图像传感器及其形成方法、指纹成像模组技术

技术编号:19832068 阅读:22 留言:0更新日期:2018-12-19 17:43
一种图像传感器及其形成方法、指纹成像模组,所述图像传感器包括:衬底;第一透镜,分立的设置于所述衬底上;光电器件,位于第一透镜之间的衬底上。所述第一透镜能够对透射所述图像传感器的光线进行准直,从而能够有效减少杂散光的产生,增加反射光中信号光的比例,减少噪声光的比例,有利于指纹成像模组信噪比的提高,有利于指纹成像模组性能的改善。

【技术实现步骤摘要】
图像传感器及其形成方法、指纹成像模组
本专利技术涉及指纹成像领域,特别涉及一种图像传感器及其形成方法、指纹成像模组。
技术介绍
指纹识别技术是通过图像传感器采集到人体的指纹图像,然后与指纹识别系统里已有的指纹信息进行比对,从而实现身份识别的技术。由于其便捷性和人体指纹的唯一性,指纹识别技术已经大量应用于各个领域,比如:公安局、海关等安检领域,楼宇的门禁系统,以及个人电脑和手机等消费品领域等等。指纹识别技术中所采用的成像方式有光学式、电容式、超声波式等多种。其中一种是通过光学式成像模组采集人体的指纹图像。光学式成像模组主要包括:保护盖板、图像传感器、集成芯片(IC)、柔性电路板(FPC)和柔性电路板上的电子器件(包括光源LED)、导光板、上保护壳体以及下保护壳体等主要部件。其中图像传感器是利用非晶硅薄膜晶体管(a-SiTFT)、低温多晶硅薄膜晶体管(LTPSTFT)或氧化物半导体薄膜晶体管(OSTFT)等半导体工艺技术,在玻璃基底上制作的;之后经过切割、点胶、粘接等过程实现封装。但是现有技术中的指纹成像模组往往存在噪声信号过大,信噪比过低的问题。
技术实现思路
本专利技术解决的问题是提供一种图像传感器及其形成方法、指纹成像模组,以抑制噪声、增强信号,改善指纹成像模组的信噪比。为解决上述问题,本专利技术提供一种图像传感器的形成方法,包括:形成衬底,所述衬底上具有多个分立的第一透镜;形成位于第一透镜之间衬底上的光电器件。可选的,形成衬底的步骤包括:提供初始衬底;去除部分所述初始衬底,形成所述衬底以及所述第一透镜。可选的,通过湿法刻蚀的方式去除部分所述初始衬底。可选的,所述形成方法还包括:形成所述衬底之后,形成所述光电器件之前,对所述衬底和所述第一透镜进行表面形貌处理。可选的,通过干法刻蚀的方式对所述衬底和所述第一透镜进行表面形貌处理。可选的,所述形成方法还包括:形成所述光电器件之后,在所述光电器件上形成第二透镜。可选的,所述第二透镜的材料为有机材料;通过掩膜曝光、显影的方式形成所述第二透镜。可选的,形成所述第二透镜的步骤还包括:在掩膜曝光、显影之后,进行烘烤处理。可选的,所述形成方法还包括:形成所述光电器件之后,形成至少环绕所述第一透镜的遮光层。可选的,所述遮光层的材料为有机材料;通过掩膜曝光、显影的方式形成所述遮光层。可选的,形成环绕所述第一透镜和所述光电器件的遮光层;在四周环绕有遮光层的光电器件上形成第二透镜。可选的,所述形成方法还包括:形成光电器件之后,形成覆盖所述第一透镜和所述光电器件的封装叠层。可选的,形成所述封装叠层的步骤包括:形成位于所述第一透镜和所述光电器件上的平坦化层;在所述平坦化层上形成钝化层。可选的,所述形成方法还包括:形成所述光电器件之后,形成所述平坦化层之前,至少在所述第一透镜上形成隔离材料。可选的,所述光电器件上还形成有第二透镜;在所述第一透镜和所述第二透镜上形成隔离材料。相应的,本专利技术还提供一种图像传感器,包括:衬底;第一透镜,分立的设置于所述衬底上;光电器件,位于第一透镜之间的衬底上。可选的,所述第一透镜和所述衬底为一体结构。可选的,所述衬底和所述第一透镜的材料相同。可选的,所述图像传感器还包括:第二透镜,位于所述光电器件上。可选的,所述图像传感器还包括:遮光层,至少环绕所述第一透镜。可选的,所述遮光层材料的吸收率在85%以上。可选的,所述图像传感器还包括:位于所述光电器件上的第二透镜;所述遮光层还环绕所述第二透镜。可选的,所述图像传感器还包括:封装叠层,覆盖所述第一透镜和所述光电器件。可选的,所述封装叠层包括:平坦化层,位于所述第一透镜和所述光电器件上;钝化层,位于所述平坦化层上。可选的,所述图像传感器还包括:隔离材料,位于所述平坦化层和所述第一透镜之间。可选的,所述图像传感器还包括:位于所述光电器件上的第二透镜;所述隔离材料还位于所述平坦化层和所述第二透镜之间。可选的,所述平坦化层材料的折射率小于所述隔离材料的折射率。此外,本专利技术还提供一种指纹成像模组,包括:光源,用于产生初始光;图像传感器,所述图像传感器为本专利技术的图像传感器,所述第一透镜使所述初始光形成所述入射光;感测面,所述入射光在所述感测面上形成携带有指纹信息的反射光;所述光电器件采集所述反射光以获得指纹图像。与现有技术相比,本专利技术的技术方案具有以下优点:所述第一透镜能够对透射所述图像传感器的光线进行准直,从而能够有效减小透射光线的传播角度,使透射光线尽量以垂直所述衬底表面的方向传播;因此具有所述图像传感器应用于指纹成像模组时,所述第一透镜的设置能够有效提高入射光的准直性,减小入射光透射至感测面的入射角度,从而使所形成反射光中出射角度较小光线的成分增加,增加反射光中信号光的比例;而且入射光准直性的提高,还能够有效减少杂散光的产生,减少反射光中噪声光的比例;所以所述第一透镜的设置能够有效提高指纹成像模组的信噪比,有利于提高指纹成像模组的性能。本专利技术可选方案中,所述图像传感器还包括:位于所述光电器件上的第二透镜,所述第二透镜能够有效减小透射至所述光电器件光线的入射角度,即减小所述光电器件所采集光线的入射角度;因此具有所述图像传感器应用于指纹成像模组时,所述第二透镜的设置还能够有效提高反射光的准直性,从而减少反射光中杂散光的成分,进而达到抑制噪声的目的,有利于提高所述指纹成像模组的信噪比,有利于提高所述指纹成像模组的性能。本专利技术可选方案中,所述图像传感器还包括:遮光层,所述遮光层至少环绕所述第一透镜设置;在具有第二透镜的图像传感器中,所述遮光层还环绕所述第二透镜设置。所述遮光层的材料的吸收率较高,能够实现吸收杂散光的目的,从而能够有效减小噪声信号的强度,有利于信噪比的改善、性能的提高。附图说明图1是一种指纹成像模组的剖面结构示意图;图2是图1所示指纹成像模组采集指纹时的光路示意图;图3至图9是本发图像传感器形成方法一实施例各个步骤对应的结构示意图;图10是本专利技术指纹成像模组一实施例的剖面结构示意图;图11是图10所示指纹成像模组实施例中方框240内结构在采集指纹时的光路示意图。具体实施方式由
技术介绍
可知,现有技术中的指纹成像模组存在噪声过大、信噪比较低的问题。现结合一种指纹成像模组的结构分析其信噪比低问题的原因。参考图1,示出了一种指纹成像模组的剖面结构示意图。所述指纹成像模组为超薄型光学式指纹成像模组。所述指纹成像模组是通过光电转换原理实现指纹成像的,包括:光源11、位于所述光源11上的图像传感器12、位于所述图像传感器12上的感测面13。在采集指纹时,手指按压于所述感测面13上;所述光源11产生的入射光在所述感测面13上发生反射和透射;所形成的反射光投射至所述图像传感器12上;所述图像传感器12采集所述反射光,并进行光电转换和信号处理,实现指纹图像的采集。如图2所示,所述光源11一般为面光源或点光源。当所述光源11为面光源时,所述入射光21是通过反射形成的,而且形成所述入射光21的反射为漫反射,所以所述入射光21为传播方向无规则的漫射光;当所述光源11为点光源时,点光源所产生的所述入射光以一定的发散角出射。因此,所述入射光21的准直性并不是很强,并不都是垂直投射至所述感测面13上的。由于所述入射光21的准直性较弱,而且本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种图像传感器的形成方法,其特征在于,包括:形成衬底,所述衬底上具有多个分立的第一透镜;形成位于第一透镜之间衬底上的光电器件。

