本实用新型公开了一种激光切割散热承台，包括承台本体，所述承台本体的上侧壁开设有两个对称设置的安装槽，且安装槽内设置有真空吸盘，所述承台本体的下侧壁固定连接有多个对称设置的支撑柱，且承台本体的下侧壁插设有U形管。该种激光切割散热承台，能够...

本实用新型公开了适用于MPCVD生产金刚石的集中式真空抽气系统，包括底板，所述底板上固定有安装框，所述安装框上通过缓震降噪机构连接有大功率真空泵组，所述底板上安装有多个待抽真空设备，各个所述待抽真空设备上安装有安装管，各个所述安装管上连...

本实用新型提供了一种用于金刚石研磨装置的防尘装置，涉及金刚石研磨设备领域，包括研磨盘和设在研磨盘外侧用于装夹金刚石的装夹装置，还包括防尘罩，所述防尘罩为板状的防尘罩，防尘罩设在研磨盘的上方，防尘罩的外缘设有向一侧延伸的弯折部，防尘罩上设...

本发明涉及循环水泵PLC控制领域，具体的说是一种水管网恒压PLC控制方法，包括以下步骤：步骤一：将所述水泵机组安装于水管网上，所述水管网包括进水管路和出水管路，所述水泵机组包括两个变频水泵和两个常规水泵，且两个变频水泵和两个常规水泵相互...

本发明公开了基于微波相控发射的MPCVD装置及其温度均匀性改进方法，所述方法包括：通过微波在一腔体内激发等离子体球，所述微波由第一波源发射，所述腔体内可提供真空环境；获取所述等离子体球的热图像，根据所述等离子体球的热图像，确定目标区域；...

本发明公开了一种单晶金刚石用夹具，包括有夹具主体、电动控制阀、感应装置和控制装置，夹具主体上具有吸合面，夹具主体在相对吸合面的表面上开设有贯穿吸合面的真空吸附孔，真空吸附孔连通有能够为其提供负压吸附力的真空管道，以使吸合面能够吸附单晶金...

本实用新型涉及一种微波等离子体设备自动控压装置，包括连接在真空泵与微波等离子体设备的真空腔之间的微调阀，还包括与微调阀相连以调节微调阀开合度的动作模块、与动作模块相连以控制动作模块动作的控制模块、与控制模块相连用以输入操作指令的操作模块...

本实用新型公开了一种快速测量微型立方体尺寸的设备，包括第一激光传感器、第二激光传感器、第三激光传感器、第一基准板、第二基准板以及第三基准板，第一基准板沿X轴方向设置，第二基准板沿Y轴方向设置，第三基准板沿Z轴方向设置，第一激光传感器面向...

本申请公开了单晶金刚石外延生长方法、单晶金刚石及其片状籽晶。其中，单晶金刚石同质外延生长方法，包括以下步骤：S1.提供一单晶金刚石的片状籽晶，片状籽晶具有进行生长的顶面、与顶面相对的底面以及位于顶面与底面之间的侧面，侧面从底面到顶面向内...

本发明公开了一种单晶金刚石激光打标生长方法，其包括以下步骤：(S1)提供单晶金刚石种晶；(S2)提供激光标记设备，利用激光标记设备在单晶金刚石种晶表面进行标记形成缺陷；(S3)清除进行标记过程中产生的杂质；(S4)将标记后的单晶金刚石种...

本发明公开了一种多色单晶金刚石生长方法，其包括以下步骤：(S1)提供单晶金刚石种晶；(S2)清除种晶存在的杂质；(S3)将种晶放入可控的生长环境，并以可控制的方式将选自氮元素或硼元素的化学掺杂剂元素引入到种晶的生长环境中以使得种晶生长为...

本实用新型公开了一种金刚石装夹驱动装置，包括装夹机构、调节机构和驱动机构，装夹机构和调节机构依次设置在驱动机构前端；驱动机构包括径向移动机构和竖向移动机构，竖向移动机构包括与径向移动机构相连接的竖向导轨和限位机构；调节机构与竖向导轨活动...

本实用新型公开了一种带冷却装置的金刚石装夹设备，包括装夹装置，用于装夹金刚石；驱动装置，用于带动装夹装置移动；调节装置，用于调节装夹装置与研磨台之间的角度；其中，装夹装置上设有冷却装置。其优点在于，本实用新型的金刚石装夹设备在装夹装置上...

本实用新型公开了一种多工位金刚石研磨设备，包括金刚石装夹设备和装有研磨盘的工作台，其中，金刚石装夹设备包括，装夹装置，用于装夹金刚石；驱动装置，用于带动装夹装置移动；调节装置，用于调节装夹装置与研磨台之间的角度；装夹装置上设有冷却装置；...

本发明公开了一种带冷却装置的金刚石装夹设备，包括装夹装置，用于装夹金刚石；驱动装置，用于带动装夹装置移动；调节装置，用于调节装夹装置与研磨台之间的角度；其中，装夹装置上设有冷却装置。其优点在于，本发明的金刚石装夹设备在装夹装置上设置冷却...

本发明公开了一种多工位金刚石研磨设备，包括金刚石装夹设备和装有研磨盘的工作台，其中，金刚石装夹设备包括，装夹装置，用于装夹金刚石；驱动装置，用于带动装夹装置移动；调节装置，用于调节装夹装置与研磨台之间的角度；装夹装置上设有冷却装置；工作...

本实用新型公开了一种单晶金刚石制备装置，包括用于进行等离子体气相沉积的反应腔以及与反应腔连通的第一进气通道和第二进气通道，第二进气通道的路径上设有掺杂装置，掺杂装置用于盛放水溶液，气体通过第二进气通道进入反应腔之前，先经过掺杂装置，以在...

本实用新型公开了一种等离子体气相沉积装置包括用于气相沉积的反应腔、与反应腔连通的第一抽气通道、包围反应腔的隔离腔以及与隔离腔连通的第二抽气通道，通过第一抽气通道和第二抽气通道可向外抽气，从而调节反应腔与隔离腔的真空度。

本实用新型公开了一种化学气相沉积炉，包括炉体以及气氛管理单元，气氛管理单元用于向炉体内通入或抽出气体，气氛管理单元包括多个气流处理装置，气流处理装置具有第一端、第二端以及设于第一端和第二端之间的至少一多孔薄膜，第一端与外部连通，第二端处...

本发明公开了一种单晶金刚石制备装置以及方法。该单晶金刚石制备装置，包括用于进行等离子体气相沉积的反应腔以及与反应腔连通的第一进气通道和第二进气通道，第二进气通道的路径上设有掺杂装置，掺杂装置用于盛放水溶液，气体通过第二进气通道进入反应腔...