用于真空工艺的阀制造技术

公开了一种用于真空工艺的阀，该阀包括：第一阀体，具有入口和出口；密封单元，构造成向前移动至入口和从入口向后移动，以具有闭合位置和打开位置；轴，由波纹管覆盖，并构造成使密封单元在闭合位置与打开位置之间移动；盖，用于在密封单元处于打开位置时使波纹管避开腐蚀性气体；和盖引导单元，构造成引导盖沿着轴移动。

【技术实现步骤摘要】
用于真空工艺的阀
下面的描述涉及一种用于真空工艺的阀，其根据半导体制造工艺中的阶段来控制真空度。
技术介绍
真空系统用于制造半导体器件。在化学气相沉积(CVD)系统中，当为腔室内的气体提供能量以成为等离子态时，腔室内的晶片中发生反应，薄膜形成在晶片上。工艺中产生的多余的反应物通过泵和管道排出。这些真空系统包括用于控制泵和管道的真空度的阀。因此，外来物质因腐蚀性气体而沉积在阀内，这可能减少装置的使用寿命，甚至导致泵出现严重的问题。
技术实现思路
本专利技术实施例的目的是提供一种用于真空工艺的阀，其使外来物质在打开状态下在阀部件上的沉积最小化。本专利技术实施例的另一目的是提供一种用于真空工艺的阀，其使轴在向后或向前运动期间的偏斜最小化。为了实现依照这些目的的这些或其它优点，提供一种用于真空工艺的阀，其包括 第一阀体，具有入口和出口 ；密封单元，构造成向前移动至入口和从入口向后移动，以具有闭合位置和打开位置；轴，由波纹管覆盖，并构造成使密封单元在闭合位置与打开位置之间移动；盖，用于在密封单元处于打开位置时使波纹管避开腐蚀性气体；和盖引导单元，构造成引导盖沿着轴移动。密封单元可以联接到盖的一端，并且盖引导单元可以插入到盖的相反端。用于真空工艺的阀还可包括第二阀体，联接到第一阀体，以支撑轴和盖引导单兀。盖引导单元可以包括引导构件，插入到盖的相反端；第一引导环，位于引导构件的前部，从而当盖沿着轴移动时引导盖；和第一密封环，位于引导构件的后部，从而当密封单元处于打开位置时密封盖。引导构件的前部可以联接到波纹管，并且引导构件的后部可以联接到第一阀体的端部凸缘。第一引导环沿着其周向方向可以包括多个切口部，从而当密封单元移动至打开位置时排出盖内的气体。盖可以具有用于与第一密封环接触的圆斜切边。用于真空工艺的阀还可包括活塞，联接到轴的后端，从而通过气动压力使轴移动。用于真空工艺的阀还可包括第二引导环，安装在活塞的外周表面上，从而沿着第二阀体的内表面直线地引导活塞；和第二密封环，安装在活塞的外周表面上，以密封第二阀体，其中，第二阀体的内表面具有圆柱形形状。第二引导环和第二密封环可以沿着轴的长度方向在活塞上间隔开。盖可以通过多个螺钉联接到密封单元，这些螺钉沿着盖的周边布置在径向方向上。波纹管可以包括一个接一个地焊接起来的多个子板。根据一个实施例，提供一种用于真空工艺的阀，其包括阀体，具有位于入口与出口之间的阀空间；轴组件，构造成具有闭合位置和打开位置，该轴组件包括轴，由阀体支撑，以向前移动至入口和从入口向后移动；密封单元，联接到轴的前端；波纹管，覆盖轴；和盖，构造成在波纹管根据密封单元的位置而变形时遮蔽波纹管；以及引导构件，安装在阀空间中，以沿着轴的移动方向引导盖。此外，用于真空工艺的阀的应用范围将从下面给出的详细描述中变得明显。然而， 应当理解，表示本专利技术优选实施例的详细描述和具体示例仅仅是用于说明而给出，因为从该详细的描述出发，落入本专利技术的精神和范围内的各种改变和变型对于本领域技术人员是显然的。附图说明图1是使用根据示例性实施例的用于真空工艺的阀的真空系统的示意性框图。图2是根据示例性实施例的用于真空工艺的阀的横截面图。图3是根据示例性实施例的轴组件的横截面图。图4是根据示例性实施例的第一引导环的正视图。图5是根据示例性实施例的第二阀体的横截面图。图6是示出根据示例性实施例的活塞的横截面图。图7是示出图2的用于真空工艺的阀的打开状态的横截面图。具体实施方式下面，参照附图详细描述根据示例性实施例的用于真空工艺的阀。