【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及药物,特别是具有抗真菌活性的新型多肽化合物或其制药学上允许的ΠΤ . ο
技术介绍
真菌所致的感染症大致分为由皮肤的感染所致的浅层皮肤真菌病(毛癣菌等)和 由呼吸系统或经口的感染所致的深部真菌病(念珠菌、曲霉菌等)。深部真菌病在有免疫不 全或抗癌剂给药等各种危险因子的患者中发病,并且常常可见一旦发病即变得难以治疗、 预后不良的情况。特别是侵袭性肺曲霉病发病时,其死亡率在全部疾患中为58%,特别是在 骨髓移植患者中还达到87%。但是,有效的治疗手段或药品少,且即便是作为标准药品的 伏立康唑(Voriconazole)或两性霉素B脂质体(Ambisome),有效率也低,为60%以下。因 此,新型的具有强效活性的抗真菌剂受到需求。已知有数种具有抗真菌活性的多肽化合物(例如,专利文献1 7),专利文献1中 公开了下述化合物。[化1] (式中,R1表示可被取代的芳基。)[专利文献1]国际公开W02004/113368号小册子[专利文献2]国际公开W001/60846号小册子[专利文献3]国际公开W000/64927号小册子[专利文献4]国际公开W099/40108号小册子 [专利文献5]国际公开W003/068807号小册子[专利文献6]美国专利US5569646号[专利文献7]国际公开W02005/005463号小册子
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术的课题是提供具有抗菌活性(特别是抗真菌活性)的新型化合物。解决课题的方法专利技术人等对具有抗真菌活性的新型多肽化合物进行了深入研究,结果发现式(I) 的化合物显示良好的抗真菌活性,该化合物的特 ...
【技术保护点】
式(Ⅰ)的化合物或其制药学上允许的盐,[化11]***(Ⅰ)式中的符号表示以下的含义,R↑[1]:-CO-NR↑[5]R↑[6]、-R↑[00]-NR↑[5]R↑[6]、-CO-(含氮杂环)或-NH-R↑[00]-NR↑[5]R↑[6];R↑[5]和R↑[6]:相同或相互不同,为H、R↑[0]、R↑[A]或R↑[B];R↑[A]:可被1~3个羟基取代的低级烷基;R↑[B]:可被选自-NH↓[2]、-NHR↑[0]和-N(R↑[0])↓[2]的1~3个基团取代的低级烷基;R↑[2]:H、-S(O)↓[2]-OH、R↑[0]、R↑[A]、R↑[B]或-R↑[00]-NH-R↑[00]-OH;R↑[4]:H或-OH;R↑[7]:相同或相互不同,为H、R↑[0]或-R↑[00]-OR↑[0];R↑[9]:单键;R↑[13]和R↑[14]:各自相同或相互不同,为H或R↑[0];E环:下述式(Ⅱ)、(Ⅲ)、(Ⅳ)、(Ⅴ)或(ⅩⅧ)所示的基团,[化12]***X:CH或N;R↑[8]:相同或相互不同,为H、R↑[0]、-NH↓[2]、-N(R↑[0])↓[2]、-NHR↑[0]、-OH或-R↑[00 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2007-10-29 2007-280446式(I)的化合物或其制药学上允许的盐,[化11]式中的符号表示以下的含义,R1-CO-NR5R6、-R00-NR5R6、-CO-(含氮杂环)或-NH-R00-NR5R6;R5和R6相同或相互不同,为H、R0、RA或RB;RA可被1~3个羟基取代的低级烷基;RB可被选自-NH2、-NHR0和-N(R0)2的1~3个基团取代的低级烷基;R2H、-S(O)2-OH、R0、RA、RB或-R00-NH-R00-OH;R4H或-OH;R7相同或相互不同,为H、R0或-R00-OR0;R9单键;R13和R14各自相同或相互不同,为H或R0;E环下述式(II)、(III)、(IV)、(V)或(XVIII)所示的基团,[化12]XCH或N;R8相同或相互不同,为H、R0、-NH