The utility model relates to the technical field of silicon wafer processing, in particular to a silicon wafer cleaning and testing device after the production, which comprises a PLC controller, a resistivity tester, an alarm and a slow-pulling trough body with pure water. The upper end of the slow-pulling trough body has an overflow port, and the overflow pipe and the resistance are connected at the overflow port of the slow-pulling trough body. The resistivity tester is used to detect the resistivity of the liquid in the overflow pipe. The PLC controller is respectively connected with the resistivity tester and the alarm signal. The utility model detects the resistivity of the overflowing liquid in the slow-lift trough by placing the silicon wafer into the slow-lift trough with pure water, and then ingeniously uses the resistivity tester to detect the resistivity of the liquid in the slow-lift trough. Whether the silicon wafer has changed, so as to know whether the silicon wafer has been cleaned, to ensure that the surface of the silicon wafer after washing, pickling and re-washing is not residual chemical liquid, effectively avoiding the problem of silicon wafer contamination after subsequent cashmere making and affecting the subsequent process, thereby improving the conversion efficiency of solar cells.
【技术实现步骤摘要】
制绒后硅片清洗检测装置
本技术涉及硅片制绒工艺处理
,尤其是一种制绒后硅片清洗检测装置。
技术介绍
目前太阳能电池制备流程通常为清洗制绒、扩散、刻蚀、去磷硅玻璃、PEVCD、印刷及烧结等,其中,制绒工艺包括上料、预处理工艺、水漂洗、制绒、水洗、酸洗、水洗、慢提拉、烘干及下料;在制绒工艺中硅片经制绒步骤后,需要经过水洗、酸洗(一方面去除硅片表面氧化物,另一方面去除硅片表面的金属离子)及再次水洗后,经过慢提拉脱水,才能烘干进入下道工序,然而现有技术中,制绒后的硅片很难得知其经过水洗、酸洗及再次水洗后硅片表面是否还残留酸或碱等化学药液或金属离子未清洗干净,如果硅片表面有残余的化学药液或金属离子并未冲洗干净,会污染慢提拉槽体,因为制绒后的硅片均会经过慢提拉槽进行脱水,一旦慢提拉槽被污染,那么后续制绒后的硅片都会被污染。硅片表面被污染后,一方面会影响到电池的转换效率,另一方面也会导致电池漏电,影响电池的成品率。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是:为了解决现有技术中无法监控制绒后的硅片经水洗、酸洗及再次水洗后硅片表面是否还残留酸或碱等化学药液的问题,现提供一种制绒后硅片清洗检测装置。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种制绒后硅片清洗检测装置,包括PLC控制器、电阻率测试仪、报警器及装有纯水的慢提拉槽体,所述慢提拉槽体的上端具有溢流口,所述慢提拉槽体的溢流口处连通有溢流管,所述电阻率测试仪用于检测溢流管中液体的电阻率,所述PLC控制器分别与电阻率测试仪及报警器信号连接。优选地,所述报警器为声光报警器。具体地,所述慢提拉槽体的下端连通有进水管,所述进水管上设置 ...
【技术保护点】
1.一种制绒后硅片清洗检测装置,其特征在于:包括PLC控制器(1)、电阻率测试仪(2)、报警器(3)及装有纯水的慢提拉槽体(4),所述慢提拉槽体(4)的上端具有溢流口(4‑1),所述慢提拉槽体(4)的溢流口(4‑1)处连通有溢流管(5),所述电阻率测试仪(2)用于检测溢流管(5)中液体的电阻率,所述PLC控制器(1)分别与电阻率测试仪(2)及报警器(3)信号连接。
【技术特征摘要】
1.一种制绒后硅片清洗检测装置,其特征在于:包括PLC控制器(1)、电阻率测试仪(2)、报警器(3)及装有纯水的慢提拉槽体(4),所述慢提拉槽体(4)的上端具有溢流口(4-1),所述慢提拉槽体(4)的溢流口(4-1)处连通有溢流管(5),所述电阻率测试仪(2)用于检测溢流管(5)中液体的电阻率,所...
【专利技术属性】
技术研发人员:胡琴,吴家宏,张凯胜,姚伟忠,孙铁囤,
申请(专利权)人:常州亿晶光电科技有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏,32
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