阵列式喷嘴平面清洗装置和自清洗免维护静电净化系统制造方法及图纸

技术编号:19108435 阅读:38 留言:0更新日期:2018-10-09 23:17
本申请公开了一种阵列式喷嘴平面清洗装置,该阵列式喷嘴平面清洗装置可以持续地同时保持多个待清洁表面的洁净,同时对每个平面进行喷射清洗,不需要人工清洗和人工维护,喷嘴固定,可靠性更高、故障率更低,是高效率对多个平面同时清洗的有效方案。该阵列式喷嘴平面清洗装置包括固定设置的清洗喷嘴,每个所述清洗喷嘴具有至少一个出液口,每个待清洗平面至少具有一个所述出液口。本申请还公开了一种采用上述阵列式喷嘴平面清洗装置的自清洗免维护静电净化系统及其嵌入式模块。

Array nozzle plane cleaning device and self cleaning and maintenance free electrostatic cleaning system

The application discloses an array nozzle plane cleaning device, which can continuously keep several surfaces to be cleaned at the same time, while spraying cleaning on each plane, without manual cleaning and maintenance, the nozzle is fixed, has higher reliability and lower failure rate, and is efficient. An effective scheme for simultaneous cleaning of multiple planes. The array nozzle plane cleaning device includes a stationary cleaning nozzle, each cleaning nozzle has at least one liquid outlet, and each cleaning plane has at least one liquid outlet. The application also discloses a self-cleaning and maintenance-free electrostatic cleaning system and an embedded module adopting the above-mentioned array nozzle plane cleaning device.

