本发明公开了一种化学机械抛光垫，包括抛光层，所述抛光层包括设置在所述抛光层中心的中心区域、设置在所述抛光层外周的外周区域、以及位于所述中心区域与所述外周区域之间的连接区域，所述连接区域包括同心设置的环形沟槽和环形间断沟槽，相邻两个环形沟...

抛光垫及抛光系统。本发明涉及一种抛光垫，包含抛光层，所述抛光层表面包含至少一个微单元，多个所述微单元组成微单元群，所述微单元的投影形状为六边形，所述六边形中包含两条第一边长L<subgt;1</subgt;，两条第一边长L&...

本发明公开了一种抛光垫，包括抛光层，所述抛光层包括若干同心圆沟槽、若干第一径向沟槽和若干第二径向沟槽，所述第二径向沟槽设置于相邻两个所述第一径向沟槽之间，所述第一径向沟槽自所述抛光层中心径向延伸至所述抛光层边缘，所述第二径向沟槽自所述抛...

本实用新型涉及一种化学机械抛光修整器，所述化学机械抛光修整器包括：圆盘基体、沟槽以及固定在圆盘基体上的磨料颗粒，其中沟槽分布在圆盘基体表面，磨料颗粒分布在所述沟槽区域以外；本实用新型所涉及的化学机械抛光修整器通过在表面设计沟槽，有利于碎...

本实用新型公开了涉及半导体化学机械抛光技术领域的一种抛光垫及研磨设备。该抛光垫包括通过中间胶层贴合的抛光层和缓冲层，所述中间胶层包括高分子支撑层，高分子支撑层的上、下侧面均设置高分子弹性体层，所述高分子支撑层具有贯通上下两侧面的通孔结构...

本实用新型公开一种抛光垫，包括研磨层，研磨层与直径为Dw的被研磨材料直接接触，所述研磨层包括至少两个同心圆沟槽，定义最内侧的同心圆沟槽为第一同心圆，最外侧的同心圆沟槽为第二同心圆；第一同心圆和第二同心圆界定多个研磨区域，由圆心到研磨层边...

本实用新型公开一种抛光垫，包括抛光层，所述抛光层包括抛光表面和位于抛光表面上的抛光单元，所述抛光单元至少为一个，抛光单元组成抛光单元群，抛光单元群的一端形成接触表面，接触表面与被研磨材料直接接触，每个抛光单元在接触表面投影为平行四边形；...

本实用新型公开一种抛光垫，包括研磨层，所述研磨层包括至少两个同心圆沟槽，定义最内侧的同心圆沟槽为第一同心圆，最外侧的同心圆沟槽为第二同心圆；第一同心圆和第二同心圆界定多个研磨区域，由圆心到研磨层边缘三个研磨区的宽度依次为W1,W2,W3...

本实用新型提供了一种CMP抛光垫压缩比测量装置，包括：支撑装置(1)、调节装置(2)、测量装置(3)和计算装置(4)，所述测量装置(3)包括：电缸(31)、扁担(32)、两根第一导向轴(33)和两根第二导向轴(34)，第一砝码(35)、...

本发明公开一种抛光垫，包括抛光层，所述抛光层包括抛光表面和位于抛光表面上的抛光单元，所述抛光单元至少为一个，抛光单元组成抛光单元群，抛光单元群的一端形成接触表面，接触表面与被研磨材料直接接触，每个抛光单元在接触表面投影为平行四边形；多个...

本发明公开一种抛光垫，包括研磨层，研磨层与直径为Dw的被研磨材料直接接触，所述研磨层包括至少两个同心圆沟槽，定义最内侧的同心圆沟槽为第一同心圆，最外侧的同心圆沟槽为第二同心圆；第一同心圆和第二同心圆界定多个研磨区域，由圆心到研磨层边缘三...

本发明公开了一种抛光垫的连续浇注制造方法，涉及半导体制备领域。本发明的技术方案包括将装有任意大小的环形模框的模具经传送带送至浇注机的浇注区，浇注机的浇注头移动到模框的圆心上方，开始向模框内浇注物料，浇注结束后得到浇注体，模具经传送带送至...

本发明公开了一种抛光垫，解决了现有抛光垫中存在“微笑曲线”和“水波纹”带来的抛光垫的不均一的问题。本发明抛光垫含有聚氨酯抛光层,所述聚氨酯抛光层由异氰酸酯封端的预聚体、发泡剂和固化剂为主要原料反应制得，其所述异氰酸酯封端的预聚体是由多异...

抛光层以及具有该抛光层的抛光垫、抛光层的制备方法，涉及化学机械平面化处理的抛光技术领域，包括以下步骤：制备A组分的双官能或多官能异氰酸酯的预聚体、B组分的中空微球体与C组分固化剂的多元混合物；浇注成型，将上述多元混合物浇注至模腔并流平凝...

本发明涉及一种化学机械抛光垫及用该抛光垫平坦化基材的方法。所述抛光垫包括聚氨酯抛光层，其特征在于，所述聚氨酯抛光层是原料组合的反应产物，所述原料组合包括异氰酸酯封端的预聚体、中空微球聚合物和固化剂组合物，其中，所述固化剂组合物包括：端仲...

本实用新型公开了一种聚氨酯研磨垫，涉及抛光技术领域。包括表面设有沟槽的抛光层，沟槽截面的底部为弧形，弧形表面上布设有润滑涂层，润滑涂层的厚度为1～1000nm。本实用新型在弧形沟槽底部设置润滑涂层，有利于沟槽底部抛光液的流动，使废料更容...

本发明公开了一种制备抛光层的模具及制备方法，涉及抛光技术领域。模具包括下模和设于下模表面上的环状上模，环状上模和下模共同围成圆柱形模腔，模腔容纳用于制备抛光层的液体聚合混合物，环状上模的侧壁沿模腔的轴线方向设有凸出部，凸出部具有容纳腔，...

本发明公开了一种制备抛光层的模具，涉及抛光技术领域。模具包括下模和设于下模表面上的环状上模，环状上模和下模共同围成圆柱形模腔，模腔容纳用于制备抛光层的液体聚合混合物，环状上模的侧壁沿模腔的轴线方向设有凸出部，凸出部具有容纳腔，容纳腔贯穿...

本发明公开了一种聚氨酯研磨垫及其制造方法，涉及抛光技术领域。聚氨酯研磨垫包括抛光层，抛光层由异氰酸酯封端的预聚物、固化剂组合物以及中空微球反应得到，其中，固化剂组合物中的氨基与预聚物中未反应NCO的摩尔比为85:100到95:100，抛...