2、-N(R0)2、-NHR0、-OH或-R00-OR0;R10H、R0、-NH2、-N(R0)2、-NHR0、-OH或-R00-OR0;A环含氮杂环或苯基;R3下述式(VI)、(VII)、(VIII)或(XIX)所示的基团,[化13]B环、D环相同或相互不同、可被卤素取代的芳基;C环含氮杂环;R11和R12相同或相互不同,为选自H、R0、环烷基、-(环烷基)-R0、-R00-(环烷基)、-OR0、-O-(环烷基)、-O-(C2-10亚烷基)-OR0、-O-R00-(环烷基)、-(含氮杂环)-R00-(环烷基)、-(含氮杂环)-O-(环烷基)和-(含氮杂环)-O-R00-(环烷基)中的基团;R0低级烷基;R00低级亚烷基。FPA00001118575800011.tif,FPA00001118575800021.tif,FPA00001118575800022.tif1.B环、D环相同或相互不同、可被卤素取代的芳基;C环含氮杂环;R11和R12 相同或相互不同,为选自H、R°、环烷基、-(环烷基)-R0、-R00-(环烷 基)、-0R°、-0-(环烷基)、-0- (C2_10 亚烷基)-0R0、-0-R°°-(环烷基)、-(含氮杂环)-R00-(环 烷基)、_ (含氮杂环)-0-(环烷基)和-(含氮杂环)-0-R°°-(环烷基)中的基团;R° 低级烷基R00 低级亚烷基。2.权利要求1的化合物,其中,R1为-C0-NR5R6或-R00-NR5R6;R2为-S (0) 2_0H或R° ;R4为 H ;R7为H或R° ;R9为单键;E环为式(II)所示的基团;A环为单环的含氮杂环;R8为H或R°; R3为式(VII)或(VIII)所示的基团;B环和D环各自相同或相互不同,为单环的芳基;C环 为单环的含氮杂环;R11和R12各自相同或相互不同,为H、环烷基、-0-R0、(环烷基)、-(含 氮杂环)-0-(环烷基)或-(含氮杂环)-0-R00-(环烷基)。3.权利要求1 的化合物,其中,R1 为-C0-NH2、-CH2-NH2 或-CH2-NH-CH(CH20H)2 ;R2 为-S(0)2-OH或甲基;R4为II ;R7为H ;E环为环己烷二基;A环为噻二唑基或咪唑并噻唑基; R3为式(VII)所示的基团;B环和D环为苯基;C环的R11和R12均为下述式(XX)或(XXI:) 所示的基团,[化 14] R11和R12 一方为H或-0-(甲基),另一方为选自环己基、_0-(环己基)、-0-CH2-(环丁 基)、和4 (环己基氧基)哌啶-1 基中的基团。4. (3R) -3- { (2 R , 6 S , 1 1 R , 1 4aS , 1 5 S , 1 6 S,20 S , 2 3 S , 2 5 aS) -9-[((反 式-4-[5-(4-{2-[4-(环戊基甲基)哌嗪-1-基]嘧啶_5_基}苯基)-1,3,4_噻二唑-2-基] 环己基}甲基)氨基]_2,11,15-三羟基-6-[(lR)-l-羟基乙基]-23-[(lR)-l-羟 基-2-(4-羟基-3-甲氧基苯基)乙基]-16-甲基-5,8,14,19,22, 25 六氧二十四氢-1H-二 吡咯并[2,1-c:2' ,1' -1] [1,4, 7,10,13,1.6]六氮杂环二卜一碳炔-20-基)-3-羟基丙 酰胺二盐酸盐、(2R,6S,9S,11R,14aS,15S,16S,20S,23S,25aS)-9-{[(反式-4-{5-[4-(4-环己 基-4-甲氧基哌啶-1 基)苯基]-1,3,4 噻二唑-2-基}...
【专利技术属性】
技术研发人员:富岛昌纪,森川浩至,牧野拓也,今西正史,茅切奈津子,浅野亨,荒木威亘,中川俊哉,
申请(专利权)人:安斯泰来制药有限公司,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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