一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片及其制备方法，所述抗氧化抗腐蚀带图案的镜片包括基片和设置在所述基片外表面的膜层，所述膜层包括由内向外依次层叠的打底层、图案层、抗氧化抗腐蚀层、变色层和保护层，所述打底层由第一硅铝混合物层和第二金属氧化物层组成；所述图案层由图案和第三硅铝混合物层组成；所述抗氧化抗腐蚀层由第四硒层和第五金属氧化物层组成，所述变色层包括第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层及第八低折射率薄膜层组成。本发明专利技术所述抗氧化抗腐蚀带图案的镜片具有较好的抗氧化、抗腐蚀效果，且图案和镜片呈现丰富多彩的不同颜色，不褪色、不影响佩戴者视线，具有较好的市场前景。

【技术实现步骤摘要】
一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片及其制备方法
本专利技术涉及变色镜片制备技术，尤其是一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片及其制备方法。
技术介绍
太阳镜运用广泛，其中彩色太阳镜采用特殊的化学物质，使得镜片具有特定的颜色。为了开发多样化的镜片，在彩色镜片上加载图案成为一种时尚趋势。通常，太阳镜整体体现一种颜色，图案也与整体镜片的颜色一致，难以实现图案颜色的多样化。而且图案加载后，容易在图案边缘留下与上、下层重叠产生的分解线，影响视觉效果。图案是否稳定存在，不易发生氧化变色，也是很重要的一点。现有技术中带图案的太阳镜颜色单一，图案与镜片的结合力差，易氧化变色，同时存在一定程度影响佩戴者视线的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服现有的太阳镜中存在的图案与镜片颜色单一、结合力差、图案影响视线的问题，提供一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片及其制备方法，通过变色层和图案层配合，视线一个镜片，两种颜色：图案呈一种颜色，镜片整体呈另一种颜色。具体方案如下：一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，包括基片和设置在所述基片外表面的膜层，所述膜层包括由内向外依次层叠的打底层、图案层、抗氧化抗腐蚀层、变色层和保护层，所述打底层由第一硅铝混合物层和第二金属氧化物层组成，其中所述第二金属氧化物层与所述图案层紧邻；所述图案层由图案和第三硅铝混合物层组成；所述抗氧化抗腐蚀层由第四硒层和第五金属氧化物层组成，所述变色层包括第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层及第八低折射率薄膜层组成。进一步的，所述膜层覆盖在所述基片的一个侧面。进一步的，所述基片为亚克力基片、聚碳酸酯基片、尼龙基片、CR-39基片或玻璃基片的任意一种。进一步的，所述第一硅铝混合物层或第三硅铝混合物层为真空镀膜材料L5形成的镀层；任选的，所述第六低折射率薄膜层或第八低折射率薄膜层为SiO2、真空镀膜材料L5或MgF2中的任意一种形成的镀层。进一步的，所述第二金属氧化物层、第五金属氧化物层或第七金属氧化物层为ZrO2、Ti3O5或Ta2O5中的任意一种形成的镀层；任选的，所述图案层中的图案为油墨印刷图案、铜模板贴合图案或静电贴贴合图案中的任意一种；任选的，所述变色层由第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层及第八低折射率薄膜层组成；任选的，所述保护层为防水材料层。进一步的，所述打底层中第一硅铝混合物层的厚度为50-150埃米，第二金属氧化物层的厚度为100-200埃米；所述图案层中第三硅铝混合物层的厚度为100-1500埃米；所述抗氧化抗腐蚀层中的第四硒层厚度为200-400埃米，第五金属氧化物层厚度为100-1900埃米；所述变色层的厚度为1000-4000埃米；所述保护层的厚度为10-280埃米。进一步的，所述打底层中第一硅铝混合物层的厚度为100埃米，第二金属氧化物层的厚度为150埃米；所述图案层中第三硅铝混合物层的厚度为900埃米；所述抗氧化抗腐蚀层中的第四硒层厚度为300埃米，第五金属氧化物层厚度为1600埃米；所述变色层的厚度为3100埃米；所述保护层的厚度为150埃米。一种所述的抗氧化抗腐蚀带图案的镜片的制备方法，包括以下步骤：(1)对基片进行清洗、烘干，烘烤温度40-65℃，时间1-3小时；(2)依次对基片的外表面进行打底层真空镀膜；A、将烘干的基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空；B、当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，对基片进行表面清洗；C、对基片外表面镀打底层当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第一硅铝混合物层的膜材L5，L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一硅铝混合物层蒸镀速率为第一硅铝混合物层最终形成后的厚度为50-150埃米；保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第二金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第二金属氧化物层蒸镀速率为