普莱克斯技术有限公司专利技术

普莱克斯技术有限公司共有860项专利

  • 单程离子交换生产混合阳离子吸附剂
    本发明涉及生产经过混合阳离子交换的吸附剂的改进方法,它涉及单程离子交换。将原料(未交换的)沸石用所需要的被弱吸附的和被强吸附的阳离子的组合的基本上化学计算量的和过量的溶液处理,使得所得到的沸石具有所需的混合阳离子组成,同时消耗较少量的被...
  • 本发明涉及一种通过低温精馏产生加压产物物质流的方法和设备。在所述低温精馏过程中使用的主热交换器对包括富氧或富氮液体的泵送产物物质流进行加温,并由此产生加压的产物物质流。所述主热交换器的层被设计,以使得在所述泵送产物物质流的温度超过这种物...
  • 本发明公开了一种安装在段或块中的高容量结构填料,其中,在段中底部区的填料成型不同于充填区中的结构填料,这样,可使底部区中填料板间的气流阻力低于充填区中板间的气流阻力。
  • 一个低温空气分离过程,既产生中间产物,又产生输出产品。中间产物在输出产品之前产生,并且输出产品测量中的变化与较早的中间产物测量中的变化相关联。该过程相关于若干独立可变的现象。设备包括用于提供中间和输出产品以及独立可变现象的测量值的分析器...
  • 本发明提供了通过用分散的卤化物盐掺杂活性炭形成的催化吸附剂。此处提供的该催化吸附剂在室温下是稳定且无害的,然后在升高温度下会化学吸附废气流中典型的那些。本发明还提供了制备该掺杂的活性炭吸附剂的方法。
  • 一种用于控制蒸馏塔的方法,其中在塔(2)的顶部部分内感测到的温度被放大且利用在模型预测控制器(4)内,使得当温度增加超过阈值温度时控制更积极。另外,在蒸馏塔(2)内,或实际上在其中两个或更多操纵变量控制了两个或更多共同的被控变量的任何其...
  • 一种用于操作低温精馏装置的方法,此法不需增设储存或暂存容器,而是根据进料流量的改变,改变塔釜和/或塔顶冷凝器的液位设定点,以控制装置的运转,避免产物纯度偏离额定值。
  • 一种空气沸腾低温精馏系统,其中附加的进料空气气流被用来使加压的液态氧汽化,并通过涡轮膨胀,在进入塔系统之前使其冷却。
  • 一种大量生产增压氮用的低温精馏系统,其使用一个附加的蒸馏塔,该塔的工作压力介乎于高压塔和低压塔的压力之间,由此通过改善冷冻生产的灵活性而使氮的回收最优化。
  • 本发明涉及用于制备低纯氧气的使用双塔和辅助的副塔的低温精馏系统,其中副塔通过要冷凝的压缩原料空气驱动,从而可使系统在较低压头下运行,因而降低了操作费用。
  • 一个氦低温生产系统,其中内含二氧化碳的原料在包括上流较高温度和较高压力的塔或分馏柱的双温系统中处理,因此,无需一个单独的非低温二氧化碳除去步骤。
  • 本发明涉及双涡轮增压机压缩机装置,该配置在使用高压换热器的液化操作中是有利的。
  • 本发明涉及空气分离装置的氮液化器改造,其具体公开了用于提高液体生产的方法,所述方法涉及用氮液化器改造现有空气分离装置。所述氮液化器液化从高压塔中取出的富氮蒸气流并将富氮液流返回到高压塔中。这增加了高压塔中的液态氮回流并由此增加了含有液态...
  • 本发明涉及试剂分配装置及输送方法,且具体来说涉及一种气相或液相试剂分配装置,其可用于分配气相或液相试剂,例如用于在半导体材料和器件的制造中沉积材料的前驱体。本发明减少了支持不同应用所需的容器设计数目。依据本发明,不带导管的标准双端口容器...
  • 本发明涉及试剂分配装置及输送方法,且具体来说涉及一种气相或液相试剂分配装置,其可用于分配气相或液相试剂,例如用于在半导体材料和器件的制造中沉积材料的前驱体。本发明减少了支持不同应用所需的容器设计数目。依据本发明,不带导管的标准双端口容器...
  • 本发明一般地涉及发酵系统,更具体地,涉及乙醇发酵系统,在其中,利用由超声在线汽提设备所提供的惰性汽提气微泡来促进汽提发酵过程所产生的二氧化碳、硫化合物、乙醇和其它挥发性化合物,而且利用惰性汽提气的潜热来辅助工艺反应的温度控制。本申请提供...
  • 一种采用结合有液态空气源的产品锅炉的深冷空气分离系统,借以使液态氧有效地汽化产生气态氧,同时使所说的深冷空气分离设备在稳态下运行而不招致明显的致冷作用损失。
  • 一种生产较高压力的低温精馏系统,其中双塔系统中的较低压塔在增压下操作,从较低压塔的上部取出的含氮流体被用于产生设备冷冻及用于再生物料的吸附净化床,因而可避免任何物料膨胀的需要。
  • 本发明涉及有机金属化合物、方法及使用方法。本发明涉及具有式(L1)M(L2)y的有机金属化合物,其中M是金属或准金属,L1是取代或未取代的阴离子6电子给体配体,L2是相同或不同的,并且是(i)取代或未取代的阴离子2电子给体配体,(ii)...
  • 本发明涉及一种多安瓿输送系统,其中集成的蒸气或液体相反应 剂分配设备具有多个容器和多个载体或惰性气体供应/蒸气或液体相 反应剂输送歧管,用来连续分配蒸气或液体相反应剂,例如用于在半 导体材料和器件制造过程中材料沉积的前体。