本发明公开了一种淋釉器，包括淋釉板和向所述淋釉板输送釉浆的上釉机构；其中，所述上釉机构包括与所述淋釉板对应设置的布釉辊和用于调节上釉量的计量辊和挡釉板，所述布釉辊和计量辊的两侧设有所述挡釉板，所述计量辊、布釉辊和挡釉板之间形成用于缓存釉...

本实用新型公开了一种淋釉器，包括淋釉机构和向所述淋釉机构供釉浆的蓄釉槽，所述蓄釉槽内设有用于防止釉浆凝结的搅动装置；其中，所述淋釉机构包括设有用于导出釉浆的淋釉板和与所述淋釉板对应设置的载釉滚筒，所述蓄釉槽内的釉浆通过粘附转动的载釉滚筒...

一种淋釉装置，其特征在于包括入口称重台、设置在入口称重台上的入口称重传感器、设置在入口称重传感器上的入口传输装置支架、设置在入口传输装置支架上的入口皮带传输装置、出口称重台、设置在出口称重台上的出口称重传感器、设置在出口称重传感器上的动...

本发明公开了一种淋釉器，包括淋釉机构和向所述淋釉机构供釉浆的蓄釉槽，所述蓄釉槽内设有用于防止釉浆凝结的搅动装置；其中，所述淋釉机构包括设有用于导出釉浆的淋釉板和与所述淋釉板对应设置的载釉滚筒，所述蓄釉槽内的釉浆通过粘附转动的载釉滚筒，移...

一种淋釉方法及装置，其特征在于包括入口称重台、设置在入口称重台上的入口称重传感器、设置在入口称重传感器上的入口传输装置支架、设置在入口传输装置支架上的入口皮带传输装置、出口称重台、设置在出口称重台上的出口称重传感器、设置在出口称重传感器...

一种布釉装置，其特征在于包括釉池、设置在釉池内其中一边的筒状网、将釉导入筒状网内的釉导入容器、设置在釉池内另一边的由动力带动的载釉滚筒、靠在载釉滚筒外侧的向下倾斜的导釉板。本实用新型与已有技术相比，具有不会堵塞釉嘴、施釉均匀、能有效消除...

一种布釉方法及装置，其特征在于将釉导入釉池内的筒状网内，使上层的带有气泡的釉透过筒状网流进釉池内，然后，釉池内的转动着的载釉滚筒将釉导入向下倾斜的导釉板，由导釉板的下端边缘将瀑布状的釉导入下面经过的瓷砖面上。本发明与已有技术相比，具有不...