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CMC专利技术
CMC共有3项专利
用于抛光掺杂有硼的多晶硅的组合物及方法技术
本发明提供化学机械地抛光基板
用于高形貌选择性的自停止性抛光组合物与方法技术
本发明提供化学机械抛光组合物,其包含:
具有受控的纹理表面的终点窗制造技术
化学机械抛光垫窗,其具有包括重复的图案化特征的受控的纹理表面
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