本技术提供一种用于MOCVD设备的旋转系统及MOCVD设备，该旋转系统包括：桶状壳体，与反应腔本体连接，且桶状壳体用于封堵反应腔本体的底部敞口，桶状壳体包括顶板及周向侧壁，周向侧壁上具有环形槽，环形槽将桶状壳体的上半部周向侧壁分隔为上半...

本实用新型提供一种金属有机化学气相沉淀反应腔的气体喷淋分配装置，所述装置包括：腔体上盖，腔体上盖设有第一进气孔，第一进气孔下方设有辅助喷淋头；通气板，位于腔体上盖下方，底部设有第一沟槽，相邻两个第一沟槽间设有第一通孔，通气板四周设有第二...

本实用新型提供一种用于半导体制造设备的升降开盖装置，所述升降开盖装置包括：动力机构，包括驱动部件；升降机构，包括直线运动组件，所述直线运动组件的输入端与所述动力机构的输出端连接，所述直线运动组件用于将所述动力机构输出的旋转运动转换为直线...

本发明提供了一种化学气相沉积装置的反应腔室及化学气相沉积装置，反应腔室包括：反应腔本体；晶片托盘，位于所述反应腔本体内，其上表面用于放置待处理的晶片，所述晶片托盘的周向外侧边沿设有弧形圆角；托盘支撑轴，位于晶片托盘的下方，托盘支撑轴与所...

本发明提供一种用于MOCVD设备的旋转系统及MOCVD设备，该旋转系统包括：桶状壳体，与反应腔本体连接，且桶状壳体用于封堵反应腔本体的底部敞口，桶状壳体包括顶板及周向侧壁，周向侧壁上具有环形槽，环形槽将桶状壳体的上半部周向侧壁分隔为上半...