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公开了一种用于真空工艺的阀，该阀包括：第一阀体，具有入口和出口；密封单元，构造成向前移动至入口和从入口向后移动，以具有闭合位置和打开位置；轴，由波纹管覆盖，并构造成使密封单元在闭合位置与打开位置之间移动；盖，用于在密封单元处于打开位置时使波...
该专利属于李东民所有，仅供学习研究参考，未经过李东民授权不得商用。

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