本发明涉及一种用于制备涂覆有中间层和金刚石层的基材的方法，包括以下步骤：(a)用蚀刻剂使基材的表面粗糙化，(b)在基材的粗糙化表面上涂覆中间层，(c)使中间层的表面成核，以及(d)通过化学气相沉积(CVD)工艺在中间层的成核的表面上涂覆...

本发明涉及一种通过化学气相沉积将掺杂的金刚石层施用到基板(2、2a)的装置(1)及方法。该装置(1)包括：用于容纳基板(2、2a)的沉积室；中空体形式的气体活化元件(7)，其具有用于工艺气体、特别是氢气的流动通道(7b)；从所述流动通道...