【技术特征摘要】
1.一种图像传感器的形成方法,其特征在于,包括:形成衬底,所述衬底上具有多个分立的第一透镜;形成位于第一透镜之间衬底上的光电器件。2.如权利要求1所述的形成方法,其特征在于,形成衬底的步骤包括:提供初始衬底;去除部分所述初始衬底,形成所述衬底以及所述第一透镜。3.如权利要求2所述的形成方法,其特征在于,通过湿法刻蚀的方式去除部分所述初始衬底。4.如权利要求2所述的形成方法,其特征在于,所述形成方法还包括:形成所述衬底之后,形成所述光电器件之前,对所述衬底和所述第一透镜进行表面形貌处理。5.如权利要求4所述的形成方法,其特征在于,通过干法刻蚀的方式对所述衬底和所述第一透镜进行表面形貌处理。6.如权利要求1所述的形成方法,其特征在于,所述形成方法还包括:形成所述光电器件之后,在所述光电器件上形成第二透镜。7.如权利要求6所述的形成方法,其特征在于,所述第二透镜的材料为有机材料;通过掩膜曝光、显影的方式形成所述第二透镜。8.如权利要求7所述的形成方法,其特征在于,形成所述第二透镜的步骤还包括:在掩膜曝光、显影之后,进行烘烤处理。9.如权利要求1所述的形成方法,其特征在于,所述形成方法还包括:形成所述光电器件之后,形成至少环绕所述第一透镜的遮光层。10.如权利要求9所述的形成方法,其特征在于,所述遮光层的材料为有机材料;通过掩膜曝光、显影的方式形成所述遮光层。11.如权利要求9所述的形成方法,其特征在于,形成环绕所述第一透镜和所述光电器件的遮光层;在四周环绕有遮光层的光电器件上形成第二透镜。12.如权利要求1所述的形成方法,其特征在于,所述形成方法还包括:形成光电器件之后,形成覆盖所述第一透镜和所述光电器件的封装叠层。13.如权利要求12所述的形成方法,其特征在于,形成所述封装叠层的步骤包括:形成位于所述第一透镜和所述光电器件上的平坦化层;在所述平坦化层上形成钝化层。14.如权利要求13所述的形成方法,其特征在于,所述形成方法还包括:形成所述光电器件之后,形成所述平坦化层之前,至少在所述第一透镜上形成隔离材料。15.如...

【专利技术属性】
技术研发人员:曲志刚朱虹
申请(专利权)人:上海箩箕技术有限公司
类型:发明
国别省市:上海,31

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