干涉缺陷检查中的样品表面偏振修改制造技术

使用从干涉仪中的干涉通道和偏振修改通道采集的数据来检测缺陷。干涉物镜将偏振照明束分成参考照明和样品束，该参考照明由参考表面反射而不修改偏振，并且该样品束由样品表面反射而可能修改偏振。来自具有无偏振变化的该样品束的光与该参考照明组合并且被引导到该干涉通道，其可测量样品的反射率和/或形貌。来自具有修改的偏振的该样品束的光被引导到该偏振修改通道。在该偏振修改通道处检测到的光的强度可与该反射率和形貌数据一起使用以识别该样品的缺陷或其它特性。别该样品的缺陷或其它特性。别该样品的缺陷或其它特性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】干涉缺陷检查中的样品表面偏振修改
[0001]相关专利申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年9月25日提交的标题为“干涉缺陷检查中的样品表面偏振修改(SAMPLE SURFACE POLARIZATION MODIFICATION IN INTERFEROMETRIC DEFECT INSPECTION)”的第62/906,055号美国临时申请和2020年7月13日提交的标题为“干涉缺陷检查中的样品表面偏振修改(SAMPLE SURFACE POLARIZATION MODIFICATION IN INTERFEROMETRIC DEFECT INSPECTION)”的第16/927,571号美国非临时申请在35USC 119下的优先权，该美国临时申请和美国非临时申请两者均全文以引用的方式并入本文。


[0003]本专利技术涉及使用表面形貌或反射率对样品(例如半导体晶片)的光学检查，以及对偏振修改的检测。

技术介绍

[0004]半导体和其它类似工业通常使用光学工具以用于在加工过程期间对样品的非接触评估。一种类型的评估是本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光学检查设备，所述光学检查设备被配置成检测样品上的缺陷，所述光学检查设备包括：干涉物镜，所述干涉物镜包括偏振分束器，所述偏振分束器被配置成接收被偏振的照明束并将所述照明束的第一部分朝向参考镜引导作为参考照明，并且被配置成将所述照明束的第二部分朝向所述样品引导作为样品照明，其中，所述参考镜被配置成反射所述照明束的第一部分，以产生反射参考照明，所述偏振分束器还被配置成从所述参考镜接收所述反射参考照明并且从所述样品接收反射样品照明，所述偏振分束器被配置成将所述反射样品照明的第一部分和所述反射参考照明组合为干涉束，所述干涉束沿着干涉通道引导，并且所述反射样品照明的第二部分沿着不同于所述干涉通道的偏振修改通道引导；第一检测器，所述第一检测器在所述干涉通道中且被配置成接收所述干涉束并且产生来自所述样品的第一组光学数据；第二检测器，所述第二检测器在所述偏振修改通道中，并且被配置成接收所述反射样品照明的第二部分并产生指示所述样品照明的偏振修改的第二组光学数据；和至少一个处理器，所述至少一个处理器耦合到所述第一检测器和所述第二检测器，并且被配置成使用所述第一组光学数据和来自所述第二组光学数据的偏振修改检测所述样品上的缺陷。2.根据权利要求1所述的光学检查设备，其中，所述干涉物镜是Linnik物镜或Michelson物镜中的一者。3.根据权利要求错误！参考源未找到所述的光学检查设备，还包括：第一四分之一波片，所述第一四分之一波片在所述偏振分束器与所述参考镜之间；和第二四分之一波片，所述第二四分之一波片在所述偏振分束器与所述样品之间。4.根据权利要求1所述的光学检查设备，还包括在所述偏振分束器与所述第一检测器之间的四分之一波片。5.根据权利要求1所述的光学检查设备，其中，所述至少一个处理器还被配置成使用所述干涉束的来自所述第一组光学数据的强度变化和来自所述第二组光学数据的偏振修改检测所述样品的区域处的偏振修改。6.根据权利要求5所述的光学检查设备，其中，所述样品的区域是第一区域，并且其中，所述样品的第二区域通过与所述样品的第一区域不同的量部分地修改所述样品照明的偏振，其中，所述至少一个处理器还被配置成使用所述干涉束的来自所述第一组光学数据、在所述第二区域中的强度变化以及来自所述第二组光学数据、在所述第二区域中的偏振修改检测所述样品的第二区域处的偏振修改。7.根据权利要求1所述的光学检查设备，其中，所述至少一个处理器还被配置成使用所述第一组光学数据和所述第二组光学数据检测所述样品的区域处的较低的反射率。8.根据权利要求7所述的光学检查设备，其中，所述至少一个处理器被配置成使用所述干涉束的来自所述第一组光学数据的强度减小和来自所述第二组光学数据的偏振修改检测所述样品的区域处的较低的反射率。9.根据权利要求1所述的光学检查设备，其中，所述第一检测器从所述干涉束接收所述样品的第一图像，并且所述第二检测器从所述样品照明的第二部分接收所述样品的第二图像。
10.根据权利要求1所述的光学检查设备，还包括：第二分束器，所述第二分束器将所述照明束朝向所述干涉物镜引导，并且沿着包括所述第二检测器的偏振修改通道引导所述反射样品照明的第二部分。11.一种检测样品上的缺陷的方法，所述方法包括：将被偏振的照明束的第一部分朝向参考镜引导作为参考照明，所述参考镜反射所述照明束的第一部分，以产生反射参考照明；将所述照明束的第二部分朝向所述样品引导作为样品照明，所述样品反射所述照明束的第二部分...

【专利技术属性】
技术研发人员：N，
申请(专利权)人：昂图创新有限公司，
类型：发明
国别省市：