单...

通过将三甲硅烷基胺和氨进料至装有基材（１１２）的ＣＶＤ反应室（１１）中在基材（１１２）上生成氮化硅薄膜。在该过程中，氨气／三甲硅烷基胺气体流速比设定为至少为１０的值，和／或热ＣＶＤ反应在不高于６００℃的温度下进行。通过还将氧源气体导入Ｃ...

（问题）提供一种通过气相沉积制备氮化硅膜的方法，当使用三甲硅烷基胺作为前体时，该方法可得到具有优良膜性能的氮化硅膜，以及可在较低温度下以较高生长速率得到。（解决方案）制备氮化硅膜的方法，所述方法特征在于向包含至少一个基体的反应室中供入气...

用于沉积钌膜的前驱体，其包含溶于至少一种非可燃性溶剂，优选氟化溶剂中的四氧化钌，所述溶剂具有通式Ｃ↓［ｘ］Ｈ↓［ｙ］Ｆ↓［ｚ］Ｏ↓［ｔ］Ｎ↓［ｕ］，式中：２ｘ＋２≤ｙ＋ｚ且２≤ｘ≤１５且ｚ＞ｙ且ｔ＋ｕ≥１（ｔ＋ｕ优选等于１），ｘ、ｙ、ｚ...

一种使用含金属化合物的气体和由下面通式（Ⅰ）表示的含硅化合物的气体通过原子层沉积在基材上形成高介电常数薄膜金属硅酸盐的方法，其中在前述通式中的Ｒ↑［１］、Ｒ↑［２］和Ｒ↑［３］各自独立地选自氢原子、Ｃ↓［１－３］烷基和Ｎ（Ｒ↑［６］）↓...

本发明涉及具有低介电常数的介电层，所述层尤其在集成电路板的制造过程中（在电路的ＢＥＯＬ部分）用于分隔金属互连。根据本发明，该介电层包含ＳｉＣ和／或ＳｉＯＣ，并且由至少一种含有至少一种－Ｓｉ－Ｃ↓［ｎ］－Ｓｉ－链的前体获得，其中ｎ≥１。

提供了一种将化学溶液浴液维持在希望浓度的搅拌机系统。该搅拌机系统包括搅拌机单元（１００），该搅拌机单元构造成接收和混合至少两种化合物（例如氨和过氧化氢）并将包括选定浓度化合物的混合物的溶液输送到罐（２）内，所述罐保持选定体积的化学溶液浴...

本发明涉及在平板显示器制造工艺中在基底上制造铜层的方法和装置，其中铜无电极地沉积在基底上以形成铜互连层。使用铜溶液在基底上形成铜互连层，该铜溶液含有：作为铜源的ＣｕＳＯ↓［４］５Ｈ↓［２］Ｏ，作为络合剂的酒石酸钾钠或柠檬酸三钠，作为还原...

用于检测温度变化的创造性设备包括用于容纳液体（３）的空心导热管（１），其中所述导热管（１）包括第一端（６，７）和第二端（７，６），这两端中的一端（６，７）连接于所述传感器（４）且两端中的至少一端（７，６）封闭。所述用于检测温度变化的设备...

本发明涉及一种利用可燃气体产物的方法，该可燃气体产物在所述可燃气体产物的压缩机的密封装置中收集，包括以下步骤：ａ）向所述压缩机的密封装置中注入惰性气流，ｂ）在所述密封装置出口处回收含有所有或部分步骤ａ）的惰性气流以及所有或部分在所述压缩...

本发明涉及用于混和及供应化学溶液的方法和装置。本发明的方法包括连续混和系统。该连续混和系统（１００）监控输出并且连续地调节混和系统，以获得预定配方的至少第一溶液（１１４）。中央监控系统（１２４）连续评价溶液并且按需调节混合机（１１３）的...

本发明涉及采用双焦点透镜的厚金属工件激光切割方法。该方法用于对厚度在４至２５毫米之间的金属工件进行激光束切割，其中采用用于将激光束至少聚焦在彼此分开且均位于激光束光轴上的第一焦点（ＰＦ１）和第二焦点（ＰＦ２）处的双聚焦透镜，其特征在于，...

本发明涉及一种检测在高温气体中的化学物质的含量、特别是由金属处理炉、特别是电弧炉（ＥＡＦ）或转化器（ＢＯＦ）排出的气体中的ＣＯ和／或ＣＯ↓［２］的含量的方法。根据本发明，要分析的一部分气体被取出，其温度被降低到至少３００℃，优选降低到等...

本发明涉及用于监控冷藏车（２）的冷却系统（４５）的气密性的方法，包括如下步骤：记录冷却系统（４５）内至少第一位置（４６）处的温度的时间数列，并且确定第一位置（４６）处的温度在第一时间间隔内的任何变化，并且将此变化与第一参考值相比较，如果...