本发明涉及超精密抛光技术领域，具体公开了一种酸性无磨粒型碳化硅抛光液及其制备方法及应用，包括以下质量百分比的各组分：液体分散介质85‑95％、氧化剂1‑15％、有机络合物0‑3％、pH调节剂0.01‑5％、pH缓冲体系0‑1％；所述抛光...