提供了一种用于生产具有式(I)的表面活性剂的方法，以及一种表面活性剂组合物。此外，提供了特定的表面活性剂及其组合物，以及它们在多种应用如多用途清洁剂中的用途。

本公开提供了一种通过使热熔粘合剂组合物经受UV固化和热固化两者来固化该热熔粘合剂组合物的方法，该热熔粘合剂组合物包含丙烯酸类共聚物和聚合物扩链剂。

一种用于通过以下方式制备水性聚合物胶乳的方法：可选地在种子胶乳的存在下，在水性聚合介质中在酸性反应自由基聚合引发剂的存在下进行自由基乳液聚合使含有(甲基)丙烯酸丙酮缩甘油酯的单体组合物聚合，其中该单体组合物包含a)按重量计0.1％至10...

本公开涉及一种用于确定两个生产过程(PP1,PP2)之间的差异对使用该生产过程(PP1,PP2)生产的产品(P1,P2,P3)的产品碳足迹PCF的影响(IMP)的系统和方法。计算机实现的方法包括接收(S100A)第一生产过程数据(PPD...

本发明涉及包含聚亚芳基(醚)砜的组合物，该组合物具有高导电性、良好的耐化学品性和改进的可加工性，适合用于生产燃料电池或电解单元的双极板。

本文要求保护的发明涉及电介质抛光组合物及其方法。本文要求保护的发明特别地涉及一种组合物，该组合物包含：(A)表面改性的胶体二氧化硅颗粒，其在该颗粒的表面上包含带负电荷的基团，其中该表面改性的胶体二氧化硅颗粒具有负电荷，60nm至200n...

本公开的一种面板构造、其制备方法及其作为汽车部件的用途。本发明涉及一种用于制造聚氨酯树脂的异氰酸酯反应性组合物，所述组合物包含：A.蓖麻油；B.至少一种平均官能度为2.0至4.0的聚醚多元醇；C.至少一种增链剂；以及D.选自胺催化剂和/...

本发明涉及一种用于从包含至少一种ε‑己内酰胺低聚化合物CPO和ε‑己内酰胺单体化合物CPM的流SR中分离所述至少一种CPO的方法。

本发明涉及一种包含热塑性聚氨酯的组合物，该热塑性聚氨酯是增效组分二异氰酸酯、聚丙二醇和扩链剂的反应产物，该组合物还包含含磷阻燃剂。

本发明涉及一种可固化组合物，其包含：(A)至少一种含有烯键式不饱和基团的组分，其中组分(A)包含组分(A1)，其含有选自异氰脲酸酯结构和/或三环癸烷环结构的结构(K)；和(B)至少一种光引发剂，其中使用以下福克斯方程由该可固化组合物计算...

一种可降解聚合物，其为高达50摩尔％的包含环状二硫化物基团的有机硫单体和至少50摩尔％的至少一种有机单体的共聚物，该有机单体选自由以下组成的组：酸官能单体、碱官能单体、极性单体、乙烯基单体或它们的组合。使用有机硫单体作为共聚单体将可裂解...

提供了一种用于监测工业工厂的产品加工设备(20，30)的系统。该系统包括第一层(100)、第二层(200)和第三层(300)，该第一层具有被配置为检测该工业工厂的产品加工设备(20，30)的参数的多个传感器(110‑150)，该第二层被...

一种用于制造具有橄榄石晶体结构的氟化物掺杂的阴极活性材料的方法，其中所述方法包括以下步骤：(a)提供磷酸盐源、除锂以外选自铁的金属的源、以及可选地至少一种另外的元素M1的源，该元素选自钛、钒、镍、钇、铜、镁、锌、铝、钴和锰，其中所述除锂...

在一种用于监控包括工厂对象的工业工厂(2)的方法中，执行以下步骤：接收(S1)借助于摄像机设备(3)生成的该工厂(2)的视频流(VS)，其中，该视频流(VS)包括二维图像数据的时间序列；借助于该工厂(2)的三维(3D)模型(CAD)将该...

一种用于制造氟化物掺杂的阴极活性材料的方法，其中所述方法包括以下步骤：(a)提供TM的颗粒状氧化物或(氧)氢氧化物或碳酸盐，其中TM包括镍和锰并且其中TM的至少50mol‑％是锰，其中所述颗粒状氧化物或(氧)氢氧化物具有1至16pm范围...

本发明涉及聚环氧烷和聚乙烯酯的嵌段共聚物，以及其在织物或家庭护理产品中作为抗灰化剂的用途。本发明更特别地涉及一种包含该嵌段共聚物的洗涤剂组合物。

本发明涉及与亲本α‑淀粉酶相比具有增加的外淀粉酶活性的α‑淀粉酶变体。本发明还涉及制备所述变体α‑淀粉酶的方法以及所述变体α‑淀粉酶在烘焙、洗涤剂、个人护理产品、在纺织品的加工、在纸浆和纸加工、在生产乙醇、木质纤维素乙醇或糖浆以及在油田...

本发明涉及具有至少双峰态分子量分布的磺化聚亚芳基砜聚合物(sP)、一种用于制备该磺化聚亚芳基砜聚合物(sP)的方法、一种包含该磺化聚亚芳基砜聚合物(sP)的膜(M)、一种用于制备该膜(M)的方法以及通过该方法获得的该膜(M)。

一种用于制造结晶硫酸钠的方法，所述方法包括以下步骤：(a)将含有镍和至少一种选自钴和锰的金属的硫酸盐的水溶液分别与氢氧化钠或碳酸钠水溶液以约1:2的化学计量比可选地在氨或氨盐的存在下合并，(b)通过过滤将沉淀的镍和至少一种选自钴和锰的金...

提供了一种用于监测工业工厂设备的监测系统。该系统包括第一层(100)，该第一层具有被配置为检测工业工厂(1)的设备(20，30)的参数的多个传感器(110‑150)。该系统还包括第二层(200)以及耦合到该第一层和/或该第二层的接口(6...