本申请提出了一种刻蚀铌酸锂材料的方法及铌酸锂器件，其中刻蚀铌酸锂材料的方法，包括如下步骤：在铌酸锂基板上制备掩膜层；在氩气氛围下对设置有所述掩膜层的铌酸锂基板进行低压刻蚀10‑20min完成图案化刻蚀得到样品；制备抛光液并将所述样品浸入...