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安普莱西娅有限责任公司专利技术
安普莱西娅有限责任公司共有1项专利
具有混和型接触的CMOS制造技术
一种MOSFET晶体管结构,其包括:具有第一掺杂剂极性的阱区;源极区;漏极区;沟道区;该沟道区上方的栅极结构;该源极区或该漏极区中的具有第二掺杂剂极性的混和型接触注入物;及该源极区、该栅极结构及该漏极区中的每一者上或内的各别金属接触。该...
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