理想能源设备有限公司专利技术

理想能源设备有限公司共有17项专利

  • 本发明提供一种等离子体增强化学气相沉积方法,包括:提供等离子体增强化学气相沉积设备,包括腔室,所述腔室内放置有待处理的基板;提供含氢气体和含硅气体;第一解离源用于对所述含氢气体进行解离获得氢活性基;第二解离源用于对所述含硅气体进行解离获...
  • 一种用于搬运大面积基板的搬运机械手及搬运装置,所述搬运机械手包括:承载臂和位于所述承载臂表面的防热外壳,且所述防热外壳的厚度范围为:0.001mm~0.3mm。优选地,所述承载臂的表面上或者所述防热外壳与所述承载臂接触的表面上设置有1个...
  • 一种用于搬运大面积基板的基板传输装置、基板传输方法及基板传输系统,所述基板传输装置设置于真空传输腔室内,包括:转台,设置于滑轨的下方,用于旋转所述滑轨;滑轨;搬运机械手,位于所述滑轨上;位于所述滑轨和所述真空传输腔室底面之间的支撑结构,...
  • 本发明提供了一种化学气相沉积装置,包括反应腔、泵管以及真空泵,所述真空泵通过所述泵管从所述反应腔抽取气体,所述泵管内设置有辐射加热装置,用于对所述反应腔抽出的气体加热。本发明在泵管内设置的辐射加热装置,对流经的反应气体进行辐射加热,具有...
  • 本发明提供了一种化学气相沉积装置,包括:反应腔;设置于反应腔内的加热基座,用于加热待加工工件;传输结构,设置于所述加热基座上方用于传输待加工工件;所述加热基座在加热待加工工件时产生热辐射,所述传输结构使得投射于其上的热辐射产生透射或反射...
  • 本发明提供了一种汽化装置以及汽化方法,所述汽化装置包括加热腔体,所述加热腔体的内表面具有微结构,所述微结构用于增大待汽化液体的受热面积,并促进汽化核的产生。本发明所述的汽化装置在加热液体时,具有较低的能量损耗,较高的热传递效率以及较强的...
  • 本发明提供了一种预处理装置及其预处理方法,所述预处理装置包括:处理腔,设置于所述处理腔内用于承载待加热工件的基座;与所述待加热工件相对设置并位于所述待加热工件上方的第一加热单元;设置于基座周围的补偿加热单元,用于补偿加热所述待加热工件的...
  • 本发明提供了一种等离子加工装置,包括:真空腔室;等离子反应腔,位于所述真空腔室内,用于进行等离子加工工艺;射频功率源,用于向所述等离子反应腔提供射频信号;射频功率传输单元,用于将所述射频功率源提供的射频信号传输至所述真空腔室的等离子反应...
  • 本实用新型公开了一种真空处理系统,用于生产薄膜太阳能电池,其包含传输腔,以及设置在所述传输腔周围且与该传输腔连接的加载卸载腔和若干处理腔;其中,所述的传输腔的侧壁上设置有若干维护入口。所述维护入口设置在加载卸载腔与处理腔之间的所述侧壁上...
  • 一种载重调整定位装置,包含底板、固定设置在所述底板上的至少一组推移结构,以及放置在所述底板上的移动承载装置;所述移动承载装置能够在所述推移结构的推动下,在所述底板上水平移动。本实用新型的载重调整定位装置在装配大型设备时,待装配设备被固定...
  • 本实用新型涉及一种真空处理装置,其包含真空腔体、铰链机构和门体;所述铰链机构包含铰链臂、第一转动结构和第二转动结构;所述铰链臂的一端通过所述第一转动结构与所述真空腔体形成可转动连接;所述铰链臂的另一端通过所述第二转动结构与所述门体形成可...
  • 本实用新型公开了一种管道连接器,其用于密封连接化学气相沉积设备中的反应腔和真空管道,所述管道连接器包含:与反应腔的排气口固定连接的第一法兰;与真空管道的一端连接的第二法兰;以及限定所述第一法兰和第二法兰之间距离的连接部件;所述管道连接器...
  • 本发明提供一种等离子体增强化学气相沉积装置,包括:腔体,包括位于其顶部的进气口;电源,位于腔体外;上电极,位于腔体内进气口下方;下电极,位于腔体底部,与所述上电极相对设置;器件基板,位于所述下电极上,所述器件基板的表面用于沉积太阳能电池...
  • 一种薄膜太阳能电池的制造方法,包括:提供一薄膜太阳能电池沉积设备,所述薄膜太阳能电池沉积设备包括反应腔;提供基板,所述基板设置在所述反应腔中;向所述反应腔内通入流量比为第一比例的硅烷和氢气,将所述反应腔内的气体控制在第一气压下,在基板上...
  • 一种化学气相沉积装置的喷头组件,所述化学气相沉积装置用于沉积氧化锌薄膜,所述喷头组件包括:第一表面;与所述第一表面对应的第二表面;穿过所述第一表面的进气通道;与所述进气通道另一端相连的气体扩散区;与气体扩散区另一端相连的气体混合区;与所...
  • 本发明提供了LED芯片工艺集成系统及其处理方法,所述工艺集成系统包括:装载卸载装置,用于装载或卸载待处理的或处理完毕的LED基板;真空传输装置,用于提供真空传输环境以传输所述待处理的或处理完毕的LED基板;至少一个外延层沉积腔室,位于所...
  • 一种等离子体增强化学气相沉积装置,包括:腔体,包括位于其顶部的进气口;电源,位于腔体外用于提供射频信号;气体扩散板组件,位于腔体内进气口下方且接地;上电极,位于腔体内气体扩散板组件的下方,上电极上设置有射频信号输入点,电源通过射频信号输...
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