自清洁抛光液输送装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种自清洁抛光液输送装置，自清洁抛光液输送装置包括：基座、悬臂、清洗装置、用于向容水腔内供水的第一输水管和抛光液管，基座上设有基座孔；悬臂可转动地设在基座上，悬臂内限定出容水腔，悬臂下端设有连通容水腔的喷嘴；清洗装置设在悬臂上方以对悬臂进行喷水清洗；第一输水管穿过基座孔后与容水腔连通；抛光液管向上穿过基座孔后向下伸出悬臂。由此，通过基座、悬臂和清洗装置配合，能够把悬臂上的抛光液冲洗掉，可以保证悬臂的表面清洁，从而可以防止抛光液在悬臂上产生结晶，进而可以提升产品的抛光质量。

【技术实现步骤摘要】
自清洁抛光液输送装置
本技术涉及晶圆加工设备
，尤其是涉及一种自清洁抛光液输送装置。
技术介绍
大规模集成电路生产过程中，晶圆需要经过多道工序最终形成产品，化学机械抛光是其中的一道关键工序。在化学机械抛光工艺中，抛光液输送装置悬在抛光盘上方，将抛光液从供应源输送到抛光盘合适的落点，抛光液输送装置的洁净程度会影响到晶圆抛光缺陷的数量和抛光质量的稳定性。相关技术中，目前使用的抛光液输送装置存在以下问题：抛光液输送装置悬在抛光盘上方，抛光过程中，抛光液会飞溅到抛光液输送装置的表面，如果抛光液输送装置表面的抛光液得不到及时清理，抛光液会结晶，抛光液输送装置的悬臂表面的固体颗粒会越聚越多，固体颗粒掉落到抛光盘表面，会划伤抛光过程中的晶圆，造成产品良率降低。
技术实现思路
本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术提出一种自清洁抛光液输送装置，该自清洁抛光液输送装置能够把悬臂上的抛光液冲洗掉，可以保证悬臂的表面清洁，从而可以防止抛光液在悬臂上产生结晶。根据本技术的自清洁抛光液输送装置包括：基座、悬臂、清洗装置、用于向容水腔内供水的第一输水管和抛光液管，所述基座上设有基座孔；所述悬臂可转动地设在所述基座上，所述悬臂内限定出容水腔，所述悬臂下端设有连通所述容水腔的喷嘴；所述清洗装置设在所述悬臂上方以对所述悬臂进行喷水清洗；所述第一输水管穿过所述基座孔后与所述容水腔连通；所述抛光液管向上穿过所述基座孔后向下伸出所述悬臂。根据本技术的自清洁抛光液输送装置，能够把悬臂上的抛光液冲洗掉，可以保证悬臂的表面清洁，从而可以防止抛光液在悬臂上产生结晶，进而可以提升产品的抛光质量。可选地，所述的自清洁抛光液输送装置还包括第二输水管，所述容水腔通过所述第二输水管与所述清洗装置相连。进一步地，所述悬臂包括：第一本体、喷嘴座和罩壳，所述第一本体包括彼此相连的固定部和悬挂部，所述固定部设在所述基座上；所述喷嘴座设在所述悬挂部的底部，所述喷嘴设在所述喷嘴座底部，所述容水腔形成在所述喷嘴座内；所述罩壳设在所述第一本体的上方，所述清洗装置设在所述罩壳上方以对朝向所述罩壳喷水。具体地，所述容水腔的靠近所述固定部的一端设有出水口，所述第二输水管连接在所述出水口处。可选地，所述喷嘴座的顶壁中部设有与所述容水腔连通的连接管，所述连接管穿过所述悬挂部后与所述第一输水管相连。可选地，所述第一输水管与所述清洗装置相连以向所述清洗装置供水。进一步地，所述清洗装置包括：第二本体，所述第二本体内部设有中心孔，所述第二本体的壁上设有与所述中心孔连通的进水口和喷水口，所述进水口用于进水，所述喷水口用于朝向所述悬臂喷水。具体地，所述第二本体设在所述悬臂顶部且倾斜设置。附图说明图1是根据本技术实施例的自清洁抛光液输送装置的剖视图；图2是根据本技术实施例的自清洁抛光液输送装置的基座的局部结构示意图；图3是根据本技术实施例的自清洁抛光液输送装置的清洗装置的立体视角的半剖视图；图4是根据本技术实施例的自清洁抛光液输送装置的罩壳的示意图；图5是根据本技术实施例的自清洁抛光液输送装置的第一本体的示意图；图6是根据本技术实施例的自清洁抛光液输送装置的喷嘴座的立体视角的半剖视图。附图标记：自清洁抛光液输送装置10；基座1；基座孔11；上端面12；下端面13；悬臂2；第一本体21；固定部211；悬挂部212；第一通孔213；第二通孔214；喷嘴座22；容水腔221；出水口222；连接管223；喷嘴224；抛光液管固定孔225；罩壳23；清洗装置3；第二本体31；中心孔32；进水口33；喷水口34；第一输水管4；第二输水管5；抛光液管6。具体实施方式下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。下面参考图1-图6描述根据本技术实施例的自清洁抛光液输送装置10。如图1-图6所示，根据本技术实施例的自清洁抛光液输送装置10包括：基座1、悬臂2、清洗装置3、用于向容水腔221内供水的第一输水管4，以及抛光液管6。基座1上设有基座孔11，基座孔11沿着上下方向贯穿整个基座1，基座1具有上端面12和下端面13，基座1的上端面12和下端面13为安装面，悬臂2可转动地设在基座1的上端面12上。悬臂2内限定出容水腔221，容水腔221内可储存有水，悬臂2的下端设置有连通容水腔221的喷嘴224，喷嘴224用于向位于悬臂2下方的晶圆喷水，从而可以对晶圆起到清洗的作用。清洗装置3设在悬臂2的上方，清洗装置3可以向悬臂2喷水。在晶圆抛光的过程中，会向晶圆喷洒抛光液，但是现有的抛光液输送装置存在以下问题：抛光液输送装置悬在抛光盘上方，抛光过程中，抛光液会飞溅到抛光液输送装置的表面，如果抛光液输送装置表面的抛光液得不到及时清理，抛光液会结晶，抛光液输送装置的悬臂表面的固体颗粒会越聚越多，固体颗粒掉落到抛光盘表面，会划伤抛光过程中的晶圆，造成产品良率降低。因此通过在悬臂2上方设置清洗装置3，从而如此设置的清洗装置3可以对悬臂2进行喷水清洗，能够把悬臂2上的抛光液冲洗掉，可以保证悬臂2的表面清洁，从而可以防止抛光液在悬臂2上产生结晶，进而可以提升产品的抛光质量。第一输水管4穿过基座孔11后与容水腔221连通，由此第一输水管4能够把水输送到容水腔221内，可以保证容水腔221内的供水，从而可以保证悬臂2的工作可靠性。喷嘴224与容水腔221连通，从而喷嘴224用于将容水腔221内的水向下喷出，从而对晶圆进行清洗。抛光液管6向上穿过基座孔11容水腔221后向下伸出悬臂2，抛光液管6内的抛光液能够从悬臂2内喷出，进行可以对晶圆进行抛光，从而可以保证自清洁抛光液输送装置10的工作性能。其中，悬臂2上的抛光液被清洗装置3喷出的水清洗掉后会落到抛光盘上，当自清洁抛光液输送装置10的悬臂2向下喷水清洗抛光盘时，悬臂2向下喷出的水会把从悬本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种自清洁抛光液输送装置，其特征在于，包括：基座，所述基座上设有基座孔；悬臂，所述悬臂可转动地设在所述基座上，所述悬臂内限定出容水腔，所述悬臂下端设有连通所述容水腔的喷嘴；清洗装置，所述清洗装置设在所述悬臂上方以对所述悬臂进行喷水清洗；用于向所述容水腔内供水的第一输水管，所述第一输水管穿过所述基座孔后与所述容水腔连通；抛光液管，所述抛光液管向上穿过所述基座孔后向下伸出所述悬臂。

