装饰用转印膜及成型品制造技术

本发明专利技术提供装饰用转印膜及成型品，该转印膜使膜卷绕时的耐粘连性提高且使表面硬度提高，不引起剥离不良，能够稳定地进行转印。装饰用转印膜（10）是在支承膜（1）的表面依次层合脱模层（2）、第一硬涂层（3）、第二硬涂层（4）、底漆层（5）、装饰印刷层（6）、粘合层（7）而形成，第一硬涂层（3）是含有分子量为4万以上的具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的第一丙烯酸树脂、第一紫外线聚合引发剂、粒径在10nm以上且低于100nm的范围内的第1二氧化硅粒子的紫外线硬化组合物，第二硬涂层（4）是含有分子量为4万以上的具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的第二丙烯酸树脂、第二紫外线聚合引发剂、第一异氰酸酯化合物的紫外线硬化组合物。

【技术实现步骤摘要】
装饰用转印膜及成型品
本专利技术涉及装饰用转印膜及成型品，特别涉及具有保存稳定性及稳定的转印性的装饰用转印膜及使用该转印膜的成型品。
技术介绍
以往，作为对耐划伤性、耐化学性等优良的表面进行转印后得到的转印膜，提出以下转印膜，即在脱模膜的脱模面上设置由紫外线硬化性树脂构成的表面保护层，并在其上设置装饰印刷层、粘合层等（专利文献1）。上述具有耐划伤性表面保护层的装饰用转印膜大多用于以下目的：即保护以聚碳酸酯树脂为代表的软塑料的表面的目的以及装饰目的。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利第2538479号专利文献2：日本特开2009-137219号公报
技术实现思路
仅使用以往的紫外线硬化树脂，表面强度是有极限的，已尝试了通过添加无机物来提高表面强度。在专利文献2中提出以下方案：以由活性能量线硬化树脂、胶态二氧化硅（纳米二氧化硅）、多官能异氰酸酯组成的树脂作为表面保护层，由此来提高表面强度和抑制箔片毛边。但是，在上述转印膜的情况下，在剥离界面即表面保护层中添加异氰酸酯化合物时，由于脱模层和表面保护层的粘附性增加，因此剥离性能显著下降，并且在转印时容易发生剥离不良。因此，如专利文献1那样，为了同时改善转印时的模具跟踪性（即，膜的延展）和硬涂层的硬度，大多使用半硬化的紫外线硬化树脂或未反应的高分子型紫外线硬化树脂。但是，在此种情况下，在膜卷绕时容易引起粘连（blocking），并且保存稳定性很不稳定。本专利技术为了解决上述问题，进行了深入研究，其目的在于，提供一种装饰用转印膜及使用该膜进行成型而得到的成型品，所述装饰用转印膜在膜卷绕时的耐粘连性提高，并且表面硬度也容易提高，能够在不引起剥离不良的情况下进行稳定的转印。本专利技术的第一种方式是一种装饰用转印膜，所述转印膜是通过在支承膜的一个表面上依次层合脱模层、第一硬涂层、第二硬涂层、底漆层、装饰印刷层、粘合层而形成，并且在转印后通过紫外线使其硬化，其特征在于，该第一硬涂层是至少含有分子量为4万以上的具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的第一丙烯酸树脂、通过紫外线照射使其开始进行聚合反应的第一紫外线聚合引发剂、粒径在10nm以上且低于100nm的范围内的第1二氧化硅粒子的紫外线硬化组合物，该第二硬涂层是至少含有分子量为4万以上的具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的第二丙烯酸树脂、通过紫外线照射使其开始进行聚合反应的第二紫外线聚合引发剂、第一异氰酸酯化合物的紫外线硬化组合物。本专利技术的第二种方式是一种装饰用转印膜，其特征在于，所述第二硬涂层含有第2二氧化硅粒子，与所述第一硬涂层中含有的所述第1二氧化硅粒子相比，所述第2二氧化硅粒子的粒径更大且含量更少。本专利技术的第三种方式是一种装饰用转印膜，其特征在于，相对于该第一硬涂层中含有的所述第一丙烯酸树脂的含量，所述第一硬涂层中含有的所述第1二氧化硅粒子的含量在10重量%以上且低于40重量%的范围内。本专利技术的第四种方式是一种装饰用转印膜，其特征在于，所述脱模层含有丙烯酸多元醇、硅氧烷改性丙烯酸树脂和第二异氰酸酯化合物。本专利技术的第五种方式是一种装饰用转印膜，其特征在于，在所述支承膜的与形成有所述脱模层的面相反一侧的面上，形成有防静电层。本专利技术的第六种方式是一种成型品，其特征在于，通过注塑成型或加热转印，转印有上述方式的装饰用转印膜。根据本专利技术，能够提供一种转印膜，该转印膜与以往的转印膜相比较，在膜卷绕时的耐粘连性提高，并且表面硬度也容易提高，能够在不引起剥离不良的情况下进行稳定的转印。附图说明图1是本专利技术的实施方式的装饰用转印膜的剖视图。符号的说明1…支承膜、2…脱模层、3…第一硬涂层、4…第二硬涂层、5…底漆层、6…装饰印刷层、7…粘合层、8…防静电层、10…装饰用转印膜具体实施方式以下参照附图，对本专利技术的实施方式之一进行详细说明。需要说明的是，在各图中，对发挥相同或类似功能的构成要件标记相同的参照符号，并省略重复说明。图1是本专利技术的实施方式的装饰用转印膜（以下也简称为“转印箔”）10的剖视图。该转印箔10是在转印后通过紫外线使其硬化的类型的转印箔。如图1所示，转印箔10包括依次层合支承膜1、脱模层2、第一硬涂层3、第二硬涂层4、底漆层5、装饰印刷层6、粘合层7而形成的层合体。