本发明涉及一种切削刀具及其制备方法。切削刀具包括刀具基体以及复合涂层，复合涂层包括依次层叠设置于刀具基体上的TiAlXN层和TiSiYN层；X元素选自B和Ta中的至少一种，Y元素选自B、V及Mo中的至少一种。其中，X元素可以细化涂层晶粒...

本申请涉及一种用于真空镀膜的加热装置及真空镀膜设备，第一加热管包括第一输入管段、第一发热管段以及第一输出管段，第一输入管段设于第一发热管段的一端，第一输出管段设于第一发热管段的另一端，第一发热管段盘绕设置，第二加热管包括第二输入管段、第...

本申请涉及一种刀具检测辅助装置及检测设备，所述检测设备包括检测装置及所述刀具检测辅助装置，所述检测装置用于检测所述刀具。所述刀具检测辅助装置包括底座、移动组件、承载支架及刀具，所述移动组件设于所述底座；所述刀具与所述承载支架可拆卸连接，...

本申请涉及一种脉冲电源电路，第一驱动开关单元根据第一PWM控制信号导通；第一跟随开关单元跟随第一驱动开关单元导通并向负载输出第一电信号；第一回路开关单元根据第一开关控制信号导通并接收经负载传输的第一电信号；第二驱动开关单元根据接收的第二...

本发明涉及一种氮化物涂层及其制备方法和涂层刀具。氮化物涂层的制备方法包括以下步骤：形成CrAlN涂层；通过电弧离子沉积处理，在所述CrAlN涂层上形成包括第一TiSiCrAlN涂层和第二TiSiCrAlN涂层的层叠体，且使形成所述第一T...

本申请涉及一种平面阴极和磁控溅射系统。包括磁轭和至少一磁体阵列；磁体阵列包括外围磁体、中心磁体、第一平衡磁体组和第二平衡磁体组；外围磁体的磁极指向沿垂直于磁轭表面方向，中心磁体的磁极指向与外围磁体的磁极指向平行；第一平衡磁体组和第二平衡...

本申请涉及一种磁控溅射镀膜装置。该装置包括：真空腔室；多个阴极板，多个阴极板间隔设置在真空腔室的侧壁上，其中，阴极板内部嵌入有用于形成永磁磁场的永磁体；多个电磁线圈，多个电磁线圈与多个阴极板一一对应设置，其中，电磁线圈设置在对应的阴极板...

本申请涉及一种

本申请涉及一种离子清洗工艺

本发明涉及一种等离子渗氮的方法和渗氮工件

本发明涉及一种含氢

本发明涉及一种复合涂层及其制备方法和涂层丝锥

本发明涉及一种纳米多层复合涂层及其制备方法和应用。该纳米多层复合涂层包括依次层叠设置的若干铬氮化物涂层；每一层所述铬氮化物涂层分别独立包含Cr元素和N元素，且每一层所述铬氮化物涂层中N元素的含量呈逐层梯度递增。通过改变铬氮化物涂层的化学...

本实用新型涉及一种离子源装置及真空镀膜设备，离子源装置包括：离子源主体、盖体组件、密封组件、传递杆及驱动件。离子源主体设有通口。盖体组件转动连接于离子源主体。盖体组件相对离子源主体具有第一角度及第二角度。盖体组件在第一角度能够遮盖通口。...

本发明涉及一种离子清洗方法、涂层制备方法和涂层。离子清洗方法包括以下步骤：将基材设置于反应腔内，抽真空，并在所述反应腔内施加磁场；向所述反应腔通入清洗气体，对所述基材施加负偏压，使所述清洗气体离化，利用所得离子对所述基材的表面进行离子清...

本发明涉及一种涂层，包覆于切削工具表面，包括依次设置的基层、功能层以及外层，其中：基层为AlCrN层，涂覆于切削工具表面；功能层包括第一层和第二层，第一层与第二层交错层叠循环多次，第一层位于基层背离切削工具的一侧，第一层为AlCrN层，...

本发明涉及一种TiCN涂层及其制备方法，以AlTi靶进行脉冲高偏压电弧离子镀膜，于基体上沉积Ti

本实用新型涉及一种高功率脉冲磁控溅射电源及真空镀膜设备，高功率脉冲磁控溅射电源包括高功率元器件和冷却装置，其中：冷却装置包括板体、进水口及出水口，板体上设置有承载面，且内部设置有第一槽体、第二槽体及第三槽体，第一槽体和第二槽体间隔开口于...