【技术特征摘要】
1.一种自清洁抛光液输送装置，其特征在于，包括：基座，所述基座上设有基座孔；悬臂，所述悬臂可转动地设在所述基座上，所述悬臂内限定出容水腔，所述悬臂下端设有连通所述容水腔的喷嘴；清洗装置，所述清洗装置设在所述悬臂上方以对所述悬臂进行喷水清洗；用于向所述容水腔内供水的第一输水管，所述第一输水管穿过所述基座孔后与所述容水腔连通；抛光液管，所述抛光液管向上穿过所述基座孔后向下伸出所述悬臂。2.根据权利要求1所述的自清洁抛光液输送装置，其特征在于，还包括第二输水管，所述容水腔通过所述第二输水管与所述清洗装置相连。3.根据权利要求2所述的自清洁抛光液输送装置，其特征在于，所述悬臂包括：第一本体，所述第一本体包括彼此相连的固定部和悬挂部，所述固定部设在所述基座上；喷嘴座，所述喷嘴座设在所述悬挂部的底部，所述喷嘴设在所述喷嘴座底部，所述容水腔形成在所述喷嘴座内；罩壳，所述罩壳设在所述第一本...

【专利技术属性】
技术研发人员：许振杰，董兵超，贾弘源，姚宇，尹士龙，崔凯，王同庆，李昆，路新春，
申请(专利权)人：清华大学，天津华海清科机电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11