本发明正型感光性绝缘树脂组合物至少包括（Ａ）含酚羟基的碱溶性树脂、（Ｂ）含醌二叠氮基的化合物、（Ｃ）交联细颗粒、（Ｄ）每分子至少含有两个烷基醚化的基氨基的化合物、（Ｆ）溶剂。所述正型感光性绝缘树脂组合物有极好的分辨率、电绝缘性能以及热骤...

本发明提供了粘合剂组合物，它是在支持基板上固定半导体晶片的粘合剂组合物，该组合物在研磨进行时具有牢固的高耐热粘合力，同时在研磨工序结束后可以通过加热熔融容易地剥离。本发明的热熔型粘合剂组合物是含有熔融温度为５０～３００℃的结晶性化合物作...

本发明的化学机械研磨用水性分散质的特征为，具有水、重量平均分子量超过２０万的聚乙烯吡咯烷酮、氧化剂、含有生成水不溶性金属化合物的第一金属化合物生成剂以及生成水溶性金属化合物的第二金属化合物生成剂的保护膜生成剂、磨粒。通过使用该化学机械研...

本发明的课题是提供可以精度良好地形成凸缘或布线等厚膜的镀制成形物的制造方法，适用于该制造方法的感度、析像度等良好的负型感放射线性树脂组合物，以及使用该组合物的转印膜。制造了含有（Ａ）具有下述通式（１）及／或（２）所示结构单元的聚合物、（...

本发明的课题是提供可以良好的精度形成凸点或配线等厚膜的镀制造型物的制造方法，适用于该制造方法的灵敏度和析像度等良好的正型感放射线性树脂组合物，以及使用了该组合物的转印膜。解决上述课题的手段是制造包含（Ａ）含有以下的通式（１）及／或（２）...

正型感光性绝缘树脂组合物及其固化物，其特征在于，包含（Ａ）含有１０～９９摩尔％（Ａ１）下述通式（１）表示的结构单元和９０～１摩尔％（Ａ２）下述通式（２）表示的结构单元的共聚物，（Ｂ）具有醌二叠氮基的化合物，（Ｃ）选自（Ｃ１）含有羟甲基及...

形成抗反射膜的组合物，其具有优异的适用性，在产生超细微泡方面受到了显著抑制，产生能够足够地减少驻波效应的抗反射薄膜并且具有优异的在水和碱性显影液中的溶解性。所述形成抗反射膜的组合物包含：（Ａ）由例如２－（甲基）丙烯酰氨基－２－甲基丙烷磺...

提供图案形状优良的等离子体显示屏（ＰＤＰ）构件的制造方法，以及适合该制造方法使用的复制膜。制造的ＰＤＰ构件，是在含特定的碱可溶性树脂和无机粉体和非感光性层上，形成含特定的碱可溶性树脂和无机粉体和感光性层或保护层，进行曝光、显影、焙烧处理...

本发明的课题是提供保存稳定性优良的含无机粉体的树脂组合物、具有由该树脂组合物形成的层的转印膜以及使用该转印膜的ＰＤＰ用构件的制造方法。本发明涉及的含无机粉体的树脂组合物的特征在于，含有（Ａ）无机粉体、（Ｂ）具有下式（１）所示结构单元的聚...

本发明的目的是提供具有耐腐蚀性、输入输出特性优良的蓄电性能的电化学电容器。电化学电容器，它是具有由膜－电极－集电体形成的结构体的电化学电容器，所述膜－电极－集电体设置有１对与金属箔集电体连接的含有金属氧化物以及具有质子传导性的高分子粘合...

用于形成光敏电介体的组合物、以及由所述组合物形成的电介体和电子元件，所述电介体包含无机颗粒、能在碱中显影的树脂和添加剂，其中，所述添加剂包含（Ｃ１）具有醌二叠氮基的化合物，（Ｃ２）具有至少两个氨基的化合物，所述化合物进行改性而具有烷基醚...

本发明涉及用于形成图案层的顶离方法，所述层通过沉积和／或溅射形成。本发明提供了双层抗蚀剂以及使用该抗蚀剂的形成图案的方法。这种形成图案的方法容易在基材上形成无毛刺的层。该方法包括下列步骤：顺序施涂辐射敏感的树脂组合物１和２，形成双层层叠...

本发明提供初始特性良好、不易受使用环境和制造环境的影响、长期可靠性良好的波片。本发明的第１种波片是作为由２块以上的相位差薄膜构成的波片，在激光的透过部分，相位差薄膜之间不粘接，而除了激光的透过部分的部分的至少一部分中，相位差薄膜之间相互...

一种含有（Ａ）分解性化合物、（Ｂ）折射率比分解性化合物（Ａ）低的非分解性化合物、（Ｃ）感放射线分解剂及（Ｄ）稳定化剂的有放射线敏感性的折射率变化性组合物。通过使图案掩模介于中间，对该组合物照射放射线，使得放射线照射部分的上述（Ｃ）成分和...

一种辐射敏感的折射率变化组合物，包含（Ａ）一种可聚合的化合物，（Ｂ）一种不可聚合的化合物，它的折射率低于可聚合的化合物（Ａ）的聚合物，和（Ｃ）一种辐射敏感的聚合引发剂。

提供一种通过简单的方法形成具有充分大的折射率变化，而且不因随后的使用条件发生变化的稳定的折射率图案或光学材料用的方法。通过对含有（Ａ）分解性化合物、（Ｂ）含有无机氧化物粒子的非分解性成分以及（Ｃ）感放射线分解剂的折射率变化性组合物照射放...

提供一种可通过简单方法使折射率变化以得到一种折射率差充分大而且不因随后的使用条件的不同而发生变化的稳定的折射率图案和光学材料的组合物和形成该图案或光学材料的方法。该组合物包含（Ａ）分解性化合物、（Ｂ）诸如四丁氧基钛、四甲氧基锆、四甲氧基...

一种放射线敏感性折射率变化性组合物，其中含有（Ａ）分解性化合物、（Ｂ）折射率高于分解性化合物（Ａ）的非分解性化合物、（Ｃ）放射线敏感性分解剂、以及（Ｄ）稳定剂。通过图案掩模，向该组合物照射放射线，由此使放射线照射部分中的上述（Ｃ）成分和...

本发明的呈未固化状态的光敏树脂膜包含（Ａ）一种特殊的碱溶性共聚物，（Ｂ）具有至少一个烯键式不饱和双键的化合物，以及（Ｃ）一种辐射敏感的自由基聚合引发剂，通过使用该引发剂，呈未固化状态的、干膜厚度为７０μｍ的涂膜在３６５ｎｍ具有不低于１０...

本发明涉及通过活性自由基聚合方法制备光刻胶聚合物。使用位阻大的酯单体作为聚合组分。聚合加工条件包括使用链转移剂。描述了包含杂原子的聚合物端基的解离。