本申请公开一种多工艺兼容的镀膜设备。所述镀膜设备内限定有相互平行的第一直线传送方向和第二直线传送方向，所述第一镀膜腔和所述第二镀膜腔沿所述第一直线传送方向布置，所述第三镀膜腔和所述第四镀膜腔沿所述第二直线传送方向布置；所述中转腔内设置有...

本申请公开一种双工艺镀膜系统。所述双工艺镀膜系统包括第一工艺腔、第二工艺腔以及用于工件转运的转运腔，所述转运腔包括彼此独立的第一对接区和第二对接区，所述第一工艺腔包括第一配接区，所述第二工艺腔包括第二配接区；所述转运腔具有接合第一工艺腔...

本申请公开一种磁体可多级调节的阴极组件，包括阴极腔，所述阴极腔限定有空间坐标系，所述坐标系具有相互垂直的X轴方向、Y轴方向和Z轴方向，所述阴极腔内设有多个磁体单元、移动平台、多组驱动装置，所述驱动装置对单个磁体单元的调节与所述移动平台对...

本申请公开一种用于翻转待镀膜基片的真空翻转室，包括两相对布置的第一腔壁、夹持组件和驱动机构，夹持组件包括：一枢转轴、至少一支撑件、至少一夹紧件，枢转轴可受驱动地绕自身轴线转动，并可受驱动地沿其自身轴线方向在第一位置与第二位置之间移动，支...

本申请公开一种连续式真空镀膜设备及镀膜方法，包括镀膜腔和传送装置，镀膜腔包括第一加速段和工作段；传送装置包括被配置为以第一速度运行的第一输送组件、第二输送组件和被配置为以小于第一速度的第二速度运行的第三输送组件，第二输送组件的传送速度可...