铝制品及其制备方法技术

本发明专利技术提供一种铝制品，包括铝基体及形成于该铝基体上的无色透明真空镀膜层，该铝基体包括经化学蚀刻形成的多孔表面，该多孔表面分布有多个纳米孔，所述纳米孔的深度分布在20～300nm范围内，该真空镀膜层形成于该多孔表面上。该铝制品表面呈现多种颜色。本发明专利技术还提供一种上述铝制品的制备方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种。
技术介绍
铝及铝合金因其质轻以及优良的机械加工性能，使得铝及铝合金被广泛地应用于各种家用电器、汽车、电子产品的外壳。为了获得较好的外观效果，通常通过阳极氧化、电泳涂装、喷漆等表面装饰处理在铝或铝合金产品表面形成某种颜色的装饰层，然而，经上述处理获得的装饰层的颜色通常是固定不变的，缺乏变化和多样性。随着消费水平的提高，这种外观已经不能满足消费者对这些产品的外观追求。
技术实现思路
有鉴于此，有必要提供一种颜色多变、具有较佳装饰效果的铝制品。另外，有必要提供一种上述铝制品的制备方法。一种铝制品，包括铝基体及形成于该铝基体上的无色透明真空镀膜层，该铝基体包括经化学蚀刻形成的多孔表面，该多孔表面分布有多个纳米孔，所述纳米孔的深度分布在20 300nm范围内，该真空镀膜层形成于该多孔表面上。一种铝制品的制备方法，包括如下步骤提供铝基体；化学蚀刻处理，以使该铝基体形成多孔表面，该多孔表面分布有多个纳米孔，所述纳米孔的深度分布在20 300nm范围内，孔径分布在30 250nm范围内；真空镀膜处理，以于该多孔表面形成一层无色透明的真空镀膜层。相较于现有技术，上述铝制品先通过化学蚀刻处理在该铝基体上形成多孔表面， 再通过真空镀膜方法于该多孔表面形成该无色透明的真空镀膜层。由于多孔表面分布有所述纳米孔，使该真空镀膜层在不同的位置具有不同的厚度，即真空镀膜层于所述纳米孔处的厚度大于未形成纳米孔处的厚度。在光的照射下，不同厚度的真空镀膜层对光线的反射与折射的光程差不同，因此不同位置处的真空镀膜层可形成不同颜色的干涉光，使得同一铝制品表面呈现多种颜色，具有较佳的装饰效果。该铝制品的制备方法工艺简单。附图说明图1为本专利技术较佳实施例的铝制品的剖视示意图。主要元件符号说明铝制品100铝基体10多孔表面12纳米孔1223真空镀膜层30具体实施例方式请参阅图1，本专利技术较佳实施例的铝制品100包括铝基体10及形成于铝基体10上的一层无色透明的真空镀膜层30。铝基体10的材料为纯铝或铝合金。铝基体10包括经化学蚀刻形成的多孔表面12，该多孔表面12上分布有多个纳米孔122。所述纳米孔122的孔径分布在30 250nm范围内，较佳为30 150nm。纳米孔 122的深度分布在20 300nm范围内，较佳为20 lOOnm。该真空镀膜层30形成于铝基体10的多孔表面12上。由于多孔表面12分布有所述纳米孔122，真空镀膜层30将所述纳米孔122部分或完全填充，使真空镀膜层30在不同的位置具有不同的厚度，即真空镀膜层30对应于纳米孔122位置的厚度大于未形成纳米孔 122位置的厚度。真空镀膜层30可以由金属、金属氧化物或非金属氧化物形成，其中金属可以为钛、铬、铝、锌及锆等，金属氧化物可以为钛、铬、铝、锌及锆的氧化物，非金属氧化物可以为二氧化硅。当真空镀膜层30由所述金属形成时，其厚度在50 150nm范围内，其厚度为150nm以下时，真空镀膜层30接近无色透明，超过150nm时，真空镀膜层30自身的颜色在肉眼观察下开始变得较为明显。当真空镀膜层30由所述金属氧化物或非金属氧化物形成时，其厚度在50nm至2 μ m范围内。