双极静电吸盘及其使用方法技术

技术编号:20883510 阅读:60 留言:0更新日期:2019-04-17 13:26
本文描述一种静电吸盘及其使用方法。在一个示例中,提供了一种静电吸盘,所述静电吸盘包括多个可独立替换的静电吸盘组件,所述多个可独立替换的静电吸盘组件安装在横跨吸盘主体的阵列中。所述静电吸盘组件限定适于支撑大面积基板的基板支撑表面。所述多个静电吸盘组件中的至少第一静电吸盘组件可独立于所述多个静电吸盘组件中的第二静电吸盘组件的操作而操作。在又一个示例中,提供了一种用于吸附基板的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】双极静电吸盘及其使用方法
本文描述的实施方式总体涉及一种适于与基板载体、基板支撑件及类似物一起用于在处理期间固定基板的双极静电吸盘。
技术介绍
在诸如半导体基板和显示器的基板的处理中,在处理期间将基板保持在处理腔室中的基板载体或基板支撑件的基板支撑表面上。基板支撑表面可以包括静电吸盘(ESC),静电吸盘具有能够被电偏置以将基板保持到基板支撑表面的一个或多个电极。一些ESC设计包括两个或更多个电极,两个或更多个电极被充电到不同电压以在支撑在ESC上的基板中产生电荷分离。由ESC在基板中引起的电荷分离产生静电吸附力,其中带相反电荷的电极设置在ESC中,从而将基板固定到基板载体或基板支撑件的基板支撑表面。在各种显示器基板(例如,有机发光二极管(OLED)显示器及类似物)的处理中,期望基板的高平坦度以进行适当的掩模对准。由于利用可在双极电极之间引起电弧放电的电压将基板吸附到基板载体和ESC,因此会对ESC造成损坏并可能将污染物释放到处理环境中。一旦ESC损坏,必须移除整个ESC使其不再进行服务,以进行昂贵维修,这通常包括替换整个ESC。因此,需要一种改进的双极ESC。
技术实现思路
本文描述一种静电吸盘及其使用方法,以及用于横跨基板支撑表面保持背面气体的密封件和适于在高电压应用中使用的端子连接器。在一个示例中,提供了一种静电吸盘,所述静电吸盘包括多个可独立替换的静电吸盘组件,所述多个可独立替换的静电吸盘组件安装在横跨吸盘主体的阵列中。所述静电吸盘组件限定适于支撑大面积基板的基板支撑表面。所述多个静电吸盘组件中的至少第一静电吸盘组件可独立于所述多个静电吸盘组件中的第二静电吸盘组件的操作而操作。在另一个示例中,提供了一种静电吸盘,所述静电吸盘包括多个静电吸盘组件,在所述多个静电吸盘组件之间限定有间隙。所述间隙被配置为使气体流过由静电吸盘组件限定的基板支撑表面。在另一个示例中,提供了一种静电吸盘,所述静电吸盘包括密封件,所述密封件以悬臂取向支撑,所述密封件环绕多个静电吸盘组件。所述密封件被配置为横跨所述静电吸盘组件保持背面气体。在另一个示例中,提供了一种静电吸盘,所述静电吸盘包括多个静电吸盘组件。每个静电吸盘组件包括至少第一突片,所述至少第一突片从主要主体延伸。所述第一突片被布设穿过所述吸盘主体,以促成电连接到设置在所述静电吸盘组件的所述主要主体中的电极。在另一个示例中,提供了一种端子连接器,所述端子连接器包括封装在电绝缘盖中的接触端子。所述接触端子的一部分通过所述盖的顶表面中的开口而暴露。所述盖的所述顶表面进一步包括外环和内环,所述外环设置在所述开口的径向外侧,所述内环设置在所述开口的径向内侧。在上述端子连接器的另一个示例中,当所述接触端子与配合的电连接器的被所述环环绕的导体物理和电接触时,所述内环和所述外环密封地压靠在所述电连接器的绝缘部分上。在另一个示例中,一种静电吸盘使用端子连接器来连接到电引线,如本文所述。在另一个示例中,本文所述的一种静电吸盘耦接到杆或适于在具有固定到其上的基板时在处理系统的处理腔室之间运输。在又一个示例中,提供了一种用于吸附基板的方法。所述方法包括:将大面积基板设置在静电吸盘的基板支撑表面上,所述静电吸盘包括多个可独立替换的可独立通电的双极静电吸盘组件;给至少第一组所述双极静电吸盘组件通电,以将所述基板固定到所述基板支撑表面;在所述基板与所述基板支撑表面之间提供背面气体;和在以悬臂取向固定并环绕所述双极静电吸盘组件的密封件下方施加压力,所述压力使所述密封件弯曲以与所述基板接触。附图说明为了能够详细地理解本专利技术的上述特征,上文简要地概述的本专利技术的更特定的描述可以参考实施方式进行,实施方式中的一些示出在附图中。然而,应注意,附图仅示出了本专利技术的典型实施方式,并且因此不应视为限制本专利技术的范围,因为本专利技术可允许其它等效实施方式。图1是根据本文公开的一个实施方式的具有集成静电吸盘(ESC)的基板载体的透视图。图2是图1的基板载体的正视图。图3是图1的ESC的静电吸盘组件的分解图。图4是基板载体的局部截面图,示出了相邻静电吸盘组件。图5是基板载体的另一个局部截面图。图6是基板载体的另一个局部截面图,示出了ESC的电连接。图7是ESC和电连接器的一部分的分解图。图8是图1的基板载体的侧视图。图9是基板载体的正剖视图。图10是利用图1的基板载体将基板运输通过处理系统的处理系统的局部示意图。图11是利用具有集成ESC的基板支撑件的另一个处理系统的截面示意图。