本公开涉及研磨设备，包括基底、可通过驱动装置沿基底和/或随基底移动的研磨表面、邻近基底安装的一个或更多个处理腔室、用于感测一个或更多个过程变量的感测装置以及可操作地连接至驱动装置、感测装置和处理腔室的控制装置，处理腔室或每个处理腔室具有...

一种研磨设备(1)，包括滚筒(2)、围绕滚筒(2)的圆周表面的至少一部分的可移动研磨表面(4)以及围绕滚筒(2)安装的多个处理腔室(5)。每个处理腔室(5)具有上游面(53)和下游面(54)，上游面(53)和下游面(54)界定面向滚筒(...

一种用于研磨装置的腔室，其包括入口、出口、主体和插入件，主体包括位于入口和出口之间的内表面上的凹部，由此，使用时，插入件被可移除地保持在凹部中。该装置还包括壳体和致动部件，由快速释放销将腔室可枢转地固定在壳体的一端，其中，致动部件被连接...

公开了用于研磨物品表面的装置和方法。所述装置包括：室；限定所述室的一壁的研磨面；以及使研磨面相对于室移动的驱动装置。在使用过程中，前述相对移动促进物品在室内环行，其中，室的形状被形成为消除或者最小化室内的物品的流动停滞区域。另外或者可选...

将稻谷或其他类似的小物体在一种包括一具有环形碾磨带（３）的、旋转的竖直鼓（２）的设备中碾磨。腔室（１０）围绕鼓（２）间隔地安置以便此带（３）相对与其相隔一个小间隙（１５）的腔室（１０）来说相当于一底板。物体被竖直向下输送，同时被此带碾磨...