提供一种对从半导体工程产生并向真空泵移动的废气进行处理的半导体工程废气处理装置。半导体工程废气处理装置包括：等离子体生成部，其生成等离子体；反应腔室，其通过所述等离子体分解全氟化合物生成分解气体；以及气体供应部，其将来自所述反应腔室的分...

本发明涉及废气处理装置，具体涉及一种等离子装置，所述等离子装置包括：等离子体火炬；废气注入部，其设于所述等离子体火炬的下部；反应腔室，其设于废气注入部的下部；等离子反应部，其包括等离子体火炬及设置成向反应腔室供应冷却水的冷却水腔室；冷却...