本发明公开了一种ITO蚀刻液和蚀刻液的制备及使用方法，其中铜缓蚀剂包括改性的苯并咪唑类化合物，该铜缓蚀剂可应用于ITO蚀刻液。该ITO蚀刻液针对双层/多层金属基材，其在蚀刻ITO时，不攻击上层的铜或铜镍合金，能够有效控制蚀刻速率、侧蚀、...

本发明公开了一种正性光刻厚胶组合物及正性光刻厚胶和MEMS受力元件，属于电子化学品技术领域。该正性光刻厚胶组合物包括第一酚醛树脂以及第二酚醛树脂；第一酚醛树脂为甲醛、二甲酚及甲基苯酚的缩聚物，第二酚醛树脂为甲醛和甲基苯酚的缩聚物，第一酚...