安徽万维克林精密装备有限公司专利技术

安徽万维克林精密装备有限公司共有61项专利

  • 本发明公开了一种便于快速夹取的晶圆盒清洗设备,用于清洗产品,清洗设备包括:清洗单元,所述清洗单元包括清洗腔,所述清洗腔于所述清洗单元的表面形成有开口,所述开口所在的平面与水平面之间具有预设夹角;夹持单元,所述夹持单元包括驱动部和夹持部,...
  • 本发明公开了一种晶圆单面蚀刻设备,具体涉及半导体加工技术领域,一种晶圆单面蚀刻设备,包括下壳体,下壳体的顶部设有加工台面,加工台面上设有摆片孔,摆片孔内安装有锁紧组件,加工台面顶部开设有冲压孔,下壳体的内部设有隔层,并形成外腔以及内腔,...
  • 本发明涉及气密性检测技术领域,其公开了一种基于温度变化和气体浓度差的晶圆盒气密性检测方法,本方法通过晶圆盒气密性检测装置实现,晶圆盒气密性检测装置由腔体、腔门、晶圆盒支架组成的密闭腔室;在检测精准度上,通过监测传感器实时监测,利用独特的...
  • 本发明公开了一种检测药液取样方法,本发明涉及药液取样技术领域,解决了未根据其药液的原始特征,在对应容器内进行分层取样的问题,本发明通过利用机器视觉对盛放药液的容器进行多方位扫描,基于Sobe l算法确认扫描图像的轮廓和中心点,进而生成容...
  • 本发明公开一种晶圆切片蚀刻设备及方法,涉及晶圆蚀刻技术领域;而本发明包括蚀刻机台和机座,机座固定设置在蚀刻机台的下表面,蚀刻机台的上表面设有设备罩,蚀刻机台的上表面固定设置有电动滑轨;本发明中,通过驱动设备罩移动至清洗槽的上方,由升降清...
  • 本发明公开了一种晶圆清洗线,涉及晶圆清洗的技术领域;而本发明包括一种晶圆清洗线,包括底座,底座顶部设有罩体,罩体外侧壁设有PLC控制器,底座顶部设有清洗机构,罩体内侧壁设有移料机构,底座顶部设有气体加压机构,本发明通过设置气体加压机构,...
  • 本发明公开了一种全自动单晶圆清洗机及晶圆清洗方法,涉及晶圆清洗技术领域,而本发明包括清洗机构,三个清洗机构的两侧均设有对废水进行收集的安装机构,安装机构的上表面设有对晶圆盒进行运输的运输机构,三个清洗机构内设有带动晶圆盒进行扭动的扭动机...
  • 本发明公开了一种晶圆清洗装置和晶圆加工设备,具体涉及晶圆加工技术领域,包括基座,所述基座的顶端一侧固定安装有第一架体,所述第一架体的顶部固定安装有定旋机构,所述基座的顶端另一侧固定安装有第一运输机构,所述定旋机构和第一运输机构之间设有转...
  • 本发明公开了一种卧式炉管清洗排液方法,涉及卧式炉管清理技术领域,具体包括以下步骤:S1、通过将清洗排液设备的工作端插入卧式炉管的内部,并通过清洗机构对卧式炉管清洗;S2、通过吸枪组件将清洗机构清洗后的炉渣和清洗液吸到推铲的内部,并同时通...
  • 本发明公开了一种支援并排放置真空腔的腔门旋转装置,涉及真空腔腔门旋转技术领域,包括左真空腔、右真空腔和旋转机构;所述左真空腔上转动设置有左腔门,所述右真空腔上转动设置有右腔门;所述旋转机构包括第一旋转组件、第二旋转组件、驱动装置和抽真空...
  • 本技术公开了一种用于自动搬运FOUP盒齿轮旋转夹爪装置,包括密闭防腐箱,所述密闭防腐箱的一端对称贯穿安装有旋转连杆,所述旋转连杆的一端安装有夹持连板,所述旋转连杆的一端位于夹持连板的一侧设置有稳定板,所述夹持连板的底部安装有夹持组件,所...
  • 本发明公开了一种气动隔膜泵的控制方法,本发明涉及气动隔膜泵技术领域,解决了对气动隔膜泵控制参数的监测与调节缺乏系统、全面且精准控制的技术问题,本发明通过在压力参数异常时,通过计算压力差值,明确压力异常方向,对于压力过高的情况,将阀门开度...
  • 本发明公开了一种放置石英管可旋转的机构,涉及石英管放置技术领域,包括多组石英管主体和转动机构,所述转动机构包括:放置组件,设置于石英管主体外部,用于对石英管主体进行放置;锁紧组件,设置于放置组件上,用于对石英管主体进行卡紧限位;本发明通...
  • 本发明公开了一种晶圆搬运装置及方法,具体涉及晶圆搬运技术领域,包括防护罩,所述防护罩的外侧固定安装有多个工位框,所述防护罩中固定安装有搬运设备,所述搬运设备包括转位机构,所述转位机构的端部固定安装有定位机构,所述定位机构的外侧设有矫正机...
  • 本发明公开了一种晶圆夹持搬运装置,涉及晶圆夹持搬运的技术领域;而本发明包括连接盘,连接盘顶部设有夹持机构,连接盘顶部设有三组调节机构,本发明通过设置调节机构,使本申请的夹持件在夹持完成后,复位的途中进行旋转,使夹持件每次夹持晶圆时,接触...
  • 本技术公开了基于炉管清洗的旋转机构,本技术涉及炉管清洗技术领域。该基于炉管清洗的旋转机构,通过主基板与侧基板内部设有的驱动轴以及驱动轴端部连接的传动轴,能够带动槽体内部的待清洗炉管转动,实现清理作业,同时通过驱动轴与传动轴的配合,提升了...
  • 本技术公开了一种用于半导体清洗设备废水沉淀过滤装置,包括含有进水腔室、过滤腔室和沉淀腔室的处理池,所述过滤腔室的中部固定连接有内置收集筒,且内置收集筒的外侧设有过滤构件,过滤构件包括转动环盘,以及与转动环盘固定连接的过滤板架,本技术涉及...
  • 本技术公开了一种半导体清洗框,包括U形框,所述U形框的正面滑动设置有活动框,所述U形框的表面设置有调节组件;所述调节组件包括活动设置于U形框内部的阻挡件,且阻挡件包括固定隔板和活动隔板,所述U形框顶面的两侧均固定设置有L形板,且L形板的...
  • 本技术公开了一种减小储液箱变形量的结构,包括储液箱箱体,所述储液箱箱体内部设置有加固结构,所述加固结构包括固定在储液箱箱体内壁的加固板,所述加固板中心处嵌入设置有支撑杆,所述加固板外端与储液箱箱体内壁之间倾斜设置有转动支板,所述转动支板...
  • 本技术公开了一种提高储液箱液位检测稳定性结构,涉及储液箱检测技术领域,包括储液箱本体,所述储液箱本体的一侧固定连接有两个液位管,所述储液箱本体的一侧通过连接块固定连接有两个凹形架,所述凹形架的凹面对液位管进行支撑,所述储液箱本体的一侧开...