【技术实现步骤摘要】
一种布釉方法及装置
:本专利技术涉及陶瓷生产技术。
技术介绍
现有的布釉技术,包括钟罩式布釉技术和直线式布釉技术,钟罩式布釉技术容易施釉不均匀,直线式布釉技术容易堵塞釉嘴,而且,两种技术都存在不能消除釉里面的气泡。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服上述不足,提供了一种不会堵塞釉嘴、施釉均匀、能有效消除气泡的布釉方法及装置。本专利技术的布釉装置是这样实现的,包括釉池、设置在釉池内其中一边的筒状网、将釉导入筒状网内的釉导入容器、设置在釉池内另一边的由动力带动的载釉滚筒、靠在载釉滚筒外侧的向下倾斜的导釉板。这里,为了提升消泡效果,在靠近筒状网的釉池上设置有超声波振动器。通过震动,使釉里面的气泡快速上浮。为了保证导出的瀑布状釉形态稳定,横向厚度均匀,导釉板的下端是向下弯折的弧形且导釉板表面光滑平整。为了降低载釉滚筒将釉导入向下倾斜的导釉板时的釉的流速,以减少釉流动时的扰动,在导釉板的上端设置有弧形凸起的缓冲提。为了控制釉池的液位,同时进一步消除釉中的气泡,在釉进入载釉滚筒前的釉池内设置有由数块分隔板构成的上下弯折的蛇形通道,蛇形通道的侧面的釉池上设置有溢流口。釉经过蛇形通道的上下流动后,釉中的气泡上浮并随溢流口流走的釉流出釉池,通过蛇行通道后的釉进入载釉滚筒处的釉池内。溢流口的作用是方便控制载釉滚筒的导釉量。为了稳定控制釉流入筒状网内的流量,减少流入筒状网时釉所含的气泡,釉导入容器包括底端带有出口及上端带有溢流口的容腔、设置在容腔内的溢流小容腔,溢流小容腔的底端设置有直穿出容腔外的釉导入口,溢流小容腔的顶端是水平边缘。本专利技术的布釉方法是这样实现的,将釉导入釉 ...
【技术保护点】
一种布釉装置,其特征在于包括釉池、设置在釉池内其中一边的筒状网、将釉导入筒状网内的釉导入容器、设置在釉池内另一边的由动力带动的载釉滚筒、靠在载釉滚筒外侧的向下倾斜的导釉板。
【技术特征摘要】
1.一种布釉装置,其特征在于包括釉池、设置在釉池内其中一边的竖向设置的筒状网、将釉导入筒状网内的釉导入容器、设置在釉池内另一边的由动力带动的载釉滚筒、靠在载釉滚筒外侧的向下倾斜的导釉板。2.根据权利要求1所述的布釉装置,其特征在于在靠近筒状网的釉池上设置有超声波振动器。3.根据权利要求2所述的布釉装置,其特征在于在釉进入载釉滚筒前的釉池内设置有由数块分隔板构成的上下弯折的蛇形通道,蛇形通道的侧面的釉池上设置有溢流口。4.根据权利要求1或2或3所述的布釉装置,其特征在于导釉板的下端是向下弯折的弧形且导釉板表面光滑平整。5.根据权利要求4所述的布釉装置,其特征在于在导釉板的上端设置有弧形凸起的缓冲提。6.根据权利要求1或2或3或5所述的布釉装置,其特征在于釉导入容器包括底端带有出口及上端带有溢流口的容腔、设置在容腔内的溢流小容腔,溢流小容腔的底端设置有直穿出容腔外的釉导入口,溢流小容腔的顶端是水平边缘。7.根据权利要求1或2或3或5所述的布釉装置,其特征在于在导釉板的下面设置有釉厚度检测...
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