可以捕集一或多种某些酸性气体的可逆性的酸性气体结合有机液体物质、系统和方法。这些酸性气体结合有机化合物可以再生，从而释放捕集的酸性气体，并且能够使这些有机酸性气体结合物质被重复利用。与目前的水系统相比，这种系统能够输送液体捕集化合物，并...

具有经验证的大于２００Ｆ／ｇ的比容量的由石墨烯和中孔金属氧化物形成的纳米复合材料，当用于超级电容器中时有特殊的实用性。制造这些纳米复合材料的方法：首先形成石墨烯、表面活性剂和金属氧化物前体的混合物，从所述混合物中沉淀所述金属氧化物前体和...

一种使用可吸收性治疗种子治疗肿瘤细胞的系统、方法和装置，所述可吸收性治疗种子包含β－或α－粒子－发射放射源和可吸收性聚合基质。将这些种子植入肿瘤内，然后，快速溶解，以便从聚合基质中释放出微球。然后，这些微球扩散在预选的靶区域，并且根据使...

包括与至少一种石墨烯材料结合的金属氧化物的纳米复合材料。该纳米复合材料在超过约１０Ｃ的充电／放电速率时具有为没有石墨烯的二氧化钛材料的至少两倍的比容量。

用于采用微气溶胶对被污染的封闭设施进行消毒的方法，所述微气溶胶含有自由基，由电化学活化的溶液制备。在本发明的一个实施方案中，所述气溶胶用空气：ＥＡＳ之比为（１－１０）：１（质量）的ＥＡＳ－空气混合物来制备，液滴≤１０微米。该方法优选通过...

提供了氢解方法，所述氢解方法可以包括提供其中具有催化剂的氢解反应器。可以在保持催化剂的温度高于２９０℃的同时，在没有多元醇化合物的情况下将催化剂暴露于还原剂。氢解方法还可以包括在反应器中提供钝化的催化剂，并在将催化剂保持在低于２１０℃的...

本发明涉及旨在用于获得精细气雾而雾化液体的装置。所提出的装置旨在雾化不稳定液体，并包括设置成可能相对于水平面旋转的一个或多个喷射器型雾化器。雾化器包含具有喷嘴的腔，在所述腔中引入用于供应要雾化的液体材料和空气的分支管件，而且空气源分支管...

本发明涉及控制高压电源，尤其是涉及控制来自低压电源的高压功 率同时减小自激振荡回馈转换器的绕组中的不希望的自激谐振。

所公开的方法和设备用于将在下一代溶剂流体中的钽金属膜沉积到底材和／或沉积表面上，该金属膜作为例如金属种子层有用的。沉积包括将溶解在液体和／或可压缩溶剂流体中的低价氧化态金属前体处于该混合的前体溶液的液体、近临界或者超临界条件。金属膜沉积...

提供了氢解系统，所述氢解系统可以包括反应器，所述反应器容纳含Ｒｕ氢解催化剂，并且其中将反应器的内容物保持在中性或酸性的ｐＨ。系统内的反应物储器可以容纳多元醇化合物和碱，其中碱相对于化合物的重量比小于０．０５。系统也包括产物储器，所述产物...

用于实现吸附的方法装置和材料，其中流体混合物通过结构化吸附床内的通道，结构化吸附床具有包含一般直径小于１００ｕｍ的吸附剂颗粒的固体吸附剂，所述固体吸附剂装载在限定至少一个直的流动通道的多孔载体基体内。所述吸附床经构造以允许流体通过所述通...

描述了包括纤维素在内的碳水化合物聚合物在离子液体中在低于１２０℃的温度下的转化方法，得到有附加值的化学品，包括例如葡萄糖和５－羟甲基糠醛（ＨＭＦ）。描述了对于规定的产物有选择性的包括各种混合金属卤化物的催化剂组合物，在单个步骤过程中具有...

用于获得用于蛋白组分析的样品的方法和系统，其利用压力和预选的试剂以获得在比现有技术方法显著短的一段时间内处理样品，并且维持通过准备性处理处理样品的完整性。在本发明的一个实施方式中，样品和酶组合并进行经受压力，优选在０至３５ｋｐｓｉ之间变...

能够通过使热燃料气经过在中孔基质中布置的金属基吸附剂使这些热气体脱硫的高效可再生方法、系统和装置。这种技术保护Ｆｉｓｃｈｅｒ－Ｔｒｏｐｓｃｈ合成催化剂和其他硫敏感催化剂，不急剧冷却燃料气。本发明可单独用于一种方法或与其他分离方法一起利用...

本发明提供具有结构式的化合物，其中：ｎ为０或１；Ｒ↓［２］～Ｒ↓［１２］独立地选自氢、Ｃ↓［１］～Ｃ↓［１０］烷基、Ｃ↓［６］～Ｃ↓［１０］芳基、Ｃ↓［１］～Ｃ↓［１０］烷氧基、Ｃ↓［１］～Ｃ↓［１０］芳氧基、Ｃ↓［１］～Ｃ↓［１０］芳...

一类新的用于电和电致发光器件的材料，具有通过单键被键合到两个外部基团上的一个或多个氧化膦部分。在具有两个或多个氧化膦部分的实施方案中，两个或多个氧化膦部分进一步通过桥基连接。通过选择合适的桥基和外部基团，本发明的这类新材料能使设计人员能...

一种单晶、固溶体、化学纯的粉末，它包括具有有用的电气特性的钙矿复合物，和通式：ＡＢＯ－［３］，其中钙钛矿复合物是选自：钛锆酸铅、钛锆酸铅镧、钛酸铅、锆酸铅、钛酸钡、铌酸铅镁或铌酸铅锌，并且有０－５０％的总掺杂物或固溶体替代物；其中当选择...

本发明通常涉及用于加工材料的方法。更具体地说，本发明涉及用于去除沉积材料的反应流体和其用途，所述沉积材料包括但不限于覆盖层材料、金属、非金属、层状材料、有机物、聚合物和半导体材料。本发明在如半导体芯片制造的工业化生产中获得了应用。

本发明概括性地涉及一种用于清洁基片的体系。更具体而言，本发明涉及一种使用在稠化二氧化碳基质中的反应性逆胶束或微乳化流体系从半导体基片包括硅晶片上化学去除残余物的方法。可使用在反应性胶束体系中的各种反应性化学试剂使蚀刻剂和金属残余物的清洁...

公开了一种将来自液体、近临界和／或超临界流体的材料选择性地且可控制地沉积到衬底或表面上的方法，控制沉积到表面或衬底上的材料的位置和／或厚度。在一种示范性的方法中，有选择地沉积金属以填充衬底的特征图案（例如通孔）。该方法还可用于控制复合或...