【技术实现步骤摘要】
阵列式喷嘴平面清洗装置和自清洗免维护静电净化系统
本申请涉及一种表面附着颗粒的清洗技术,属于流体流动领域。
技术介绍
高压静电净化器是以静电净化原理进行气体中微粒和液滴的装置。是空气净化的理想设备。它的净化工作主要依靠放电极和沉淀极这两个系统来完成,当两极间输入高压直流电时在电极空间,产生阴、阳离子,并作用于通过静电场的气体及粒子表面,在电场力的作用下向其极性相反的电极移动,并沉积于电极上,达到收尘目的。其中高压静电模块为特殊设计的双极平板百叶式,具有放电区和集尘区两个分区,相对传统的静电过滤网或蜂窝式电子空气净化器的净化效率最高。其主要原理是利用静电吸附颗粒物和吸附了细菌微生物的气溶胶,并击穿杀死通过电场的细菌和病毒。传统行业中的高压静电净化技术常见的清洗维护方式是机械振打、超声波振打或人工将设备取下来用水来冲洗。其中振打方式通过振打两极装置,使粘附在其上的粉尘被抖落,落入下部灰斗经排灰装置排出机外,传统的清洗维护方式会存在二次扬尘,而人工清洗由存在后期人工维护成本高以及维护时间长工作效率低等问题。对于多个待清洗面以一定间距排列的形式构成整体,现有技术中往往是对整体进行淋洗,无法做到每次彻底清洁每一个待清洗面,则一定会存在积尘积累问题,待积累到一定程度,即必须拆卸下来人工彻底清洗,即持续积尘又无法避免人工维护。
技术实现思路
根据本申请的又一个方面,提供了一种阵列式喷嘴平面清洗装置,该阵列式喷嘴平面清洗装置应用于平面清洗领域,避免了机械和超声振打导致的二次扬尘,不需要人工清洗和人工维护,每次清洗均能彻底清洁待清洗面,恢复洁净状态,提高了清洗效果和效率、降低了清洗成本、避免了人工,该阵列式喷嘴平面清洗装置可以持续地同时保持多个待清洁表面的洁净,同时对每个平面进行喷射清洗,所有喷嘴固定,可靠性更高、故障率更低,是高效率对多个平面同时清洗的有效方案。该阵列式喷嘴平面清洗装置包括包括固定设置的清洗喷嘴,每个所述清洗喷嘴具有至少一个出液口,每个待清洗平面至少具有一个所述出液口。本申请中,所述待清洗表面或所述待清洗平面为需要清洗的表面。对于一个平板,根据具体情况其可能需要单面清洗或双面清洗,当该平板需要双面清洗时,一个平板具有两个待清洗表面。优选地,任一个所述清洗喷嘴的出液口的出液端与其最接近的一个所述待清洗平面之间的距离为1mm~120mm。优选地,任一个所述清洗喷嘴的出液口的出液端与其最接近的一个所述待清洗平面之间的距离为1mm~100mm。优选地,所述每个清洗喷嘴具有一个或两个出液口,所述出液口的形状为狭缝。优选地,所述阵列式喷嘴平面清洗装置中所有清洗喷嘴的出液口的狭缝相互平行;在清洗状态下,所述出液口的狭缝与所述待清洗平面平行。通常情况下待清洗表面为平面,即平板状,则对应的本申请技术方案的所述清洗喷嘴的出液口的狭缝为直线状,该直线状出液口的狭缝上各处均与所述平板状清洗表面的距离一致,通过线型出液口的喷射,对整个平面完整均匀冲刷以实现面清洗。本申请中,所述出液口的狭缝与所述待清洗平面平行,不限于绝对完全平行,是指在工程设计或装配工艺中平行是优选方案,容许存在一定的偏离度;或者在产品的装配中以平行方式装配,但容许装配误差。只要喷嘴喷出的清洗液可以覆盖整个待清洗区域均可实现本申请的技术效果。优选地,所述出液口的狭缝宽度为0.1mm~2mm。进一步优选地,所述出液口的狭缝宽度范围上限选自2mm、1.8mm、1.5mm、1.2mm、1mm、0.9mm、0.8mm;所述出液口的狭缝宽度范围下限选自0.1mm、0.2mm、0.3mm、0.4mm、0.5mm、0.8mm、0.9mm、1mm。更进一步优选地,所述出液口的狭缝宽度为0.3mm~1mm。优选地,所述清洗喷嘴包括导流部,所述导流部位于出液口的出液端下部,所述导流部与所述待清洗面之间的角度为5°~90°。进一步优选地,所述导流部与所述待清洗面之间的角度范围上限选自90°、89°、85°、80°、75°、70°、60°、50°、45°、40°、30°;所述导流部与所述待清洗面之间的角度范围下限选自5°、10°、15°、20°、30°、40°、45°、50°、60°、70°。进一步优选地,所述清洗喷嘴包括导流部,所述导流部位于出液口的出液端下部,所述导流部与所述待清洗面之间的角度为10°~60°。本申请采用优化的出液喷射角度,使得所述清洗喷嘴喷射出来的清洗液能够切向喷射到待清洗表面上,有效的防止清洗液喷溅,因此能够高效地冲刷待清洗面,再利用清洗液的冲击力,能够高效地将待清洗面上的积尘完全清洗干净,即可以实现每次清洗均能彻底清洁待清洗面,恢复洁净状态。由于每次清洗都可以恢复洁净状态,没有积尘的累加问题,因此可以实现持续性的免维护。再结合智能化控制系统和/或自定义周期性清洗,能够实现智能自清洗且免维护。优选地,所述清洗喷嘴包括导流部,所述导流部位于出液口的出液端,所述导流部与待清洗面的距离大于1mm。进一步优选地,所述清洗喷嘴包括导流部,所述导流部位于出液口的出液端,所述导流部与待清洗面的距离为1mm~5mm。在产品实际应用中,导流部与待清洗面相邻之间的距离D的取值直接影响到导流部喷液方向与待清洗面之间的角度设计,所采用的设计标准是确保喷射出来的清洗液能够切向喷射到待清洗面上,有效的防止清洗液喷溅,既能高效清洗且避免喷溅清洗液的干扰和二次污染,又节省了清洗液。优选地,所述清洗喷嘴脉冲喷射清洗液对所述待清洗平面冲刷清洗。采用脉冲喷射的方式,清洗效果优于连续喷射且更节省清洗液。进一步优选地,所述脉冲喷射压力≥0.01Mpa。更进一步优选地,所述脉冲喷射压力为0.01Mpa~1Mpa。进一步优选地,所述脉冲喷射频率≥2次/分钟。更进一步优选地,脉冲喷射频率为2次/分钟~120次/分钟。更进一步优选地,所述脉冲喷射压力为0.01Mpa~10Mpa。再进一步优选地,所述脉冲喷射压力为0.02Mpa~0.2Mpa。更进一步优选地,所述脉冲喷射频率为2次/分钟~120次/分钟。再进一步优选地,所述脉冲喷射频率为2次/分钟~30次/分钟。作为一个优选的方案,所述出液口伸入相邻且相对的两个待清洗平面之间的间隙。所述清洗喷嘴的出液口伸入相邻且相对的两个待清洗平面之间的间隙,由于所述出液口距离所述待清洗平面的上端较近且高度差较小,则所述出液口的出液角度更大以配合所述清洗喷嘴与所述待清洗平面之间的位置关系且能够获得更好的冲刷清洗效果。作为一个优选的方案,所述出液口的位置高于所述待清洗平面的顶端。本申请一个优选的实施方式中,一个所述清洗喷嘴可以具有一个出液口,向一个所述待清洗表面冲刷清洗。本申请一个优选的实施方式中,由于待清洗表面往往为多个等间距排列,因此一个所述清洗喷嘴可以在左右两侧各具有一个出液口即可实现同时对其左右两侧的待清洗表面进行清洗的效果,可以进一步整合装置、减小设备及降低成本。作为一个优选的方案,所述清洗喷嘴包括两侧相对设置的第一出液口和第二出液口,所述第一出液口和第二出液口的出液端分别设置有控制喷液方向的第一导流部和第二导流部,所述第一导流部和第二导流部分别与所述清洗喷嘴两侧的所述待清洗平面之间的角度一致。所述第一导流部和第二导流部直接的底部可以为平底或者根据加工方式和本文档来自技高网...
阵列式喷嘴平面清洗装置和自清洗免维护静电净化系统

