本发明涉及热离子型燃料电池技术领域，尤其涉及一种管状基体表面钨单晶涂层及其制备方法与应用。制备方法包括：将钼单晶基体管和高纯钨原料管同轴放置；以卤化钨气体作为输运剂，采用化学气相输运沉积方法在钼单晶基体管表面外延生长钨单晶涂层；控制高纯...

本发明涉及压缩性能测试技术领域，提供一种金属材料动态压缩力学性能测试装置、方法及系统，装置包括驱动装置、撞击杆、入射杆、透射杆所组成的分离式霍普金森压杆系统及悬挂夹具和调温装置；悬挂夹具将测试样品悬挂装配于入射杆和透射杆之间；调温装置对...

本发明属于面向耐烧蚀材料制备技术领域，具体涉及一种钨涂层改性碳/碳喉衬及其制备方法。所述制备方法包括：（1）准备碳/碳喉衬基体；（2）对碳/碳喉衬基体的沉积表面进行机加工、表面除油清洗；控制沉积表面的表面光洁度Ra符合：3μm≤Ra≤5...

本发明属于难熔金属加工技术领域，具体涉及一种难熔金属毛细管及其制备方法。包括：步骤1：提供化学气相沉积室，在化学气相沉积室气体流入口下方存在第一隔板，在第一隔板和气体流入口之间的区域内存在第二隔板，二者之间的区域构成气相沉积室；步骤2：...

本发明属于工业废气回收再利用技术领域，具体涉及一种钨化学气相沉积生产废气的资源化利用方法，包括以下步骤：1）采用

本发明属于含能结构材料制备技术领域，具体涉及一种

本发明属于含能结构材料制备技术领域，具体涉及一种Ti基全金属含能结构材料、制备方法及其应用。该制备方法包括以下步骤：1）准备金属粉，所述金属粉中包括以下质量分数的组分：Ti40%

本发明属于难熔金属加工成型技术领域，具体涉及一种难加工复杂内腔异形结构钨部件的制备方法。所述制备方法包括：制作与目标异形结构钨部件内腔表面轮廓一致的凸模基体；采用化学气相沉积的方法在凸模基体上生长高纯钨，反应气体为钨的卤化物和H2；将化...

本发明属于合金靶材制备技术领域，具体涉及一种多主元合金靶材及其制备方法与应用。所述多主元合金靶材的合金成分包括：Co28wt.%

本发明属于超纯钛制备技术领域，具体涉及一种利用化学气相输运沉积制备高纯低氧钛的方法。包括：将精炼室和装有凝聚态高价卤化钛的容器互相连通；将粗钛和基体放入精炼室中，然后抽真空；加热容器以提高高价卤化钛的蒸气压为72

本发明属于超纯金属靶坯制备技术领域，具体涉及一种超高纯钼靶坯及其制备方法。所述制备方法包括：采用低压化学气相沉积的方法沉积钼，反应气体为MoF6和氢气，所述MoF6和氢气的体积比为1:2.5~1:20，沉积温度为700~1200℃，压力为1

本发明属于超纯金属制备技术领域，具体涉及一种超纯锰及其制备方法。包括以下步骤：将原料锰与低熔点金属添加剂混合，进行真空熔炼，得到粗锰；将所述粗锰与高熔点金属添加剂混合得到混合物，在低真空条件下用两阶段蒸馏对所述混合物进行分离，以获得锰蒸...

本发明提供一种循环化学气相沉积高纯钽的制备方法及其应用，所述制备方法包括：以纯度≥99.95％的TaF5为原料，高纯H2为还原气体，采用循环化学气相沉积在基体上沉积钽，经去除基体，得到高纯钽；循环化学气相沉积包括采用至少三套蒸发冷凝一体...

本发明提供一种制备高纯钴的方法及应用。所述方法包括：将钴盐与沉淀剂混合并进行沉淀、过滤，对所得滤液进行浓缩，得到高纯钴盐；而后对所述高纯钴盐进行还原，得到高纯钴；其中，所述沉淀剂选自硫化氢铵、硫化氢、氨气、氨水中的一种或多种。本发明可有...

本发明提供一种钨溅射靶材坯料的制备方法及应用，所述方法包括：对钨板坯进行交叉轧制使柱状晶破碎、然后进行再结晶退火使晶粒等轴化，其中，所述钨板坯通过化学气相沉积法制得，其纯度≥6N。本发明方法制备的钨溅射靶材坯料的纯度、致密度等性能指标理...