第二金属氧化物层最终形成后的厚度为100-200埃米，形成打底层；(3)打底层镀膜完成后，对真空腔室冲入大气，然后取出基片，然后在基片打底层上印刷或贴合镀膜图案；(4)将基片排放在治具上，放入真空腔室抽真空，并进行图案层镀膜；当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第三硅铝混合物层的膜材L5，L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第三硅铝混合物层蒸镀速率为第三硅铝混合物层最终形成后的厚度为100-1500埃米；(5)图案层镀膜完成后，对真空腔室冲入大气，然后取出基片，然后对基片进行去除油墨或者去除铜模板或者去除静电贴；(6)对基片进行清洗、烘干，烘烤温度40-60℃，时间20-40分钟；(7)依次对基片的外表面进行抗氧化抗腐蚀层、变色层和保护层真空镀膜；A、将烘干的基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空；B、当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，对基片进行表面清洗C、对基片外表面进行抗氧化抗腐蚀层镀膜当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第四硒层的膜材硒，硒蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第四硒层蒸镀速率为第四硒层最终形成后的厚度为200-400埃米；保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第五金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第五金属氧化物层蒸镀速率为然后形成抗氧化抗腐蚀层；D、对基片外表面进行变色层镀膜保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第六低折射率薄膜层的膜材，膜材蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第六低折射率薄膜层蒸镀速率为保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第七金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第七金属氧化物层蒸镀速率为保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第八低折射率薄膜层的膜材，膜材蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第八低折射率薄膜层蒸镀速率为然后形成变色层；E、对基片外表面进行镀保护层镀膜保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用钨舟加热第九薄膜层的膜材防水材料，第九薄膜层蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第九薄膜层蒸镀速率为第九薄膜层最终形成后的厚度为10-280埃米，作为保护层。进一步的，所述第六低折射率薄膜层或第八低折射率薄膜层的膜材为SiO2、真空镀膜材料L5或MgF2中的任意一种；任选的，所述第二金属氧化物层、第五金属氧化物层或第七金属氧化物层的膜材为ZrO2、Ti3本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，包括基片和设置在所述基片外表面的膜层，其特征在于：所述膜层包括由内向外依次层叠的打底层、图案层、抗氧化抗腐蚀层、变色层和保护层，所述打底层由第一硅铝混合物层和第二金属氧化物层组成，其中所述第二金属氧化物层与所述图案层紧邻；所述图案层由图案和第三硅铝混合物层组成；所述抗氧化抗腐蚀层由第四硒层和第五金属氧化物层组成，所述变色层包括第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层及第八低折射率薄膜层组成。

【技术特征摘要】
1.一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，包括基片和设置在所述基片外表面的膜层，其特征在于：所述膜层包括由内向外依次层叠的打底层、图案层、抗氧化抗腐蚀层、变色层和保护层，所述打底层由第一硅铝混合物层和第二金属氧化物层组成，其中所述第二金属氧化物层与所述图案层紧邻；所述图案层由图案和第三硅铝混合物层组成；所述抗氧化抗腐蚀层由第四硒层和第五金属氧化物层组成，所述变色层包括第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层及第八低折射率薄膜层组成。2.根据权利要求1所述的抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，其特征在于：所述膜层覆盖在所述基片的一个侧面。3.根据权利要求1所述的抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，其特征在于：所述基片为亚克力基片、聚碳酸酯基片、尼龙基片、CR-39基片或玻璃基片的任意一种。4.根据权利要求1所述的抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，其特征在于：所述第一硅铝混合物层或第三硅铝混合物层为真空镀膜材料L5形成的镀层；任选的，所述第六低折射率薄膜层或第八低折射率薄膜层为SiO2、真空镀膜材料L5或MgF2中的任意一种形成的镀层。