专利查询
首页
专利评估
登录
注册
塙广二专利技术
塙广二共有2项专利
保形性、应力和化学气相沉积层成分独立可变的甚低温化学气相沉积工艺制造技术
一种在工件上沉积含硅、氮、氢或氧中的任何元素的涂层的低温工艺,包括将该工件放置在反应室中并面向反应室工艺区,将含硅、氮、氢或氧中的任何元素的工艺气体注入反应室,通过向在反应室外部、形成再进入路径一部分的再进入管的一部分施加约10兆赫大小...
保形性、应力和化学气相沉积层成分独立可变的甚低温化学气相沉积工艺制造技术
一种在工件上沉积含硅、氮、氢或氧中的任何元素的涂层的低温工艺,包括将该工件放置在反应室中并面向反应室工艺区,将含硅、氮、氢或氧中的任何元素的工艺气体注入反应室,通过向在反应室外部、形成再进入路径一部分的再进入管的一部分施加约10兆赫大小...
1
科研机构数量排行前10
华为技术有限公司
110032
珠海格力电器股份有限公司
85666
中国石油化工股份有限公司
70704
浙江大学
66765
中兴通讯股份有限公司
62225
三星电子株式会社
60517
国家电网公司
59735
清华大学
47512
腾讯科技深圳有限公司
45160
华南理工大学
44280
最新更新发明人
马上消费金融股份有限公司
1403
合肥通用机械研究院有限公司
412
四川聚强创新科技有限公司
27
福建福田纺织印染科技有限公司
99
广东利电机械有限公司
20
吴熙瑞
5
许刘春
2
LG伊诺特有限公司
4128
立盟智能科技东莞有限公司
37
泉州中骏鞋服有限公司
15