【技术保护点】
1.一种阵列式喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述阵列式喷嘴平面清洗装置包括固定设置的清洗喷嘴,每个所述清洗喷嘴具有至少一个出液口,每个待清洗平面至少具有一个所述出液口。

【技术特征摘要】
1.一种阵列式喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述阵列式喷嘴平面清洗装置包括固定设置的清洗喷嘴,每个所述清洗喷嘴具有至少一个出液口,每个待清洗平面至少具有一个所述出液口。2.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置,其特征在于,任一个所述清洗喷嘴的出液口的出液端与其最接近的一个所述待清洗平面之间的距离为1mm~100mm;优选地,所述每个清洗喷嘴具有一个或两个出液口,所述出液口的形状为狭缝;进一步优选地,所述阵列式喷嘴平面清洗装置中所有清洗喷嘴的出液口的狭缝相互平行;在清洗状态下,所述出液口的狭缝与所述待清洗平面平行;进一步优选地,所述出液口的狭缝宽度为0.1mm~2mm;进一步优选地,所述出液口的狭缝宽度为0.3mm~1mm。3.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述清洗喷嘴包括导流部,所述导流部位于出液口的出液端,所述导流部与待清洗面的距离为1mm~5mm;优选地,所述清洗喷嘴包括导流部,所述导流部位于出液口的出液端下部,所述导流部与所述待清洗面之间的角度为10°~60°。4.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述清洗喷嘴脉冲喷射清洗液对所述待清洗平面冲刷清洗;优选地,所述脉冲喷射压力≥0.01Mpa,脉冲喷射频率≥2次/分钟。5.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述出液口伸入相邻且相对的两个待清洗平面之间的间隙;或者,所述出液口的位置高于所述待清洗平面的顶端。6.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述清洗喷嘴包括两侧相对设置的第一出液口和第二出液口,所述第一出液口和第二出液口的出液端分别设置有控制喷液方向的第一导流部和第二导流部,所述第一导流部和第二导流部分别与所述清洗喷嘴两侧的所述待清洗平面之间的角度一致;优选地,所述相邻两个待清洗平面间具有隔板,所述清洗喷嘴底部、第一出液口和第二出液口之间具有上凹结构,所述上凹结构位于所述隔板上方,所述第一出液口和第二出液口分别伸入所述相邻的两个待清洗平面与其之间的隔板形成的两个间隙内。7.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述阵列式喷嘴平面清洗装置包括进液口、分流管路、导流板;所述进液口与所述分流管路相通,所述分流管路侧面开有分流孔或分流槽,所述分流孔或分流槽朝向所述导...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄谦秦毅任志超
申请(专利权)人:北京淘氪科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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