【技术实现步骤摘要】
一种结构陶瓷的抛光方法
[0001]本专利技术涉及抛光工艺
,尤其涉及一种结构陶瓷的抛光方法。
技术介绍
[0002]结构陶瓷属于一种缝隙均匀的陶瓷,具有优越的强度、硬度、绝缘性、热传导、耐高温、耐氧化、耐腐蚀、耐磨耗、高温强度等特点,结构陶瓷的加工方法中,抛光是重要工序,抛光通常包括粗抛、中抛、细抛和精抛等步骤,现有技术中,无论是粗抛、中抛、细抛还是精抛的步骤中,都是加入特定的单一粒径的磨球,使磨球与结构陶瓷表面撞击、摩擦接触,达到抛光目的,但是,磨球使用一段时间后,其粒径会逐渐减小,无法满足特定的粒径需求,特别是传统的细抛或精抛工艺中,需要大量单一粒径高达12mm的磨球,若磨球磨损导致粒径变小,则需要丢弃,更换新的磨球,因此产生高额的成本,如何通过结构陶瓷抛光方法的改进,在保证抛光效果不下降的情况下,降低用料成本是亟需解决的技术问题。
技术实现思路
[0003]本专利技术的目的在于提供一种结构陶瓷的抛光方法,在保证抛光效果不下降的情况下,降低用料成本。
[0004]为达成上述目的,本专利技术提供一种结构陶瓷的抛光方法,包括以下步骤:
[0005]步骤1:首先将多种粒径的氧化铝磨球按一定重量比混合,置于第一罐状滚筒内;接着加入研磨液,使研磨液没过磨球面,再加入钻石粉,最后将结构陶瓷放入第一罐状滚筒内,转动第一罐状滚筒,对结构陶瓷进行粗抛;
[0006]步骤2:将粗抛后的第一罐状滚筒进行过滤,取出结构陶瓷并过滤出一定比例的氧化铝磨球,所述氧化铝磨球的粒径对应减小,再按一定 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种结构陶瓷的抛光方法,其特征在于:包括以下步骤:步骤1:首先将多种粒径的氧化铝磨球按一定重量比混合,置于第一罐状滚筒内;接着加入研磨液,使研磨液没过磨球面,再加入钻石粉,最后将结构陶瓷放入第一罐状滚筒内,转动第一罐状滚筒,对结构陶瓷进行粗抛;步骤2:将粗抛后的第一罐状滚筒进行过滤,取出结构陶瓷并过滤出一定比例的氧化铝磨球,所述氧化铝磨球的粒径对应减小,再按一定比例加入步骤1中最大粒径的氧化铝磨球进行混合,置于第二灌状滚筒内;接着加入研磨液,使研磨液没过磨球面,再加入金刚砂,最后将粗抛后的结构陶瓷放入第二罐状滚筒内,转动第二罐状滚筒,对结构陶瓷进行中抛;步骤3:将中抛后的第二罐状滚筒进行过滤,取出结构陶瓷并过滤出一定比例的氧化铝磨球,将过滤后的所有氧化铝磨球置于第三灌状滚筒内;接着加入研磨液,使研磨液没过磨球面,再加入氧化锆粉,最后将中抛后的结构陶瓷放入第三罐状滚筒内,转动第三罐状滚筒,对结构陶瓷进行细抛;步骤4:将细抛后的第三罐状滚筒进行过滤,取出结构陶瓷并过滤出一定比例的氧化铝磨球,再按一定比例加入步骤3中最大粒径的氧化铝磨球进行混合,置于第四灌状滚筒内;接着加入研磨液,使研磨液平齐于磨球面,再加入氧化锆粉,最后将细抛后的结构陶瓷放入第四罐状滚筒内,转动第四罐状滚筒,对结构陶瓷进行精抛;步骤5:将精抛后的结构陶瓷使用蜡固定在研磨治具盘上,持续滴入二氧化硅研磨液,依次进行粗扫光研磨、中扫光研磨、细扫光研磨;步骤6:使用超声波清洗机将附着于结构陶瓷表面的蜡洗净,再用酒精擦洗后,得到抛光完成的结构陶瓷。2.如权利要求1所述的一种结构陶瓷的抛光方法,其特征在于:步骤1中的氧化铝磨球包括20号氧化铝磨球、15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球,并按1.4~1.6:1.4~1.6:0.9~1.1:0.9~1.1:0.7~0.8的重量比混合;步骤2中,所述第一罐状滚筒过滤出重量比为1.4~1.6:1.4~1.6:1.1~1.3:0.9~1.1:0.9~1.1的15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝磨球,再加入一定量的20号氧化铝磨球进行混合,使第二罐状滚筒内的20号氧化铝磨球、15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝磨球的重量比为0.9~1.1:1.4~1.6:1.4~1.6:1.1~1.3:0.9~1.1:0.9~1.1;步骤3中,所述第二罐状滚筒过滤出重量比为0.9~1.1:1.4~1.6:1.1~1.3:0.9~1.1:0.9~1.1:1.4~1.6的15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝、5号氧化铝磨球;步骤4中,所述第三罐状滚筒过滤出重量比为0.9~1.1:1.4~1.6:0.9~1.1:0.9~1.1:1.4~1.6:1.4~1.6的12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝、5号氧化铝磨球、3号氧化铝磨球,再加入一定量的15号氧化铝磨球进行混合,使第四罐状滚筒内的15号氧化铝...
【专利技术属性】
技术研发人员:王春堂,吴美和,
申请(专利权)人:泰斗高科新材料厦门有限公司,
类型:发明
国别省市:
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