一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，包括：真空箱体和位于所述真空箱体内的被镀件固定架、被镀件移动机构、溅射阴极、阴极运动机构；本发明专利技术相比于传统的平面镀膜装置，是两个零件两个表面同时进行磁控溅射镀膜，根据溅射基板的尺寸，可以增加环路磁铁数量，即增加电离子环状封闭跑道数，进而扩大溅射面积，提高生产效率。而且与传统平面溅射阴极相比，同等情况下阴极结构的体积缩小了。磁铁座上下面布置磁铁是为了形成环状封闭跑道，因此主要是在正反面上进行溅射工作。

A Vacuum Sputtering Coating Device for Large Curved Glass

【技术实现步骤摘要】
一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置
本专利技术真空磁控溅射镀膜
，特别涉及一种大尺寸曲面玻璃的表面镀膜装置。
技术介绍
真空镀膜技术具有很高的经济价值，可以用来改变工件表面抵抗氧化、腐蚀、磨损的性能，从而增加其使用寿命，同时在光学、电学、半导体薄膜器件的制备上也可以采用真空镀膜技术。目前，磁控溅射由于沉积速度快、基片温升低、溅射所获得的薄膜纯度高、致密性好、成膜均匀性好等优点，在表面镀膜领域被广泛应用。比如用在建筑上的大尺寸低辐射玻璃(又称为LOOW--E玻璃)，最低镀三层膜，最高级的镀七层膜，目前针对这种大型曲面玻璃的镀膜设备，未见有报导。常规磁控溅射阴极是在同一平面上溅射，真空箱体内气体电离出的离子只能轰击一面靶材，也就是说只有这一面的物质以分子或分子团的形式溅射出来并射向阳极基板，然后沉积在基板上。这种传统的溅射阴极体积较大，一面溅射使靶材利用率低，工作效率不高。常规的磁控溅射阴极往往通过绝缘密封框安装在真空箱体壁上，体积大，如果安装在真空腔的内部，占用空间非常大。常规的磁控溅射镀膜设备，很难实现对两个零件的一个内表面和一个外表面同时镀膜。常规磁控溅射镀膜装置，很难实现不同曲面的大尺寸玻璃内、外表面的同时镀膜。因此，如何提供一种能够灵活完成各种不同曲面产品的内、外面镀膜的真空溅射镀膜装置是本领域技术人员亟需解决的问题。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供了一种大型曲面玻璃表面镀膜装置，可以在阴极的两侧进行溅射镀膜，并同时对两个大型曲面玻璃一个内表面和一个外表面进行真空溅射镀膜，生产效率获得成倍提升。为了实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案：一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，包括：真空箱体和位于所述真空箱体内的被镀件固定架、被镀件移动机构、溅射阴极、阴极运动机构；所述被镀件固定架包括底架和夹持架，所述底架和所述夹持架均由不锈钢方管焊接而成；其中所述夹持架设置有两个，分别垂直连接在所述底架两侧，并且两个所述夹持架之间留有所述溅射阴极移动空间；所述夹持架顶部和底部分别设置有多个夹持滑轨，位于所述夹持架顶部的所述夹持滑轨上滑动设置有上夹持件，位于所述夹持架底部的所述夹持滑轨上滑动设置有下夹持件；所述被镀件移动机构包括安装在所述真空箱体底部的固定架滚珠丝杠机构和固定架滑轨，以及设置在所述固定架滑轨上的固定架滑块；所述固定架滑轨平行设置有两个，所述固定架滚珠丝杠机构位于两个所述固定架滑轨之间；所述固定架滑块和所述固定架滚珠丝杠机构的螺母均与所述底架的底部固定连接；所述固定架滚珠丝杠机构的丝杆传动连接有第一电机，在所述第一电机的驱动下，可实现所述被镀件固定架的往复移动；所述阴极运动机构包括安装在所述真空箱体内顶部的阴极滚珠丝杠机构和阴极移动滑轨，以及滑动设置所述阴极移动滑轨上的阴极移动滑板；所述阴极移动滑轨设置有两个，所述阴极滚珠丝杠机构安装在两个所述阴极移动滑轨之间；所述阴极移动滑板与所述阴极滚珠丝杠机构的螺母固定连接；所述阴极滚珠丝杠机构的丝杆传动连接有第二电机，在所述第二电机的驱动下可实现所述溅射阴极的往复移动；所述溅射阴极包括阴极支架、主框架、靶材、电极、磁铁座以及设置在所述磁铁座上的磁铁；所述主框架为前、后、上、下面开口且设置空腔的长方体结构，所述磁铁座位于所述主框架的空腔内，在所述主框架前、后、上、下面开口上安装所述靶材，将所述主框架的空腔进行封闭；所述主框架左右两侧面的顶部与所述阴极支架连接，所述阴极支架与所述阴极移动滑板固定连接；所述主框架的一侧面底部设置有与所述主框架空腔连通的软质进水管，所述主框架的另一侧面顶部设置有与所述主框架空腔连通的软质出水管；所述电极与所述主框架的一侧面电性连接。