本申请涉及一种肿瘤放射治疗设备及其控制方法，所述设备包括：激光器，电子加速腔室；其中，电子加速腔室的首端连接激光器，电子加速腔室设置为真空状态；激光器向电子加速腔室输入激光光束，激光光束在电子加速腔室内与导入的气体靶相互作用，在靠近肿瘤...

本申请涉及一种引出带状离子束的离子源，包括长方体结构的弧腔以及设于弧腔外部的磁场结构；弧腔的第一侧面上设有微波窗和进气口，微波窗用于向弧腔内导入微波能量，进气口用于向弧腔内部通入气体；弧腔的第二侧面上设有引出带状束离子的引出极，用于从弧...

本申请涉及一种离子分离器、离子同轴传输束线及离子束加速器，所述离子同轴传输束线包括离子分离器和离子合束器；其中，离子分离器包括同轴连接的第一电磁场结构和第二电磁场结构；离子合束器包括串联连接的第三电磁场结构和第四电磁场结构；离子分离器用...

本发明公开了一种激光打靶防溅射装置及方法，该装置设置在聚焦镜与靶之间，包括可旋转的转轮，在转轮非中心位置设置有打靶孔，激光打靶时，打靶孔位于激光光路上，使得激光穿过转轮，轰击靶；激光打靶后，转轮旋转使得打靶孔转离激光光路，打靶产生的飞溅...

本申请涉及一种工件架、镀膜设备及真空镀膜机；所述工件架包括：卧式安装的转筒以及驱动装置；其中，所述转筒内侧面上设置有突出部；所述驱动装置用于驱动所述转筒进行转动；所述转筒用于放置待镀膜的工件，并通过所述突出部带动放置在转筒内的工件向上运...

本申请涉及一种真空腔室结构及真空镀膜设备，所示真空腔室结构包括：包括一个设有镀膜区和后处理区的真空腔室，所述真空腔室的室壁上设有抽气口，所述真空腔室的镀膜区与后处理区之间设置有阻隔装置；所述阻隔装置对从所述后处理区扩散至所述镀膜区的气体...

本申请涉及一种镀膜材料保护装置、镀膜材料密封腔室及真空镀膜设备，所述镀膜材料保护装置应用于对真空镀膜设备的镀膜材料进行密封保护；其中真空镀膜设备设有真空腔室，以及连接真空腔室的镀膜材料腔室；镀膜材料保护装置包括：嵌入在镀膜材料腔室内的密...

本发明公开了一种激光加速质子束流的均匀化方法。本发明采用扁平磁场转置四极磁铁和高阶磁铁，并通过设置扁平磁场转置四极磁铁和和高阶磁铁的聚焦强度以及束流漂移段的距离之间的距离，实现质子束流均匀分布；本发明摒弃了传统治癌加速器使用连续扫描叠加...

本申请涉及一种密封件镀膜装置及密封件镀膜方法，所述装置包括：分布式腔体结构以及导气管；所述分布式腔体结构包括多个分布式设计的腔体，每个所述腔体与需要镀膜的密封件相匹配；每个所述腔体内设有一根导气管，用于接入镀膜气体；在镀膜时，所述密封件...

本发明公开了一种激光加速质子束流均匀化方法及装置。本发明的束流均匀化传输线采用四极磁铁和高阶磁铁的组合，对质子束流X方向和Y方向进行束流均匀化操，质子束流横截面逐渐变为均匀分布的矩形束流；本发明方法摒弃了传统治癌加速器使用连续扫描叠加剂...

本申请涉及一种密封件镀膜方法及密封件制备方法，所述的密封件镀膜方法，包括：对基于成型工艺生产的密封件进行上料；将上料好的密封件放入清洁腔室；在清洁腔室处于真空环境下，利用等离子体对所述密封件的表面进行清洁；在清洁完成后，将所述密封件从所...