本技术公开了一种石墨匣钵，包括底板和设于底板上的侧板，所述侧板围成容纳腔，所述容纳腔中设有加强板，所述侧板顶端设有侧排口，所述底板底面设有限位件，所述限位件用于堆叠石墨匣钵时伸入容纳腔中。本技术中的石墨匣钵具有较高的整体强度，在使用过程...

本技术公开了一种砂磨装置，包括机架和磨料组件，所述磨料组件支撑于所述机架上，包括砂磨套筒、动力源、驱动轴、多个棒销盘，所述砂磨套筒在工作时形成有密闭的研磨空间，所述驱动轴延伸至所述砂磨套筒内，所述动力源连接并驱动所述驱动轴在砂磨套筒内转...

本技术公开了一种晶圆传送装置及沉积装置，其中传送装置包括升降装置、横移装置、装载装置、控制器、冷却转盘，晶圆机械臂装置具有机械臂，且机械臂受控地由装载装置抓取晶圆并翻转后转移至转盘主体的限定装置，机械臂侧部沿晶圆的延展方向设置有第一主轴...

本技术公开了一种ALD设备的气路管道及易维护气路管道的ALD设备，其中气路管道包括腔体内进气管，腔体内进气管还连接有用于连接到匀流背板的管路接口，匀流背板设置有第一接管，管路接口包括的第一套管，第一套管或第一接管其中任一与相邻的匀流背板...

本发明公开了一种回转炉，包括机架、筒体和驱动机构，所述筒体支撑于所述机架，包括金属管、以及套设于所述金属管内的炉芯管，所述炉芯管包括放置烧结材料的腔体，且该炉芯管由不与所述烧结材料发生反应的材料制成；所述驱动机构安装于所述机架上，用于连...

本技术公开了一种掺杂混合装置，包括机架、混料桶、驱动组件和调节组件，所述混料桶固定于所述机架上，所述混料桶的底部设置有可转动的传动轴，所述传动轴上设置有用于搅拌混合原料的搅拌刀；所述驱动组件固定于所述机架，包括驱动电机、驱动轮、从动轮和...

本发明公开了一种PECVD下电极，包括极板、陶瓷桶、加热管套筒和密封结构，陶瓷桶连接于所述极板；加热管套筒连接于极板并穿设于陶瓷桶内，其一端露出于陶瓷桶；密封结构连接于加热管套筒和陶瓷桶，包括底部块、第一间隔块和第一密封圈，底部块同时套...

本发明公开了一种ALD设备，包括反应壳体、控制器和多条结构和尺寸相同的供气管路，反应壳体内部形成有反应腔室，反应腔室的顶部设置有匀流板；供气管路分为多条主管路和至少一备用管路，主管路的数量与反应工艺所需前驱体数量相同，每条供气管路内均设...

本发明公开了一种流化床反应器的底部机构，包括底部法兰、贯通的进料组件、贯通的压帽、搅拌桨和驱动组件，底部法兰包括贯通的主体部，以及凸伸于主体部顶面的柱形安装部，主体部的顶面凹设有弧形凹槽，安装部凸伸于弧形凹槽的中间，安装部的侧壁上均布有...

本发明公开了一种高温粉体切断阀，包括阀体组件、阀芯、连接法兰和动力源，阀体组件包括弧形的第一阀体，以及连通第一阀体的第二阀体，第一阀体包括进料口和出料口，第二阀体为直管段阀体并与出料口同轴；阀芯设置于第一阀体内，其最大直径小于第一阀体的...

本发明公开了一种适应于多尺寸腔体的翻转系统，属于工业制造技术领域，包括腔体吊装小车框架、第一调整块、第二调整块、一对底部支撑以及限位组件；所述腔体吊装小车框架上分别固定安装有第一支架和第二支架；第一调整块可拆卸式的固定安装在第一支架上；...

本发明公开了一种PECVD设备，包括壳体、气源、上极板、下极板和掩膜板，所述壳体内部形成有反应腔，所述气源连接至壳体并向所述反应腔输送工艺气体，所述上极板设置于所述反应腔内，用于连接射频源，所述下极板设置于所述反应腔内，用于接地并支撑待...

本发明公开了一种多片式镀膜装置，包括主体框架、盖板组件、进气组件、排气组件和卡塞盒组件，该镀膜装置内部下端板和底板之间的间距、所述上端板与盖板组件底部表面之间的距离、所述卡塞盒侧板与侧板之间的距离、最靠近上端板一侧的鳍板与上端板之间的距...

本发明公开了一种多片式薄膜沉积腔体自适应密封传输结构及装置，其中传输结构，包括：框架以及设置于框架上的提升装置、传输装置、反应腔装置、传感器装置，其中，提升装置，包括升降提升支架装置、提升轴装置、升降提升轴；传输装置，包括底板，设置于底...

本发明公开了一种柔性显示面板、显示装置及制备方法，柔性显示面板包括依次层叠的基板、发光功能层和封装膜层，封装膜层于曲面显示区内间隔设置有多个凸起结构。本发明的柔性显示面板、显示装置及制备方法，通过在封装膜层的曲面显示区上制备凸起结构的方...

本发明公开了一种MFC标定回路，所述MFC用于对其下游设备工艺气体进行流量控制，包括标定罐、第一阀门、第二阀门、第三阀门、真空系统、温度传感器、压力传感器和控制系统，标定罐用于连接至MFC的下游端，第一阀门设置于MFC和下游设备之间，第...

本技术公开了一种均匀输送的锰酸锂材料送料装置，涉及送料装置技术领域，包括送料筒，所述送料筒的顶部设置有顶盖，所述送料筒的内部设置有输送破碎单元，所述输送破碎单元的内部连接有调节单元，该装置通过驱动电机和连接管及固定框与连接杆和破碎杆及破...

本发明公开了一种APCVD中的喷头，包括部件主体、进气管和多个环形的喷气腔，所述部件主体包括一输出面；所述喷气腔设置于所述部件主体并分别延伸至所述输出面，所述喷气腔直径不同且同心设置；所述进气管开设于所述部件主体上，并连通所有所述喷气腔...

本发明公开了一种PECVD抑制等离子体鞘层的传输结构，包括金属传输管道和鞘层抑制器，所述鞘层抑制器为绝缘体，其固定于所述传输管道外，并用于抑制穿过所述传输管道的磁通量。本发明的鞘层抑制器通过减少进入传输管道内部的磁通量，令离子向管道内壁...

本发明公开了一种双层置换室，包括壳体、多个导辊、两套换气机构、第一密封机构和第二密封机构，所述壳体内设置有上下布置且相互独立的第一置换室和第二置换室，两者连通同一窑炉，每个置换室分别设置有独立的换气机构和密封机构，导辊沿物料的传输方向分...