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IDC公司专利技术
IDC公司共有102项专利
用于操纵显示器中的颜色的方法和装置制造方法及图纸
本发明提供一种用于操纵显示器中的颜色的方法和装置,其包含显示器,其中像素中的一者或一者以上包含一个或一个以上经配置以输出彩色光的显示元件(例如干涉式调制器)和一个或一个以上经配置以输出白光的显示元件。其它实施例包含制造此类显示器的方法。...
测试多个干涉式调制器的方法、系统和设备及制造该系统的方法技术方案
本发明揭示对显示器进行光照的各种系统和方法。在一个实施例中,例如,一种方法包含向干涉式调制器施加电压波形,向所述干涉式调制器施加电压脉冲,检测光从所述干涉式调制器反射的反射率,和基于所述检测光的反射率来确定所述干涉式调制器的一个或一个以...
一种具有光吸收掩模的装置及其加工方法制造方法及图纸
本发明提供了一种用于加工光学装置的方法,该光学装置包括在透明衬底上形成的至少一个光学元件。该方法包括确定将吸收光的所述衬底的一个区域;和在加工所述至少一个光学元件之前,在所确定的区域上加工一个光吸收掩模。本发明也提供了一种光学装置,其包...
具有一带有集成滤色器的空间光调制器阵列的显示装置制造方法及图纸
通过有选择地将具有不同透射比频谱的滤色器置于一其中每个调制器元件均具有相同反射比频谱的调制器元件阵列上,形成每一调制器元件及其相应的滤色器的一合成反射比频谱。在一实施例中,一阵列中的调制器元件是通过相同的工艺制成,以使每个调制器元件均具...
用结构加强的背板保护微机电系统阵列的电子装置及制法制造方法及图纸
本发明揭示一种利用干涉式调制的电子装置及所述装置的一种封装。经封装的装置包括一衬底101、一形成于衬底101上的干涉式调制显示阵列111、及一背板130。所述背板置于显示阵列111上,且在背板与显示阵列之间具有一间隙124。所述装置进一...
用于在干涉式调制器显示器中产生白色的方法及装置制造方法及图纸
本发明的各实施例涉及用于在由干涉式调制器制成的显示器中产生白色的方法及系统,且更具体而言,涉及通过使用两种波长的反射光来产生白色。在一个实施例中,一种显示装置显示白色。通过从两种多个干涉式调制器类型反射光来产生白色。第一调制器类型反射处...
用于感测干涉式调制器的激励电压及释放电压的系统及方法技术方案
本发明提供一种用于感测一微机电装置的激励电压及/或释放电压的方法,其包括向所述装置施加一变化电压并感测其状态和不同电压电平。在一实施例中,所述装置是一包含一适用于一显示器的干涉式调制器阵列的系统的一部分。所述方法可用于补偿显示像素特性的...
操控调制器中热响应的装置和方法制造方法及图纸
通过改变在两个表面之间的间距使其中的一个表面被安置在另一个表面前面,一种干涉式调制器在两个表面反射出的光波之间选择性地产生相长和/或相消干涉。可通过使一个或两个所述表面变形来实现所期望的间距。与一个特定表面相联系的加热元件通过加热形成一...
用于密封一衬底的方法及系统技术方案
本文描述一种将一微机电系统(MEMS)装置76与环境条件隔绝的方法,其中所述MEMS装置76形成于一衬底72上,且一基本上呈气密性的密封件78作为所述MEMS装置制造工艺的一部分形成。所述方法包括使用诸如光刻等方法在所述衬底上靠近所述M...
降低显示器中的色移的系统及方法技术方案
本发明揭示一种降低显示器中的色移的系统和方法,其包括一干涉式调制器显示器,所述干涉式调制器显示器配置成沿一自至少一光源且经所述显示器而至一观察者的光学路径自所述光源穿过至少一会聚光学元件反射光。在一实施例中,所述会聚光学元件包含一衍射光...
提供具有抗粘着涂层的MEMS装置的系统和方法制造方法及图纸
在本发明的各种实施例中,在一MEMS装置80的一内部空腔的至少一个表面上形成抗粘着涂层102、106。一些具体实施例在一干涉式光调制装置(iMoD)的一或多个镜面上提供抗粘着涂层102、106。在另一些实施例中,将一干涉式光调制装置封闭...
用于以提高的效率进行二氟化氙蚀刻的方法及系统技术方案
本发明提供一种适用于制造MEMS装置的设备及方法。所揭示设备的一个方面提供一种衬底,所述衬底包含一暴露至一固态蚀刻剂的可蚀刻材料,其中所述衬底及所述固态蚀刻剂设置于一蚀刻室中。在某些实施例中,所述固态蚀刻剂移动至紧靠所述衬底的位置。在其...
用于检测电子装置中的泄漏点的方法及系统制造方法及图纸
本发明揭示用于测试电子装置以进行泄漏点检测的方法及系统,其中所述测试不会破坏所述电子装置。在一种检测一密封封装中的泄漏点的方法中,将一密封封装置于一测试气体环境中,由此使所述测试气体通过一形成于所述密封封装中的泄漏点扩散至所述密封封装的...
用于封装一衬底的方法及装置制造方法及图纸
本发明揭示一种用于一干涉式调制器的封装结构及封装方法。在一干涉式调制器及透明衬底上沉积一薄膜材料来囊封所述干涉式调制器。该干涉式调制器与该薄膜之间的一间隙或空腔提供一使得该干涉式调制器的机械部件可在其中移动的空间。该间隙是通过移除一沉积...
使用具有非平坦部分的背板保护微机电系统阵列的系统和方法技术方案
本发明揭示一种利用干涉式调制的电子装置和所述装置的一封装。所述封装装置包括一衬底101、一形成于所述衬底101上的干涉式调制显示器阵列111和一背板130。所述背板放置于所述显示器阵列111上,所述背板与所述显示器阵列之间具有一间隙12...
便携式XeF*蚀刻室及其使用方法技术
本发明揭示一种蚀刻室,其经构造以在该室内支撑一MEMS衬底。该蚀刻室经构造以相对容易地移动并附接至一蚀刻站,该蚀刻站包含一蒸气或气态蚀刻剂源、一吹扫气体源及/或一真空源。该便携式蚀刻室可利于进行一种蚀刻其中所容纳的MEMS衬底的工艺。举...
对干涉式调制器中的滞后的电-光测量制造技术
本发明揭示用于测试干涉式调制器的方法及设备。可通过施加一时变电压激励并测量自这些干涉式调制器产生的反射率来测试干涉式调制器。
干涉式调制器的电气表征制造技术
本发明揭示用于测试包括干涉式调制器显示器在内的反射式显示器的电特性的方法和系统。在一实施例中,向显示器中的导电引线施加一受控电压并测量由此产生的电流。可对电压进行控制以保证在电阻测量期间干涉式调制器不受激励。本发明还揭示通过施加一使显示...
具有集成式光学结构的空间光调制器制造技术
本发明揭示一种空间光调制器,其包括一集成式光学补偿结构,例如一布置于一衬底与复数个可单独寻址的光调制元件之间的光学补偿结构,或一位于所述光调制元件的与所述衬底相对的一侧上的光学补偿结构。所述可单独寻址的光调制元件经构造以调制透射过所述透...
用于多状态干涉光调制的方法和设备技术
本发明提供一种多状态光调制器,其包含一第一反射体104。一第一电极142定位在离开所述第一反射体104一距离处。一第二反射体14定位于所述第一反射体104与所述第一电极142之间。所述第二反射体14可在一未驱动位置、一第一驱动位置与一第...
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