本发明关于一种装置(10)，其包括气体再循环回路，该气体再循环回路包含藉由再循环通道(20)连接的迷你环境腔室(14)、气泵(16)、过滤器组件(22)。该装置另外包括空气供应管道(18)，该空气供应管道用于将空气供应至该气体再循环回路...

揭露了一种储存装置，其与用于批处理支承于晶舟中的晶圆的至少一个批式炉偕同使用。该储存装置包含贮匣旋转料架，用于储存多个晶圆匣于可旋转平台层上。旋转料架壳体限定出容纳该平台层于其中的迷你环境腔室。该储存装置的气体再循环回路随后包含气体入口...

一种用于存储假片的假片存储盒。该假片存储盒可具有多于30个晶片槽以用于容纳假片。该假片盒可以具有与具有25个晶片槽的标准化晶片盒基本相同的外部尺寸，并且该假片存储盒的晶片槽的间距可以小于标准化晶片盒中的晶片槽之间的间距。

一种空间原子层沉积装置(10)，包括具有喷头侧部(18)的喷头(16)，该喷头侧部具有中心、中心区域和圆周区域。该装置还包括具有基板支撑侧部的基座(12)，该基板支撑侧部平行于喷头侧部并与喷头侧部相对地延伸，以形成间隙。基座和喷头可围绕...

本发明涉及含多反应器的半导体处理装置及为其提供处理气体的方法。一种半导体处理装置。半导体处理装置包括气体供应系统，气体供应系统包括至少一个气体供应单元。气体供应单元包括：处理气体源；气体分配歧管，包括具有入口和多个带有阀的出口的环形气体...