优选的，在上述一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置中，所述真空箱体顶部设置有外接电极，以及与所述真空箱体内腔连通的抽真空管和软质工艺气管；所述软质工艺气管一端伸出至所述真空箱体顶部外，另一端固定在所述阴极移动滑板上；所述外接电极通过导线与所述电极电性连接；所述软质进水管和所述软质出水管均伸出至所述真空箱体顶部外。所述软质工艺气管在所述真空箱体内的一端固定在所述阴极移动滑板上，与所述溅射阴极一起移动，通过所述软质工艺气管同时将Ar气体和反应气体O2或N2气体，充入所述真空箱体内，Ar气体是溅射镀膜的介质气体，不发生反应，而O2或N2气体是反应气体。抽真空管用于对所述真空箱体抽真空处理。优选的，在上述一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置中，所述夹持滑轨为方管，所述上夹持件包括上滑套和上卡件，所述上滑套套设在位于所述夹持架顶部的所述夹持滑轨上，所述上滑套上设置有定位孔，通过定位螺钉能够定位在所述夹持滑轨上；所述上卡件为中间设置条形孔且一端设置玻璃卡口的矩形板，通过螺钉穿过条形孔将所述上卡件紧固在所述上滑套一侧，并能够进行上下调节，以便安放和取下被镀件；所述下夹持件包括下滑套和下卡件，所述下滑套套设在位于所述夹持架底部的所述夹持滑轨上，所述下滑套上设置有定位孔，通过定位螺钉能够定位在所述夹持滑轨上；所述下卡件为一端设置玻璃卡口的矩形板，通过螺钉将所述上卡件固定在所述上滑套一侧。通过调整所述上滑套和所述下滑套的位置，以及调节上卡件的位置，从而适应被镀件的形状要求和被镀件的安装和拆卸优选的，在上述一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置中，所述固定架滑轨为倒T形滑轨，所述固定架滑块为与倒T形滑轨匹配的倒U形滑块，所述固定架滑轨与所述固定架滑块上设置有滚珠槽，在所述滚珠槽内设置有滚珠；所述固定架滚珠丝杠机构两端通过轴承座固定在所述真空箱体底面上，并且所述固定架滚珠丝杠机构的丝杠一端伸出至所述真空箱体外与所述第一电机的传动轴传动连接。优选的，在上述一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置中，所述阴极移动滑轨的两端分别设置有止停块，并且所述阴极移动滑轨的两端通过滑轨连杆固定连接在所述真空箱体内顶部；所述阴极滚珠丝杠机构的丝杆两端均设置有轴承座，轴承座通过阴极滚珠丝杠机构连杆固定在所述真空箱体内顶部；所述第二电机设置在所述真空箱体顶部外，所述第二电机的旋转轴伸出至所述真空箱体内，并且旋转轴端部安装有第一锥齿轮，所述阴极滚珠丝杠机构的丝杆一端设置有与所述第一锥齿轮啮合的第二锥齿轮；所述阴极移动滑轨为倒T形滑轨，所述阴极移动滑板的两侧设置与倒T形滑轨匹配的倒U形滑块；所述阴极移动滑板的底部通过滑板连杆与所述阴极支架固定连接。优选的，在上述一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置中，所述磁铁座为采用导磁材料制成的板状结构，所述磁铁座局部焊接在所述主框架空腔内；若干长条形所述磁铁沿着所述磁铁座的正面、上面、反面、下面排列形成S极环路磁铁和N极环路磁铁，并且采用S极环路磁铁和N极环路磁铁交替排列的布置方式，从而形成多个环状封闭磁铁环路跑道，电离子在电场作用下，沿着环状封闭环路跑道运动，在所述磁铁座正面和反面同时进行磁控溅射，与平面溅射阴极相比显著扩大了溅射面积。优选的，在上述一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置中，所述主框架为前、后、上、下面开口的四周分别开设有一圈密封胶圈槽，所述密封胶圈槽内设置有密封胶圈；所述密封胶圈槽外侧开设有多个用于固定所述靶材的螺钉孔，所述靶材通过螺钉固定到所述主框架上。