【技术实现步骤摘要】
对VGF法生产的InP晶锭进行籽晶、引晶及结晶情况判定的方法
本专利技术属于半导体材料制备
,具体涉及对VGF法生产的InP晶锭进行籽晶、引晶及结晶情况判定的方法。
技术介绍
磷化铟(InP)晶体是重要的化合物半导体材料,与砷化镓(GaAs)相比,其优越性主要在于较高的饱和电子漂移速度、导热性好及较强的抗辐射性能等。因此,磷化铟晶片通常用于制造高频、高速和大功率微波器件和电路。目前,磷化铟材料的晶体生长方法通常采用VGF法,也可以称之为垂直梯度凝固法,该方法的主要优点是位错密度缺陷低、晶体质量高、可生长大尺寸晶体。但是由于磷化铟材料的特性,这种晶体生长方法也存在着生长周期长、使用原材料和辅材料种类多、无法直观的观察长晶情况、单晶率低、制备成本高等缺点。所以严重影响了磷化铟单晶衬底的应用发展。现有VGF法制作InP晶体的生长是在封闭的石英管内进行的,出炉的晶锭由于氮化硼坩埚、石英管内壁沉积的红磷、晶锭尾部氧化硼等的影响无法直接判断结晶情况及籽晶的引晶位置,必须将石英管切开后,取出坩埚将晶锭脱埚后才能判断结晶及引晶情况。由于VGF法的InP晶体生长的成晶率低,这种方式造成的石英管等辅材的损耗大、成本高。
技术实现思路
本专利技术旨在提供一种无损检测的方法,在不破碎石英生长管的前提下,透过氮化硼坩埚可以初步判断接籽晶状况、晶体表面状况。本专利技术采用以下技术方案来实现:一种对VGF法生产的InP晶锭进行籽晶、引晶及结晶情况判定的方法,包括以下步骤:(1)晶体生长完成后,从VGF炉内取出包含石英管、氮化硼坩埚及晶锭在内的组件;(2)对所述石英管加热,使得氮化硼坩 ...
【技术保护点】
1.一种对VGF法生产的InP晶锭进行籽晶、引晶及结晶情况判定的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)晶体生长完成后,从VGF炉内取出包含石英管、氮化硼坩埚及晶锭在内的组件;(2)对所述石英管加热,使得氮化硼坩埚及籽晶端沉积的红磷升华沉积到石英管的端部,直至所述氮化硼坩埚和籽晶端部分的石英管的透明度达到设定的透明度;(3)采用超声波探测仪对所述氮化硼坩埚内的晶锭从籽晶端到尾部进行扫描,获得籽晶和晶体表面的图像;(4)根据获得的籽晶和晶体表面的图像,判断晶体表面结晶情况及籽晶引晶情况是否达到设定标准,是则进行开管和脱埚处理;否则将所述组件送回VGF炉重新进行生长工艺。
【技术特征摘要】
1.一种对VGF法生产的InP晶锭进行籽晶、引晶及结晶情况判定的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)晶体生长完成后,从VGF炉内取出包含石英管、氮化硼坩埚及晶锭在内的组件;(2)对所述石英管加热,使得氮化硼坩埚及籽晶端沉积的红磷升华沉积到石英管的端部,直至所述氮化硼坩埚和籽晶端部分的石英管的透明度达到设定的透明度;(3)采用超声波探测仪对所述氮化硼坩埚内的晶锭从籽晶端到尾部进行扫描,获得籽晶和晶体表面的图像;(4)根据获得的籽晶和晶体表面的图像,判断晶体表面结晶情况及籽晶引晶情况是否达到设...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵有文,段满龙,
申请(专利权)人:珠海鼎泰芯源晶体有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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