本发明涉及用于制造减小龟裂的电极的工艺和材料。具体地，描述了基本上无裂隙的电极层。基本上无裂隙的电极层包括基底；以及所述基底上基本上无裂隙的电极层，所述电极层包括催化剂，离聚物和层状硅酸盐加强物。还描述了制造该电极层的方法，电极墨成分，...