优选的，在上述一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置中，所述阴极支架与所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，其特征在于，包括：真空箱体和位于所述真空箱体内的被镀件固定架、被镀件移动机构、溅射阴极、阴极运动机构；所述被镀件固定架包括底架和夹持架，其中所述夹持架设置有两个，分别垂直连接在所述底架两侧，并且两个所述夹持架之间留有所述溅射阴极移动空间；所述夹持架顶部和底部分别设置有多个夹持滑轨，位于所述夹持架顶部的所述夹持滑轨上滑动设置有上夹持件，位于所述夹持架底部的所述夹持滑轨上滑动设置有下夹持件；所述被镀件移动机构包括安装在所述真空箱体底部的固定架滚珠丝杠机构和固定架滑轨，以及设置在所述固定架滑轨上的固定架滑块；所述固定架滑轨平行设置有两个，所述固定架滚珠丝杠机构位于两个所述固定架滑轨之间；所述固定架滑块和所述固定架滚珠丝杠机构的螺母均与所述底架的底部固定连接；所述固定架滚珠丝杠机构的丝杆传动连接有第一电机；所述阴极运动机构包括安装在所述真空箱体内顶部的阴极滚珠丝杠机构和阴极移动滑轨，以及滑动设置所述阴极移动滑轨上的阴极移动滑板；所述阴极移动滑轨设置有两个，所述阴极滚珠丝杠机构安装在两个所述阴极移动滑轨之间；所述阴极移动滑板与所述阴极滚珠丝杠机构的螺母固定连接；所述阴极滚珠丝杠机构的丝杆传动连接有第二电机；所述溅射阴极包括阴极支架、主框架、靶材、电极、磁铁座以及设置在所述磁铁座上的磁铁；所述主框架为前、后、上、下面开口且设置空腔的长方体结构，所述磁铁座位于所述主框架的空腔内，在所述主框架前、后、上、下面开口上安装所述靶材，将所述主框架的空腔进行封闭；所述主框架左右两侧面的顶部与所述阴极支架连接，所述阴极支架与所述阴极移动滑板固定连接；所述主框架的一侧面底部设置有与所述主框架空腔连通的软质进水管，所述主框架的另一侧面顶部设置有与所述主框架空腔连通的软质出水管；所述电极与所述主框架的一侧面电性连接。...

【技术特征摘要】
1.一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，其特征在于，包括：真空箱体和位于所述真空箱体内的被镀件固定架、被镀件移动机构、溅射阴极、阴极运动机构；所述被镀件固定架包括底架和夹持架，其中所述夹持架设置有两个，分别垂直连接在所述底架两侧，并且两个所述夹持架之间留有所述溅射阴极移动空间；所述夹持架顶部和底部分别设置有多个夹持滑轨，位于所述夹持架顶部的所述夹持滑轨上滑动设置有上夹持件，位于所述夹持架底部的所述夹持滑轨上滑动设置有下夹持件；所述被镀件移动机构包括安装在所述真空箱体底部的固定架滚珠丝杠机构和固定架滑轨，以及设置在所述固定架滑轨上的固定架滑块；所述固定架滑轨平行设置有两个，所述固定架滚珠丝杠机构位于两个所述固定架滑轨之间；所述固定架滑块和所述固定架滚珠丝杠机构的螺母均与所述底架的底部固定连接；所述固定架滚珠丝杠机构的丝杆传动连接有第一电机；所述阴极运动机构包括安装在所述真空箱体内顶部的阴极滚珠丝杠机构和阴极移动滑轨，以及滑动设置所述阴极移动滑轨上的阴极移动滑板；所述阴极移动滑轨设置有两个，所述阴极滚珠丝杠机构安装在两个所述阴极移动滑轨之间；所述阴极移动滑板与所述阴极滚珠丝杠机构的螺母固定连接；所述阴极滚珠丝杠机构的丝杆传动连接有第二电机；所述溅射阴极包括阴极支架、主框架、靶材、电极、磁铁座以及设置在所述磁铁座上的磁铁；所述主框架为前、后、上、下面开口且设置空腔的长方体结构，所述磁铁座位于所述主框架的空腔内，在所述主框架前、后、上、下面开口上安装所述靶材，将所述主框架的空腔进行封闭；所述主框架左右两侧面的顶部与所述阴极支架连接，所述阴极支架与所述阴极移动滑板固定连接；所述主框架的一侧面底部设置有与所述主框架空腔连通的软质进水管，所述主框架的另一侧面顶部设置有与所述主框架空腔连通的软质出水管；所述电极与所述主框架的一侧面电性连接。2.根据权利要求1所述的一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，其特征在于，所述真空箱体顶部设置有外接电极，以及与所述真空箱体内腔连通的抽真空管和软质工艺气管；所述软质工艺气管一端伸出至所述真空箱体顶部外，另一端固定在所述阴极移动滑板上；所述外接电极通过导线与所述电极电性连接；所述软质进水管和所述软质出水管均伸出至所述真空箱体顶部外。3.根据权利要求2所述的一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置，其特征在于，所述夹持滑轨为方管，所述上夹持件包括上滑套和上卡件，所述上滑套套设在位于所述夹持架顶部的所述夹持滑轨上，所述上滑套上设置有定位孔，通过定位螺钉能够定位在所述夹持滑轨上；所述上卡件为中间设置条形孔且一端设置玻璃卡口的矩形板，通过螺钉穿过条形孔将所述上卡件紧固在所述上滑套一侧，并能够...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔岸，刘天赐，黄显晴，徐晓倩，杨伟丽，郝裕兴，陈宠，
申请(专利权)人：吉林大学，
类型：发明
国别省市：吉林,22