电子加速器束流引出系统技术方案

技术编号:20689420 阅读:28 留言:0更新日期:2019-03-27 21:06
本实用新型专利技术公开一种电子加速器束流引出系统,扫描磁铁及扫描室的左右两侧设置有真空接口,一端依次安装有插板阀和复合分子泵,另一端安装有离子泵;所述的复合分子泵的抽气口通过预埋真空管道连接到屏蔽室外的前级真空获得设备;屏蔽室、屏蔽钢板以及屏蔽隔板形成容置腔,屏蔽室外新风风机向容置腔内吹新风。本实用新型专利技术能够减小真空腔体积,还能缩短束流路径,保证束流出现偏壁的机率,还能在保证真空度的情况下减少真空泵的抽速;可减小真空密封面,减少密封面腐蚀产生的故障;使电子加速器结构更加紧凑,高度更低。

【技术实现步骤摘要】
电子加速器束流引出系统
本技术涉及电子加速器设备
,具体涉及一种电子加速器束流引出系统。
技术介绍
常规电子加速器电子从电子枪被引出,通过加速管加速器,经过真空管道进入扫描室,扫描室内扫描磁铁在一定频率下将圆形电子束扫描成长条状,再进入梯形扫描盒,穿过钛箔照射到辐照产品上,由于常规电子加速器自身没有屏蔽功能,形成一层辐照屏蔽室和二层电子加速器屏蔽室结构,因此真空系统通过真空漂移管穿过屏蔽室天花板混凝土层连接到辐照室内扫描盒,在二层电子加速器屏蔽室真空系统上设置了高真空获得设备、低真空获得设备和真空测量元件。电子束需穿过很长的一段真空管道才能到达扫描室和扫描盒位置,真空管道过长会增加真空腔体积,密封面增大,真空获得困难,必须配备抽速较大的真空泵才能达到需求的真空度。并且由于真空管道过长,容易造成束流偏壁问题,需要增加电磁导向纠正束流位置。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种电子加速器束流引出系统,能够减小真空腔体积,还能缩短束流路径,保证束流出现偏壁的机率,还能在保证真空度的情况下降低真空泵的抽速;可减小真空密封面,降低密封面腐蚀产生的故障;使电子加速器结构更加紧凑,高度更低。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种电子加速器束流引出系统,其特征在于:包括电子加速器、屏蔽钢板、前级真空获得设备、预埋真空管道、屏蔽室、容置腔、复合分子泵、插板阀、屏蔽隔板、扫描盒、真空管道、离子泵、扫描磁铁及扫描室以及钛窗;其中所述屏蔽钢板设置于所述屏蔽室上方,所述屏蔽隔板设置屏蔽室的下方,所述的屏蔽室、屏蔽钢板以及屏蔽隔板形成容置腔;所述电子加速器安装于屏蔽钢板上;所述扫描磁铁及扫描室的左侧设置有左侧真空接口,所述扫描磁铁及扫描室的右侧设置有右侧真空接口,所述左侧真空接口上依次安装有所述插板阀和所述复合分子泵,所述右侧真空接口上安装有所述离子泵;所述复合分子泵的抽气口通过所述预埋真空管道连接至所述屏蔽室外的前级真空获得设备;所述的复合分子泵、插板阀、离子泵、扫描磁铁及扫描室均设置在容置腔内;所述的钛窗设置在扫描盒下端。进一步的是,所述扫描盒的左侧真空接口和右侧真空接口均为CF150真空密封法兰。进一步的是,所述预埋真空管道埋设于所述屏蔽室的混凝土墙里。进一步的是,所述预埋真空管道为通径DN35的不锈钢无缝管,所述预埋真空管道在混凝土墙里经过两次以上的弯折。进一步的是,所述屏蔽室外还包括有新风风机,所述新风风机通过预埋在所述屏蔽室的混凝土墙里的预埋吹风管向所述容置腔内吹新风。进一步的是,在所述的钛窗旁设置用于降温的钛窗风刀。进一步的是,所述扫描磁铁及扫描室的前侧面设置有真空测量接口,所述真空测量接口上安装有真空规管。进一步的是,所述屏蔽钢板的厚度为所述屏蔽室墙体厚度的1/3。本技术的有益效果是:本技术提供的电子加速器束流引出系统能够减小真空腔体积,缩短束流路径,保证束流出现偏壁的机率;使电子加速器结构更加紧凑,高度更低;本技术提供的电子加速器束流引出系统提高了加速器运行的稳定性和密封性,在保证真空度的情况下可以降低真空泵的抽速;可减小真空密封面,降低密封面腐蚀产生的故障。附图说明图1是本申请电子加速器束流引出系统的结构示意图。附图中标记及对应的零部件名称:1-电子加速器,2-屏蔽钢板,3-前级真空获得设备,4-预埋真空管道,5-屏蔽室,6-容置腔,7-复合分子泵,8-插板阀,9-屏蔽隔板,10-扫描盒,11-真空管道,12-真空规管,13-离子泵,14-扫描磁铁及扫描室,15-预埋吹风管,16-新风风机,17-钛窗,18-钛窗风刀。具体实施方式现在结合附图和实施例对本技术作进一步详细的说明,这些附图均为简化的示意图,仅以示意方式说明本技术的基本结构,因此其仅显示与本技术有关的构成。如图1所示,一种电子加速器束流引出系统,其包括电子加速器1、屏蔽钢板2、前级真空获得设备3、预埋真空管道4、屏蔽室5、容置腔6、复合分子泵7、插板阀8、屏蔽隔板9、扫描盒10、真空管道11、真空规管12、离子泵13、扫描磁铁及扫描室14、预埋吹风管15、新风风机16、钛窗17以及钛窗风刀18。电子加速器1安装在辐照屏蔽室5上方的屏蔽钢板2上,在达到相同屏蔽要求下,屏蔽钢板2的厚度只有混凝土屏蔽室5墙厚的约1/3,故穿过屏蔽钢板2的真空管道11也非常短,能够减少损耗;由屏蔽室5、屏蔽钢板2以及屏蔽隔板9形成容置腔6,复合分子泵7、插板阀8、真空管道11、离子泵13、扫描磁铁及扫描室14均设置在容置腔6内;扫描磁铁及扫描室14的左右两侧设置有真空接口,所述真空接口均为CF150真空密封法兰;其中一端依次安装有插板阀8和复合分子泵7,另一端安装有离子泵13;复合分子泵7的抽气口通过预埋真空管道4连接到屏蔽室5外的前级真空获得设备3,所述预埋真空管道4为通径DN35的不锈钢无缝管;扫描磁铁及扫描室14的前侧面设置有真空测量接口,并安装有真空规管12;屏蔽室5外新风风机16通过屏蔽室混凝土墙里的预埋吹风管15向容置腔6内吹新风,保证容置腔6内的气压大于辐照室内的气压,防止辐照室内臭氧对真空获得设备造成腐蚀。预埋真空管道4和预埋吹风管15在混凝土墙里必须经过2次以上的拐弯,确保射线不会经过管道泄漏到辐照室外,影响屏蔽性能。同时,在钛窗17旁设置用于给钛窗17降低温度的钛窗风刀18,钛窗风刀18通过高速气流将钛窗17表面的热量带走,实现降温。整体上述结构均通过电脑系统控制,通过真空规管12用于测量真空度,并将信号传递个电脑系统,电脑系统控制前级真空获得设备3、复合分子泵7、插板阀8以及离子泵13进行工作;也同时控制新风风机16持续对容置腔6内进行增压操作。综上所述,本技术提供的一种电子加速器束流引出系统,能够减小真空腔体积,还能缩短束流路径,保证束流出现偏壁的机率,还能在保证真空度的情况下减少真空泵的抽速;可减小真空密封面,减少密封面腐蚀产生的故障;使电子加速器结构更加紧凑,高度更低。需要强调的是:以上仅是本专利技术的较佳实施例而已,并非对本专利技术作任何形式上的限制,凡是依据本专利技术的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本专利技术技术方案的范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电子加速器束流引出系统,其特征在于:包括电子加速器(1)、屏蔽钢板(2)、前级真空获得设备(3)、预埋真空管道(4)、屏蔽室(5)、容置腔(6)、复合分子泵(7)、插板阀(8)、屏蔽隔板(9)、扫描盒(10)、真空管道(11)、离子泵(13)、扫描磁铁及扫描室(14)以及钛窗(17);其中所述屏蔽钢板(2)设置于所述屏蔽室(5)上方,所述屏蔽隔板(9)设置屏蔽室(5)的下方,所述的屏蔽室(5)、屏蔽钢板(2)以及屏蔽隔板(9)形成容置腔(6);所述电子加速器(1)安装于屏蔽钢板(2)上;所述扫描磁铁及扫描室(14)的左侧设置有左侧真空接口,所述扫描磁铁及扫描室(14)的右侧设置有右侧真空接口,所述左侧真空接口上依次安装有所述插板阀(8)和所述复合分子泵(7),所述右侧真空接口上安装有所述离子泵(13);所述复合分子泵(7)的抽气口通过所述预埋真空管道(4)连接至所述屏蔽室(5)外的前级真空获得设备(3);所述的复合分子泵(7)、插板阀(8)、离子泵(13)、扫描磁铁及扫描室(14)均设置在容置腔(6)内;所述的钛窗(17)设置在扫描盒(10)下端。

