本发明涉及在权利要求１前序部分描述的那类用于局部治疗由某些过程引起的可见的光损伤性皮肤的膏霜，这些过程包括自由基的影响，并且此膏霜也会影响细胞的能量产出，其中膏霜的活性成分由稳定的膏霜基质承载。此膏霜的特征在于含０．５－７％重量的ｄ，１...