为了促进理解,已尽可能使用相同的元件符号标示各图共有的相同要素。设想到,在一个实施方式中公开的要素可以有益地用于其它实施方式,无需特定详述。具体实施方式本文提供的实施方式涉及一种适于与基板载体、基板支撑件及类似物一起用于在处理期间固定基板的双极静电吸盘(ESC)。ESC包括多个可替换的静电吸盘组件。每个静电吸盘组件可以独立地替换,由此减少修理ESC所需的时间和成本。所述多个静电吸盘组件中的至少第一静电吸盘组件可独立于所述多个静电吸盘组件中的第二静电吸盘组件的操作而操作。因此,一些静电吸盘组件可以被配置为仅在其它静电吸盘组件出故障时利用的备件,从而延长ESC的使用寿命。在一些实施方式中,高电压端子连接器可以用于将电源耦接到静电吸盘组件。高电压端子连接器被配置为防止电弧放电,从而提高ESC的寿命并提高基板处理产量。在一些实施方式中,ESC可以包括柔性唇形密封件,以用于控制从吸附到ESC的基板下方逸出的传热气体的量,从而改善ESC的温度控制。这些优点可以结合在用于固定基板并在腔室之间运输基板的基板载体中(诸如下面参考图1-9所讨论的)和用于在处理腔室内支撑一个或多个基板的基板支撑件中(诸如下面参考图10所讨论的),还有其它应用。此外,新颖的柔性唇形密封件和/或高电压端子连接器还可以用于不必具有至少一个诸如本文所述的静电吸盘组件的应用中。现在参考图1,示出了与基板载体100集成的静电吸盘(ESC)104的透视图。ESC104使得基板载体100能够在处理腔室与其它腔室之间移动时运输并支撑大面积基板。在一个示例中,ESC104可以被配置为支撑一个或多个基板,并且可以具有至少0.174m2的基板支撑表面116。一般,ESC104的基板支撑表面116的大小可以在1m2与约12m2之间,例如,在约2m2与约9m2之间。在其它示例中,ESC104的基板支撑表面116可以适于运输一个或多个大面积基板,诸如具有约1.4m2及更大的平面面积的基板。基板可以由适于材料沉积的任何材料制成,诸如用于OLED制造工艺以及其它工艺。例如,基板可以由诸如玻璃(例如,钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃等)、金属、聚合物、陶瓷、复合材料、碳纤维材料及其组合的材料制成。ESC104可以用于在等离子体工艺期间运输基板,等离子体工艺包括化学气相沉积(CVD)工艺、物理气相沉积(PVD)工艺、蚀刻工艺或任何合适的等离子体或真空工艺,例如OLED显示器制造工艺。ESC104还可以适于在非等离子体和非真空环境中使用,并且可以兼容高温应用。虽然本文公开ESC104的各种实施方式,但是应设想,来自其它制造商的静电吸盘可以适于从本文提供的公开内容受益。基板载体100适于在ESC104的基板支撑表面116上以竖直本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种静电吸盘,包括:吸盘主体;和多个可独立替换的静电吸盘组件,所述多个可独立替换的静电吸盘组件安装在横跨所述吸盘主体的阵列中,以限定适于支撑大面积基板的基板支撑表面,所述多个静电吸盘组件中的至少第一静电吸盘组件可独立于所述多个静电吸盘组件中的第二静电吸盘组件的操作而操作。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.08.22 US 62/377,942;2017.03.17 US 15/461,948;1.一种静电吸盘,包括:吸盘主体;和多个可独立替换的静电吸盘组件,所述多个可独立替换的静电吸盘组件安装在横跨所述吸盘主体的阵列中,以限定适于支撑大面积基板的基板支撑表面,所述多个静电吸盘组件中的至少第一静电吸盘组件可独立于所述多个静电吸盘组件中的第二静电吸盘组件的操作而操作。2.如权利要求1所述的静电吸盘,其中每个静电吸盘组件具有以双极配置布置的至少两个电极。3.如权利要求2所述的静电吸盘,其中所述两个电极包括交错的电极指状物。4.如权利要求1所述的静电吸盘,其中所述第一静电吸盘组件与所述第二静电吸盘组件横向地间隔开,以在两者之间形成间隙。5.如权利要求4所述的静电吸盘,其中所述吸盘主体包括:端口,所述端口与限定在所述第一静电吸盘组件与所述第二静电吸盘组件之间的所述间隙对准并被配置为使气体流入所述间隙中。6.如权利要求1所述的静电吸盘,其中所述多个静电吸盘组件具有限定在所述多个静电吸盘组件之间的间隙,所述间隙被配置为使气体流过所述基板支撑表面。7.如权利要求1所述的静电吸盘,其中所述吸盘主体包括:供气空腔,所述供气空腔设置在所述吸盘主体中,所述供气空腔通过至少一个孔口流体地耦接到所述吸盘主体的表面,所述静电吸盘组件安装在所述吸盘主体的所述表面上。8.如权利要求1所述的静电吸盘,进一步包括:密封件,所述密封件环绕所述静电吸盘组件,所述密封件被配置为...

【专利技术属性】
技术研发人员:约翰·M·怀特什瑞沙·Y·饶
申请(专利权)人:应用材料公司
类型:发明
国别省市:美国,US

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