【技术特征摘要】
1.一种电子加速器束流引出系统,其特征在于:包括电子加速器(1)、屏蔽钢板(2)、前级真空获得设备(3)、预埋真空管道(4)、屏蔽室(5)、容置腔(6)、复合分子泵(7)、插板阀(8)、屏蔽隔板(9)、扫描盒(10)、真空管道(11)、离子泵(13)、扫描磁铁及扫描室(14)以及钛窗(17);其中所述屏蔽钢板(2)设置于所述屏蔽室(5)上方,所述屏蔽隔板(9)设置屏蔽室(5)的下方,所述的屏蔽室(5)、屏蔽钢板(2)以及屏蔽隔板(9)形成容置腔(6);所述电子加速器(1)安装于屏蔽钢板(2)上;所述扫描磁铁及扫描室(14)的左侧设置有左侧真空接口,所述扫描磁铁及扫描室(14)的右侧设置有右侧真空接口,所述左侧真空接口上依次安装有所述插板阀(8)和所述复合分子泵(7),所述右侧真空接口上安装有所述离子泵(13);所述复合分子泵(7)的抽气口通过所述预埋真空管道(4)连接至所述屏蔽室(5)外的前级真空获得设备(3);所述的复合分子泵(7)、插板阀(8)、离子泵(13)、扫描磁铁及扫描室(14)均设置在容置腔(6)内;所述的钛窗(17)设置在扫描盒(10)下端。2.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱焕铮陈川红许森飞陆洁平李健辉丁绍春叶梦超詹诗鹏
申请(专利权)人:中广核达胜加速器技术有限公司
类型:新型
国别省市:江苏,32

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