另外，在与支承膜1的形成有脱模层2的面相反一侧的面上，形成防静电层8。此外，通常情况下，装饰印刷层6是多层，根据情况，可以进行压纹加工（embossingprocess）或者还加入珠光颜料（pearlpigment）等具有光学效果的装饰材料。以下对构成转印箔10的上述各层进行说明。作为支承膜1，例如可以使用聚对苯二甲酸乙二酯膜、聚萘二甲酸乙二酯膜、聚丙烯膜、聚乙烯膜、三乙酰纤维素膜、聚碳酸酯膜、尼龙膜、赛璐玢膜、丙烯酸膜之类的基材。作为可使用的膜厚，可以在25μm～150μm的范围内，但是在38μm～50μm范围内的厚度是最佳的。对于脱模层2，自后述的第一硬涂层3的剥离性是最重要的，但由于还需要耐热性、耐溶剂性、终饰性、延展性，所以优选硬化树脂。因此，作为脱模层2，例如可以使用三聚氰胺树脂、聚烯烃树脂、聚氨酯树脂、醋酸纤维素等硬化物。其中，通常大多使用利用了三聚氰胺树脂的脱模层，但是，利用了三聚氰胺树脂的脱模层需要进行高温烧结工艺（140℃～200℃），且产生并含有有害的甲醛。本专利技术人基于该情况，进行了深入研究，结果发现，以含有丙烯酸多元醇、硅氧烷改性丙烯酸树脂、异氰酸酯化合物的硬化物作为脱模层2是最佳的。对脱模层2的厚度没有特别限制，但0.1μm～3μm范围内的厚度是最佳的。第一硬涂层3优选是由树脂构成的层，所述树脂在转印前为无粘性（tack-free）的状态，并在转印到被转印物上后，能够通过照射紫外线或电子束进行交联。转印后进行交联的原因在于，该转印箔10大多被用于注塑成型或加热转印法，但是如果预先进行交联，则在转印的延伸时容易产生裂缝，导致外观不良。作为转印前实现无粘性的方法，主要有以下三种方法。第一种方法是使用高分子型丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的方法。第二种方法是，利用异氰酸酯/多元醇树脂或环氧树脂/胺类等的交联体系，使液体状或半液体状的紫外线硬化树脂稍微硬化后，变成无粘性的方法。第三种方法是少量照射紫外线或电子束后而变成半硬化状态的方法。本实施方式中使用第一种方法。原因在于，在第二种方法中，第一硬涂层3与脱模层2的粘附性过高，导致作为转印箔的剥离性不充分。另一方面，在第三种方法中，紫外线照射机和电子束照射机的强度不均、再现性会成为问题，而且工艺成本较高。另外，在第一种方法的情况下，为了实现无粘性并且在注塑成型时树脂不流动，优选使用分子量为4万以上、且玻璃化转变温度为60℃以上的含有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的丙烯酸树脂。但是，由于是高分子，所以存在紫外线硬化性差的倾向，为了弥补表面硬度差而需要添加纳米二氧化硅粒子。相对于丙烯酸树脂，添加量低于10重量%时，对硬度没有效果。而添加量为40重量%以上时，变得过脆，导致耐磨性差。最佳添加量为，相对于丙烯酸树脂在10重量%以上且低于40重量%的范围。为了维持透明性，第一硬涂层3的二氧化硅粒子的粒径优选在10nm以上且低于100nm的范围内。在第一硬涂层3中不使用粒径为100nm以上的二氧化硅粒子，不仅是为了防止内部散射，还为了本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种装饰用转印膜，其是通过在支承膜的一个表面上依次层合脱模层、第一硬涂层、第二硬涂层、底漆层、装饰印刷层、粘合层而形成，并在转印后通过紫外线使其硬化，其特征在于，所述第一硬涂层是至少含有以下物质的紫外线硬化组合物：分子量为4万以上的具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的第一丙烯酸树脂；通过紫外线照射使其开始进行聚合反应的第一紫外线聚合引发剂；粒径在10nm以上且低于100nm的范围内的第1二氧化硅粒子，所述第二硬涂层是至少含有以下物质的紫外线硬化组合物：分子量为4万以上的具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的第二丙烯酸树脂；通过紫外线照射使其开始进行聚合反应的第二紫外线聚合引发剂；第一异氰酸酯化合物。

【技术特征摘要】
2012.03.12 JP 2012-0548511.一种装饰用转印膜，其是通过在支承膜的一个表面上依次层合脱模层、第一硬涂层、第二硬涂层、底漆层、装饰印刷层、粘合层而形成，并在转印后通过紫外线使其硬化，其特征在于，所述第一硬涂层是至少含有以下物质的紫外线硬化组合物：分子量为4万以上的具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的第一丙烯酸树脂；通过紫外线照射使其开始进行聚合反应的第一紫外线聚合引发剂；粒径在10nm以上且低于100nm的范围内的第1二氧化硅粒子，所述第二硬涂层是至少含有以下物质的紫外线硬化组合物：分子量为4万以上的具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的第二丙烯酸树脂；通过紫外线照射使其开始进行聚合反应的第二紫外线聚合引发剂；第一异氰酸酯化合物。2.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：渡边学，
申请(专利权)人：凸版印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：