图1是使用根据示例性实施例的用于真空工艺的阀的真空系统的示意性框图。图 1示出工艺室11、涡轮分子泵(TMP) 12和干泵13。当为腔室内的气体提供能量以成为等离子态时，腔室内的晶片中发生反应，薄膜形成在晶片上。薄膜形成工艺中产生的多余的反应物通过涡轮分子泵12和管道14排出。 用于真空工艺的第一阀100安装在工艺室11与干泵13之间。用于真空工艺的第二阀100' 安装在涡轮分子泵的下游。用于真空工艺的第一阀100也可以被称为“隔离阀”。设置在涡轮分子泵12的下游的用于真空工艺的第二阀100'也可以被称为“涡轮隔离阀”。作为图1的示例性实施例，用于真空工艺的第一阀100、100'可以应用于其它装置，例如用于控制加载互锁真空室(load lock chamber)的真空度的装置。图2是根据示例性实施例的用于真空工艺的阀的横截面图。如图2所示，用于真空工艺的阀100包括具有入口 112和出口 113的第一阀体110、 以及用于有选择地打开或闭合入口 112的机构。打开和闭合机构包括轴122、密封单元121、 波纹管123、盖130和盖引导单元140。第一阀体110在内部具有阀空间111。轴组件120(参见图3)安装在该阀空间111 中。联接孔110-1形成在入口 112的相对侧。用于支撑轴122和盖引导单元140的第二阀体150紧固到联接孔110-1。入口 112联接到腔室(未示出)，出口 113联接到泵(未示出)。入口 112和出口 113可以设置成在阀体110上具有不同的角度。参照图2，入口 112 和出口 113以直角彼此相交。轴122延伸出壳体150，从而从入口 112向后直线移动或向前直线移动至入口 112。下面参照图5描述用于支撑轴122的第二阀体150的构造。活塞170联接到轴122 的后部，从而使轴122直线地移动。下面参照图6详细描述活塞170的构造。密封单元具有“闭合位置”和“打开位置”。在闭合位置中，密封单元121与入口 112接触，以构成使入口 112关闭的闭合状态。在打开位置中，密封单元121与入口分离，以构成使入口 112打开的打开状态。与入口 112接触以固定入口 112的0形圈125设置在密封单元121的前部。密封单元121联接到轴122的前部，并通过轴122行进至入口 112或从入口 112 返回。因插入到轴122中的弹簧126的弹性，密封单元121保持闭合状态。通过设置在轴 122的后部的活塞170的压力，轴122被迫向后移动，从而实现密封单元121的打开状态。轴122由波纹管123覆盖，从而当入口 112打开时保护轴122不受到腐蚀性气体的侵蚀。波纹管123可以构造成通过焊接多个子板而模制出的“板型波纹管”。当收缩时， 板型波纹管的长度比通过铸造而模制且具有连续的环形截面的形式的“模制波纹管”的长度短。板型波纹管可以提供用于安装的宽空间以及密封单元121的打开状态和闭合状态之间的足够距离，即，足以使其松弛至密封单元121的冲程的距离。由于下面描述的盖引导单元140减小了波纹管123的安装长度，因此可以有效地使用板型波纹管。辅助口 105可以设置在阀体110中，从而在入口 112关闭的状态下，减小连接到入口 112的管道与阀100内的阀空间111之间的真空度差。一些真空系统中可以不包括辅助 Π 105。图3是示出盖安装在轴组件上的横截面图。轴组件120包括密封单元121、轴122和波纹管123。轴组件120的一端由第一阀体110支撑(可以理解为“悬臂型”)。轴122延伸出壳体150，从而由第二阀体150引导。 由于第二阀体150紧固到第一阀体110，因此轴组件120在第一阀体110本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：李东民，
申请(专利权)人：李东民，
类型：发明
国别省市：