本文描述具有两个或更多个相机系统(即，投影透镜系统)的光刻机的实施方案。光刻机可包括独立操作和控制的两个或更多个相机，用于曝光集成电路、平板显示器和在制造半导体电子器件中使用的其他基板。相机可被独立地控制以在x轴上横向移动(即，不固定)...

本文公开了用于在制造过程期间检查半导体器件诸如CMOS图像传感器的缺陷检测技术的示例。缺陷可以包括常见缺陷，诸如划痕、污垢等，以及低对比度缺陷，诸如水印。该检测技术可以使用监督式机器学习网络。

用于改进晶圆制造的系统及方法。可以在制造工艺中的各个点对晶圆进行检查，以生成检查数据。可以使用检查数据和在制晶圆数据来识别缺陷模式和导致晶圆缺陷的工具和/或工艺。可以将检查数据堆叠以形成虚拟晶圆图，这些虚拟晶圆图将信号放大以更容易地检测...

本公开提供了包括光学耦合到未知结构的感兴趣结构(SOI)的样本的光学测量，该光学测量是通过从所得光谱信号提取与关联于该SOI的关键参数相关的光谱变化并且从未知结构去除与这些关键参数无关的光谱变化来以光学方式进行测量的。离线过程用于在从这...

使用从器件测得的信号和从多个校准目标确定的对套刻的信号响应来确定该器件的套刻

使用聚焦系统将来自光学计量设备的光聚焦到样本上的测量斑中。该聚焦系统使用从该测量斑反射的光的图像来确定该样本的期望位置处的最佳焦点位置。该聚焦系统选择反射光的诸如偏振状态或波长的特性以用于聚焦。该反射光的被选择用于确定焦点位置的该特性受...

一种光学计量装置使用具有方位角变化偏振状态和/或相位状态的多波长光束(称为涡旋光束)。该计量装置在大范围的入射角内将涡旋光束聚焦在待测样本上。该计量装置可以检测从样本反射的涡旋光束的图像，并且根据入射角和方位角测量返回光的偏振状态，该偏...

本公开涉及高混合半导体制造中的深度学习模型。公开了用于将神经网络深度学习模型应用于针对诸如沉积、化学机械抛光(CMP)、蚀刻、光刻、电镀等高混合半导体制造的制造策略的技术。描述了制造策略的训练模式和正常操作模式。式。式。

随着半导体芯片的特征尺寸缩小，光刻过程中需要各层之间更严格的套刻。这意味着可能需要更先进且更大的套刻校正来确保裸片被正确制造成芯片，尤其是在重新建构的衬底中，在该衬底中，该裸片可在形成该衬底的过程中移位。提供了用于校正光刻过程中的这些套...

用于诸如通过表征样本的图案化特征或结构来检测或表征样本的系统和方法。在一个方面，本技术涉及一种用于表征样本的图案化结构的方法。该方法包括将泵浦光束引导到样本的表面上的第一位置以在样本中诱导表面声波，以及将探测光束引导到样本上的第二位置，...

一种计量目标被设计用于测量待测装置中的沟槽的底部处的特征，诸如三维(3D)NAND中的字线中的钨凹陷部竖直轮廓。该计量目标遵循该待测装置的设计规则，并且包括层叠堆叠，该层叠堆叠具有多个层叠堆叠对以及延伸穿过这些层叠堆叠对的沟槽，每个层叠...

本发明提供了一种椭圆偏振仪，该椭圆偏振仪使用宽带光源和菲涅耳锥体来产生同时宽带偏振状态发生器，而没有移动部件。该椭圆偏振仪的该检测器包括衍射元件，以在空间上分离来自该样本的光的波长。这些波长可以在空间上充分地分离使得在由二维传感器成像时...

本公开涉及透明膜堆叠的光声测量。一种非破坏性光声计量装置检测膜堆叠中不均匀性的存在和位置，该膜堆叠包括大量透明层，例如50个透明层或更多。该膜堆叠的底部处的换能器层响应于激发束而产生声波。探测束从该膜堆叠的层界面和该声波被反射以产生干涉...

本申请公开了一种用于半导体计量或检测系统的阻尼器，该阻尼器包括一对平行板，其中在板之间保持有粘度可变的流体。至少一条导线设置在这些板之间，这些板可包括一组或多组凸台和凹槽。在一些具体实施中，两个板均包括相互啮合的凸台和凹槽。控制器被配置...

椭圆偏振仪包括聚焦系统，该聚焦系统使用测量斑的图像确定用于椭圆偏振仪的最佳焦点位置。聚焦信号通过在由偏振器分析信号之前分离椭圆偏振仪测量斑来产生，从而避免对具有调制强度的该斑进行成像。该聚焦信号在传感器阵列上成像，并且基于该斑在该传感器...

使用从干涉仪中的干涉通道和偏振修改通道采集的数据来检测缺陷。干涉物镜将偏振照明束分成参考照明和样品束，该参考照明由参考表面反射而不修改偏振，并且该样品束由样品表面反射而可能修改偏振。来自具有无偏振变化的该样品束的光与该参考照明组合并且被...

通过无损系统和方法测量或检测样本。多个光脉冲从光源发射。这些光脉冲被分离成泵浦脉冲和探测脉冲。第一探测脉冲在第一泵浦脉冲到达样本的表面之后的第一持续时间之后到达该表面。第二泵浦脉冲在该第一探测脉冲之后的持续时间之后到达该表面。当该第二泵...

一种干涉仪，其使用相移掩模，该相移掩模包括的像素阵列与检测器的对应像素阵列对准。该相移掩模中的每个像素适于产生测试光束和参考光束之间的多个预定相移中的一个预定相移。例如，该像素可为线性偏振器或相位延迟元件，其具有该多个偏振器取向或相位延...