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GENESIC半导体公司专利技术
GENESIC半导体公司共有2项专利
改进的功率器件的设计和制造制造技术
本公开涉及改进的功率器件的设计和制造。本公开描述了一种器件及其形成方法。一种器件,包括至少部分形成于碳化硅(SiC)基板内的单位单元,所述单位单元包括:垂直轴,其限定于所述单位单元的区域处;第一下沉区,其形成于所述SiC基板中且具有第二...
改进的功率器件的设计和制造制造技术
本文描述了一种器件。该器件包括位于SiC基板上的单位单元。该单位单元包括闸极绝缘膜、井区中的沟槽、具有第二导电类型的第一下沉区和具有第二导电类型的第二下沉区。第一下沉区的深度等于或大于井区的深度。第一下沉区和第二下沉区中的每一者与具有第...
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