The invention provides a thin film transistor and its preparation method, an array substrate and a display device, belonging to the technical field of thin film transistors, which can at least partially solve the problems of low on-state current of the existing thin film transistors, low brightness and high power consumption of the display device. The thin film transistor of the invention comprises a substrate and a gate, a gate insulating layer, an active region, an etching barrier layer, a source and a drain arranged sequentially in a direction away from the substrate; and a first through hole and a second through hole are arranged in the etching barrier layer, wherein the first through hole is connected to the top and the first side of the active region and the second through hole is connected to the second through hole. The source contacts the top and the first side of the active region through the first hole, and the drain contacts the top and the second side of the active region through the second hole.
【技术实现步骤摘要】
薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板、显示装置
本专利技术属于薄膜晶体管
,具体涉及一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板、显示装置。
技术介绍
薄膜晶体管(TFT)是显示装置的阵列基板中常用的电子元件,其分为共面型,背沟道刻蚀型、刻蚀阻挡型等形式。如图1所示,在刻蚀阻挡型的薄膜晶体管中,栅极1位于有源区3下方,并通过栅绝缘层2与有源区3隔开,有源区3被刻蚀阻挡层4(ESL,EtchStopLayer)覆盖,源极51和漏极52均分别通过刻蚀阻挡层4中的过孔与有源区3的顶面连接。由于刻蚀阻挡层4可保护有源区3不受源漏极刻蚀液的影响,且能起到阻隔水氧的作用,故刻蚀阻挡型的薄膜晶体管得到了广泛应用。如图1所示,现有刻蚀阻挡型的薄膜晶体管中,栅极1是位于有源区3下方的,故其形成的电场主要影响有源区3下部,进而载流子主要也在有源区3下部产生,即具有较强导电能力的导电沟道(图1中麻点区域)也是位于有源区3下部的;相对的,源极51、漏极52则都是与有源区3的顶面接触的。因此,若源极51、漏极52之间要导通,则电流必须在厚度方向上经过一段弱导电区才能进入导电性能良好的导电沟道,这导致薄膜晶体管的开态电流小,且使用该薄膜晶体管的显示装置亮度低、功耗高。
技术实现思路
本专利技术至少部分解决现有的薄膜晶体管的开态电流小,且会导致显示装置亮度低、功耗高的问题,提供一种开态电流大,且可使显示装置亮度提高、功耗降低的薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板、显示装置。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种薄膜晶体管,包括基底,以及在远离基底的方向上依次设置的栅极、栅绝缘层、有源区、刻蚀阻 ...
【技术保护点】
1.一种薄膜晶体管,包括基底,以及在远离基底的方向上依次设置的栅极、栅绝缘层、有源区、刻蚀阻挡层、源极和漏极;其特征在于,在刻蚀阻挡层中设有第一过孔和第二过孔,其中,第一过孔连通至有源区的顶面和第一侧面,第二过孔连通至有源区的顶面和第二侧面;源极通过第一过孔与有源区的顶面和第一侧面接触,漏极通过第二过孔与有源区的顶面和第二侧面接触。
【技术特征摘要】
1.一种薄膜晶体管,包括基底,以及在远离基底的方向上依次设置的栅极、栅绝缘层、有源区、刻蚀阻挡层、源极和漏极;其特征在于,在刻蚀阻挡层中设有第一过孔和第二过孔,其中,第一过孔连通至有源区的顶面和第一侧面,第二过孔连通至有源区的顶面和第二侧面;源极通过第一过孔与有源区的顶面和第一侧面接触,漏极通过第二过孔与有源区的顶面和第二侧面接触。2.根据权利要求1所述的薄膜晶体管,其特征在于,所述第一侧面和第二侧面为有源区的两个相对侧面。3.根据权利要求1所述的薄膜晶体管,其特征在于,所述有源区由单晶半导体材料构成。4.根据权利要求3所述的薄膜晶体管,其特征在于,所述单晶半导体材料为单晶硅。5.根据权利要求1所述的薄膜晶体管,其特征在于,所述有源区的厚度在20nm~200nm之间。6.一种薄膜晶体管的制备方法,其特征在于,包括...
【专利技术属性】
技术研发人员:苏同上,王东方,成军,王庆贺,闫梁臣,袁广才,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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