上述铝制品100在形成该真空镀膜层30前，具有多孔表面12的铝基体10为铝材原色。当多孔表面12形成该真空镀膜层30后，由于多孔表面12分布有所述纳米孔122，使真空镀膜层30在不同的位置具有不同的厚度，即真空镀膜层30于纳米孔122处的厚度大于未形成纳米孔122处的厚度。在光的照射下，不同厚度的真空镀膜层30对光线的反射与折射的光程差不同，因此不同位置处的真空镀膜层30可形成不同颜色的干涉光，使得同一铝制品100表面呈现多种颜色。上述铝制品100的制备方法，包括如下步骤首先，提供该铝基体10。对铝基体10进行预处理。预处理包括对铝基体10除油及化学抛光。其中，所述除油步骤可以用丙酮清洗大约5分钟后，于乙醇中超声振动大约30min，然后用水清洗。所述化学抛光所用抛光液可以用体积比为8 1 1的磷酸(质量浓度为85%)、硝酸和水的混合溶液，抛光时抛光液温度在70 80°C之间，抛光时间大约为5分钟。对经上述预处理的铝基体10进行化学蚀刻处理，以在铝基体10上形成所述多孔表面12。该化学蚀刻处理的条件为以含20 50g/L三氯化铁和4. 2 5. 4mol/L盐酸的水溶液为蚀刻液，蚀刻液温度为20 40°C，蚀刻时间为3 15秒，蚀刻过程中可对蚀刻液进行搅拌。经上述化学蚀刻处理形成的多孔表面12形成所述多个纳米孔122。对经化学蚀刻的铝基体10进行真空镀膜处理，以在该多孔表面12形成该无色透明的真空镀膜层30。该真空镀膜方法可采用溅镀、蒸镀或离子镀。该步骤具体工艺可采用相应方法的常规镀膜工艺，镀膜过程中通过控制镀膜时间来控制真空镀膜层30的厚度在所述范围内，以保证该真空镀膜层30为无色透明。上述铝制品的制备方法在形成无色透明的真空镀膜层30前，先通过化学蚀刻处理在铝基体10表面形成多孔表面12，由于多孔表面12分布有所述纳米孔122，使真空镀膜层30在不同的位置具有不同的厚度，在光的照射下，不同厚度的真空镀膜层30对光线的折射与反射产生的光程差不同，不同的光程差可产生不同颜色的干涉光。因此，不同位置处的真空镀膜层30能产生不同颜色的干涉光，使得同一铝制品呈现多种颜色，具有较佳的装饰效果。该铝制品的制备方法工艺简单。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种铝制品，包括铝基体及形成于该铝基体上的无色透明真空镀膜层，其特征在于 该铝基体包括经化学蚀刻形成的多孔表面，该多孔表面分布有多个纳米孔，所述纳米孔的深度分布在20 300nm范围内，该真空镀膜层形成于该多孔表面上。2.如权利要求1所述的铝制品，其特征在于所述纳米孔的孔径分布在30 250nm范围内。3.如权利要求1所述的铝制品，其特征在于该真空镀膜层由金属形成。4.如权利要求3所述的铝制品，其特征在于所述金属为钛、铬、铝、锌及锆中的一种。5.如权利要求3所述的铝制品，其特征在于所述真空镀膜层的厚度为50 150nm。6.如权利要求1所述的铝制品，其特征在于所述真空镀膜层由金属氧化物或者二氧化硅形成。7.如权利要求6所述的铝制品，其特征在于所述金属氧化物为铬、铝、锌及锆的氧化物中的一种。8.如权利要求6所述的铝制品，其特征在于所述真空镀膜层的厚度为50nm至2μm。9.一种铝制品的制备方法，包括如下步骤提供铝基体；化学蚀刻处理，以使该铝基体形成多孔表面，该多孔...

【专利技术属性】
技术研发人员：张新倍，陈文荣，蒋焕梧，陈正士，徐华阳，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：