5.根据权利要求1所述的抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，其特征在于：所述第二金属氧化物层、第五金属氧化物层或第七金属氧化物层为ZrO2、Ti3O5或Ta2O5中的任意一种形成的镀层；任选的，所述图案层中的图案为油墨印刷图案、铜模板贴合图案或静电贴贴合图案中的任意一种；任选的，所述变色层由第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层及第八低折射率薄膜层组成；任选的，所述保护层为防水材料层。6.根据权利要求1所述的抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，其特征在于：所述打底层中第一硅铝混合物层的厚度为50-150埃米，第二金属氧化物层的厚度为100-200埃米；所述图案层中第三硅铝混合物层的厚度为100-1500埃米；所述抗氧化抗腐蚀层中的第四硒层厚度为200-400埃米，第五金属氧化物层厚度为100-1900埃米；所述变色层的厚度为1000-4000埃米；所述保护层的厚度为10-280埃米。7.根据权利要求6所述的抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，其特征在于：所述打底层中第一硅铝混合物层的厚度为100埃米，第二金属氧化物层的厚度为150埃米；所述图案层中第三硅铝混合物层的厚度为900埃米；所述抗氧化抗腐蚀层中的第四硒层厚度为300埃米，第五金属氧化物层厚度为1600埃米；所述变色层的厚度为3100埃米；所述保护层的厚度为150埃米。8.权利要求1-7任一项所述的抗氧化抗腐蚀带图案的镜片的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：(1)对基片进行清洗、烘干，烘烤温度40-65℃，时间1-3小时；(2)依次对基片的外表面进行打底层真空镀膜；A、将烘干的基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空；B、当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，对基片进行表面清洗；C、对基片外表面镀打底层当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第一硅铝混合物层的膜材L5，L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一硅铝混合物层蒸镀速率为第一硅铝混合物层最终形成后的厚度为50-150埃米；保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第二金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第二金属氧化物层蒸镀速率为第二金属氧化物层最终形成后的厚度为100-200埃米，形成打底层；(3)打底层镀膜完成后，对真空腔室冲入大气，然后取出基片，然后在基片打底层上印刷或贴合镀膜图案；(4)将基片排放在治具上，放入真空腔室抽真空，并进行图案层镀膜；当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第三硅铝混合物层的膜材L5，L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第三硅铝混合物层蒸镀速率为第三硅铝混合物层最终形成后的厚度为100-1500埃米；(5)图案层镀膜完成后，对真空腔室冲入大气，然后取出基片，然后对基片进行去除油墨或者去除铜模板或者去除静电贴；(6)对基片进行清洗、烘干，烘烤温度40-60℃，时间20-40分钟；(7)依次对基片的外表面进行抗氧化抗腐蚀层、变色层和保护层真空镀膜；A、将烘干的基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空；B、当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，对基片进行表面清洗C、对基片外表面进行抗氧化抗腐蚀层镀膜当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第四硒层的膜材硒，硒蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第四硒层蒸镀速率为第四硒层最终形成后的厚度为200-400埃米；保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第五金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第五金属氧化物层蒸镀速率为然后形成抗氧化抗腐蚀层；D、对基片外表面进行变色层镀膜保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第六低折射率薄膜层的膜材，膜材蒸发后以埃...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨敏男，吴富章，
申请(专利权)人：厦门美澜光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：福建,35